JP4537540B2 - 発光素子のボンディング装置及びその方法 - Google Patents
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Description
本発明は、発光素子として例えばレーザダイオードを基板にマウントする際に、発光素子から出力される光の光軸の傾きを検出してボンディングスル発光素子のボンディング装置、並びにそのボンディング方法に関する。
【従来の技術】
レーザダイオード(以下、LDと略称する)は、電流注入によってレーザ発振が得られるため、電流のON−OFFによってレーザ光を容易に制御できる。そのため、光ファイバ通信や光計測等の分野に広く用いられている。
これらの用途に用いられているため、LDはマウントしている基板(パッケージ等)に対して、LDから出力される光の光軸が正確に所定の方向に設定されている必要がある。そのため、LDを基板にマウントする際のダイボンディングでは、LDをダイボンデイィグすべき基板に対してX方向、Y方向の位置合わせと共に、角度(θ調整)合わせにより光軸方向の調整を行なっている。
このような光軸の調整を行うボンディング装置や方法は、例えば特開平2−114590号や特開平10−235752号に開示されている。
特開平10−235752号に開示されている技術を図8を参照して説明すると、電源81からの電圧を第1のプローブ82(LD85の吸着も兼ねるマウントツール)と第2のプローブ83により、サブマウント84(半導体基板)状のはんだに密接しているLD85に印加して発光させ、LD85から出力される発光パターンを、CCDカメラ86により撮像して、その発光パターンの中心位置を画像処理装置87により求め、次に、LD85とCCDカメラ86との相対距離を距離変化機構88により変化させた後、再びLD85から出力される発光パターンをCCD力メラ86により撮像する。それにより、その発光パターンの中心位置を画像処理装置87により求め、それらの発光パターンのそれぞれの中心位置及びLD85とCCDカメラ86との距離変化量に基づいて演算装置89で演算してLD85の光軸傾き角度を求めている。
【発明が解決しようとする課題】
上述のLDの発光した光軸傾きの検出技術は、LDを吸着しているのプローブの保持面と、LDの発光面とが垂直な場合に適用することができる検出技術である。つまり、LDの発光面とレーザダイオードの電極面とが異なる面(垂直関係等)の場合に用いることができる。
しかしながら、図9に示すように、この第1のプローブ82を発光面91と電極面92とが同一なLD85aに適用した場合、第1のプローブ82に発光点93が隠れてしまい、発光点93やそれからの発光軸を観察することができないため、LD85aの発光軸の傾きを検出できない。したがって、LD85aを半導体基板に正確にマウントすることが困難である。
本発明はこれらの事情にもとづいてなされたもので、LD等の発光素子を半導体基板に実装するに際し、発光素子の発光面を保持しながら、発光点の位置および発光光軸の傾きを観察して調整できる発光素子の、ボンディング装置及びその方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明による手段によれば、発光素子の発光面を吸着し中空孔を有するマウントツールを具えたボンディングヘッドと、前記マウントツールの中空孔を介して前記発光素子からの光を受光しZ軸方向に移動自在な受光手段と、この受光手段での受光結果にもとづいて前記発光素子の光軸の傾きを検出する光軸傾き検出手段を具備することを特徴とする発光素子のボンディング装置である。
また請求項2の発明による手段によれば、前記マウントツールは、発光素子に電流を印加可能とする電極を具えることを特徴とする発光素子のボンディング装置である。
また請求項3の発明による手段によれば、発光素子の発光面をマウントツールで吸着して半導体基板にマウントする発光素子のボンディング方法において、
前記半導体基板に前記発光素子をはんだを介してマウントする際に、前記発光素子を発光させ、その光を前記マウントツールの中空孔を介して受光部でZ軸方向の少なくとも2箇所で受光し、それぞれの個所での基準光軸とのずれ量を測定し、その測定結果から前記発光面からの光の光軸傾きを算出する発光素子のボンディング方法である。
【発明の実施の形態】
以下、本発明の発光素子の光軸傾き検出を行なうボンディング装置及びその方法の実施の形態を、図面を参照して説明する。
まず、本発明での処理対象になっている垂直共振器レーザであるLDについて、その概要を説明する。
通常のLDでは、直接遷移型の半導体に電流を注入し、半導体中の電子および正孔の濃度をともに1018cm−2以上に高くすることで、伝導帯と荷電子帯との間に反転分布を形成し、誘導放出によりレーザ利得を発生させている。この状態で、半導体の内部あるいは端面に対向する反射鏡を設けることで共振器を形成してレーザ発振を達成している。
