JP4598663B2 - 表示装置とその製造方法 - Google Patents
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Description
「日経エレクトロニクス」(2002.6.17発行、67頁から78頁)
バンクの表面に撥液処理を施すと共に、当該バンクで形成される溝の底部に親液処理を施す工程と、
バンクで形成される溝に配線材料インクを滴下する工程と、
配線材料インクを滴下した第1の絶縁基板に乾燥・焼成を施して薄膜配線サブパターンを形成する工程を含む。
好適な構成である。なお、角部に対して、実施例2と同様の構成を加えることもできる。
Claims (9)
- 第1の絶縁基板と第2の絶縁基板を具備し、
前記第1の絶縁基板上には薄膜トランジスタで構成した多数の画素と、配線材料インクの滴下塗布で形成されて前記画素を駆動するための一方の薄膜配線パターンおよび該一方の薄膜配線パターンと交差する他方の薄膜配線パターンを少なくとも有する表示装置であって、
前記一方の薄膜配線パターンは、外部回路からの駆動信号を印加する端子部と、印加された駆動信号を複数の画素に供給する配線部と、該配線部から分岐してそれぞれの薄膜トランジスタを構成する電極部および前記他方の薄膜配線パターンとの交差領域に形成された絞り部とが接続された薄膜配線パターンを有し、
前記端子部、配線部、電極部および絞り部の薄膜配線パターンは同一層で形成され、
前記電極部の幅を有する薄膜配線サブパターンを配線パターンの基準パターンとし、
前記薄膜配線パターンの前記端子部、配線部、電極部と絞り部の幅は、前記端子部が最も広く、次に配線部、そして電極部と絞り部の順で幅が狭く、
前記絞り部の配線パターンは前記薄膜配線サブパターンを1本配置して構成し、
前記端子部と配線部の配線パターンは幅に応じて前記薄膜配線サブパターンを複数本配置して薄膜配線パターンを構成したことを特徴とする表示装置。 - 前記端子部における前記薄膜配線サブパターンの上に絶縁膜を介して積層された端子パターンを有し、
前記端子パターンの幅は前記薄膜配線サブパターンの幅とは異なっており、前記絶縁膜を貫通するスルーホールを通して前記薄膜配線サブパターンと電気的に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 - 前記第1の絶縁基板上に形成した前記一方又は他方の薄膜配線パターンは、その薄膜配線サブパターンの各両側に沿って該薄膜配線サブパターンに接する側壁の間に、当該側壁の間隔で幅が規定された溝を形成するバンクを有し、
前記バンクで形成された溝の幅に応じて前記薄膜配線サブパターン幅が規定されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の表示装置。 - 前記端子部、配線部、および電極部の薄膜配線パターンは、それらに必要とされる配線幅に応じて前記薄膜配線サブパターンの数と配置が設定されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の表示装置。
- 前記第1の絶縁基板の内面に有する前記一方の薄膜配線パターンはゲート配線、前記他方の薄膜配線パターンはデータ配線であり、該一方の薄膜配線パターンの端子部は外部回路からのゲート駆動信号を印加するゲート端子部、前記配線部は印加されたゲート駆動信号を複数の画素を構成する薄膜トランジスタのゲート電極に供給するゲート配線部、前記電極部は前記ゲート配線部から分岐してそれぞれの薄膜トランジスタを構成するゲート電極部、前記絞り部は前記他方の薄膜配線との交差領域であることを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の表示装置。
- 前記第2の絶縁基板の内面には対向電極と複数色のカラーフィルタを有し、前記第1の絶縁基板との間に液晶層を有することを特徴とする請求項1乃至5の何れかに記載の表示装置。
- 第1の絶縁基板と第2の絶縁基板を具備し、
前記第1の絶縁基板上には薄膜トランジスタで構成した多数の画素と、配線材料インクの滴下塗布で形成されて前記画素を駆動するための一方の薄膜配線パターンおよび該一方の薄膜配線パターンと交差する他方の薄膜配線パターンを少なくとも有し、
前記一方の薄膜配線パターンは、外部回路から駆動信号を印加する端子部と、印加された駆動信号を前記画素を構成する薄膜トランジスタに供給する配線部と、配線部から分岐してそれぞれの薄膜トランジスタを構成する電極部と、前記他方の薄膜配線との交差領域に形成された絞り部とを接続した薄膜配線パターンを有し、
前記端子部、配線部、電極部、および絞り部の薄膜配線パターンは同一層で形成され、
前記電極部の幅を有する薄膜配線サブパターンを配線パターンの基準パターンとし、
前記薄膜配線パターンの前記端子部、配線部、電極部および絞り部の幅は、前記端子部が最も広く、次に配線部、そして電極部および絞り部の順で狭く形成され、
前記端子部、配線部の配線パターンは、それぞれに必要とされる配線の幅に応じて前記薄膜配線サブパターンを1本又は複数本配置して薄膜配線パターンを構成してなる表示装置の製造方法であって、
前記第1の絶縁基板上に前記一方の薄膜配線サブパターンの幅を規制する幅をもつ溝を形成するバンクを形成する工程と、
前記バンクの表面に撥液処理を施すと共に、当該バンクで形成される溝の底部に親液処理を施す工程と、
前記バンクで形成される溝に配線材料インクを滴下する工程と、
配線材料インクを滴下した前記第1の絶縁基板に乾燥・焼成を施して前記薄膜配線サブパターンを形成する工程を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記薄膜配線パターンのうち、前記配線部の薄膜配線パターンは2以上の平行な溝に配線材料インクを滴下して薄膜配線サブパターンを形成することを特徴とする請求項7に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第2の絶縁基板の内面に対向電極と複数色のカラーフィルタを形成し、前記第1の絶縁基板との間に液晶層を封入する工程を含むことを特徴とする請求項7又は8に記載の表示装置の製造方法。
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