したがって、注入電流を一定の発振開始電流(発振しきい値電流)以上に増加させることによって、レーザ光出力が得られる。反射鏡としては、半導体の割れやすい結晶面(へき開面)がしばしば用いられている。また、高効率で安定なレーザ発振を得るための半導体多層構造としては、ダブルへテロ接合と呼ばれる構造が広く用いられている。
図1は、ダブルへテロ接合構造を用いたLDの模式構造図である。LD10は半導体基板1上にレーザ光を増幅する機能を持つ活性層2を結晶成長させることで作製しており、活性層2の両端面は、へき開面3が形成されている。また、半導体基板1と活性層2の接合側の反対面にはそれぞれ電極4が形成されている。
なお、結晶成長方法としては、一般に用いられている液相成長法、分子線エピタキシ法、又は、有機金属気相成長法等を用いることができる。
ただし、半導体結晶のへき開面3は原子層オーダで平坦な面が必要であるため、レーザ光にとってはきわめて良好な反射鏡として作用するが、製造面からみると、数百μmの大きさの素子に対して、へき開を行う必要があるので、その製造はあまり生産性が高くない。
本発明の処理対象である垂直共振器レーザのLD10aは、それらの事情から、図2に模式構成図を示すように、活性層2aにへき開面の代わりに誘電体や半導体の多層膜をダブルへテロ接合構造の上下に形成し、半導体基板1に対して垂直方向に共振器を形成する構造に形成したものである。また、半導体基板1と活性層2aの接合側の反対面にはそれぞれ電極4が形成されている。
この垂直共振器レーザであるLD10aを用いると、2次元方向(面内)での多数のレーザの集積が可能となることから、光インターコネクション等の用途に用いることもできる。
なお、LD10aの出力は、通常は数〜10数mW、必要な駆動電流は10〜100mA、印加電圧1.5〜3V程度であるが、高出力のものでは10W程度に達するものもある。また、素子の大きさは数百μm程度である。
次に、垂直共振器レーザの製造装置で用いる、本発明の光軸傾き検出方法及びその装置並びにボンディング方法及びその装置について説明する。
図3は、ボンディング装置の斜視図である。基台11の上にはXYテーブル12が設けられており、それぞれX軸モータ13及びY軸モータ14でそれぞれの方向に駆動される。また、Y軸テーブル15上にはZ軸方向へ移動自在出先端にマウントツール16を固定したヘッド17が保持されている。このヘッド17はヘッドZ軸モータ18によりボールねじを介してZ軸方向へ移動する移動板21に係合したθx、θy方向へ移動自在なゴニオステージ22を介してツール保持部25が形成されている。なお、ゴニオステージ22はゴニオステージ用θX軸モータ23およびゴニオステージ用θY軸モータ24により駆動される。
ツール保持部25には、図4に示すようなマウントツール16が保持されている。このマウントツール16は金属等の導電性部材で形成され中空孔28を有するパイプ26であり、その先端がLD10aの吸着部27を形成している。また、側面に中空孔28に連通した真空供給口29が設けられており、この真空供給口29はホース31を介して真空ポンプ等の真空源(不図示)に接続されている。なお、パイプ26の内部の中空孔28はLD10aの発光点の観察孔である。
また、パイプ26の上部にカバーフィルタ32が設けられ、パイプ26の内部から外部への光の漏れを防止している。
また、基台11上のX軸テーブルの前方には、LD10aを配列して収納したトレイ34を載置したXY載置テーブル35が設けられている。このトレイ34の上方には撮像カメラ36がカメラ保持アングル37に保持されて固定されており、トレイ34内のLD10aを撮像している。
XY載置テーブル35の側方には離間して、LD10aがマウントされる半導体基板1を載置する加工ステージ41が配置されている。この加工ステージ41は、LD10aを載置するθzテーブル42を具えており、また、ヒータ43を内蔵している。さらに、加工ステージ41の側方には光軸角度算出ユニット51が配置されている。
この光軸角度算出ユニット51は、CCD受光部52がZ軸方向に移動自在に保持材53に保持され、Z軸駆動装置54により駆動される。このCCD受光部52は、LD10aを吸着するマウントツール16の上方から、そのパイプ26の中空孔28を介してLD10aが観察できる位置に設置されている。
次に、ボンディング装置の動作について説明する。なお、ボンディング装置自体の動作は、通常のボンディング装置と同様な一般的な動作であるので、個々の細かい説明は省略する。
ヘッド17がXY載置テーブル35方向に移動して、XY載置テーブル35上のLD10aを収納しているトレイ34の上方から下降して、トレイ34の中からマウントツール16でLD10aを吸着して上昇する。なお、トレイ34内のLD10aは発光面が上側の状態で載置されている。したがって、マウントツール16は中空孔28の内部にLD10aの発光部が位置し、その周辺の電極を吸着している。
LD10aを吸着したヘッド17は加工テーブル41方向に移動する。この加工テーブル41上には半導体基板1が載置されている。ヘッド17は下降してマウントツール16が吸着しているLD10aを半導体基板1のはんだで形成された所定個所に密接させる。
図5に示すように、その状態で電源56から、LD10aを吸着しその電極(不図示)と導通しているマウントツール16と、半導体基板1を載置して、その電極(不図示)と導通しているθzテーブル42とに、電源56から電圧を印加することでLD10aを発光させる。この発光した光による光軸(発光軸L1)の様子を、マウントツール16の中空孔28を経由して、カバーフィルタ32を透過した光をCCD受光部52で撮像することにより観察する。
この観察は、まず、Aの位置で発光軸L1を観察し、次にCCD受光部52をBの位置まで距離Lだけ下降させて、Bの位置で発光軸L1を観察する。この観察結果で、それぞれの位置でのCCD受光部52の中心軸L2と発光軸L1とのずれを検出し、それにより発光軸L1のずれ角度αを算出する。
つまり、発光軸L1のずれ角度αは、Aの位置でのCCD受光部52の発光軸L1とLD10aからの発光軸L1とのずれ量がaで、Bの位置でのCCD受光部52の中心光軸L2とLD10aからの発光軸L1とのずれ量がbである場合、
α=tan−1(a−b)/L L:AとBとの距離
となる。
発光軸L1のずれ角度αの修正は、図6(a)および(b)に模式図を示すように、発光軸のずれ角度αを算出した後に、図3で示したゴニオステージ22を、ゴニオテージ用θX軸モータ13およびゴニオステージ22用θY軸モータ14により所定量移動させて、はんだ61上でLD10aを吸着保持しているマウントツール16の角度を補正して、はんだ61に対するLD10aの姿勢を制御して補正する。
また、はんだに対してLD10aを角度βだけ傾斜して装着したい場合は、図7(a)および(b)に示すように、CCD受光部の中心軸とLD10aの発光軸とのずれが無い場合や角度βと異なる場合に、はんだに対してLD10aを傾斜(傾斜角β)して装着する場合の例である。
この場合も、図3で示したゴニオステージ22をゴニオテージ用θX軸モータ13およびゴニオステージ22用θY軸モータ14により所定量移動させて、はんだ61上でLD10aを吸着保持しているマウントツール16の角度を設定して、はんだ61に対するLD10aの姿勢を制御して調整を行なう。
なお、LDの光軸修正を伴わない、検査のみを行なう検査装置の場合は、マウントツールに観察孔を設けなくても行なうことができる。その際は、マウントツールの替わりに導通端子を設けて接続して通電し、上述と同様にZ軸方向の2箇所でCCD受光部で受光し、それにより中心軸とのずれ量を測定して、測定結果からLDの光軸の傾きを算出することができる。
以上に述べたように、本発明によれば発光素子の発光面を吸着保持して半導体基板1等にはんだを介して装着する際でも、発光素子の光軸の傾きを正確に算出することができるので、その結果に応じて光軸の傾きを設定値に対して修正することができる。
それにより、発光体素子を半導体基板に対して、光軸の傾きが内容にすることも、所定の角度に傾けてボンディングすることも必要に応じて任意に行なうことができる。
【発明の効果】
本発明によれば、発光素子の発光面を吸着保持して半導体基板等に装着する際でも、発光素子の光軸を正確に設定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ダブルへテロ接合構造を用いたLDの模式構造図。
【図2】垂直共振器レーザのLDの模式構成図。
【図3】本発明のボンディング装置の斜視図。
【図4】本発明のマウントツールの構成図。
【図5】本発明の光軸傾き角度検出の原理の説明図。
【図6】(a)および(b)は、本発明による光軸修正の説明図。
【図7】(a)および(b)は、本発明による光軸修正の説明図。
【図8】従来の光軸傾き検出装置の概要図。
【図9】垂直共振器レーザのLDとマウントツールとの関係説明図。
【符号の説明】
1…半導体基板、4…電極、10…LD、16…マウントツール、28…中空孔、51…光軸角度算出ユニット、52…CCD受光部
Claims (3)
- 発光素子の発光面を吸着し中空孔を有するマウントツールを具えたボンディングヘッドと、前記マウントツールの中空孔を介して前記発光素子からの光を受光しZ軸方向に移動自在な受光手段と、この受光手段での受光結果にもとづいて前記発光素子の光軸の傾きを検出する光軸傾き検出手段を具備することを特徴とする発光素子のボンディング装置。
- 前記マウントツールは、発光素子に電流を印加可能とする電極を具えることを特徴とする請求項1記載の発光素子のボンディング装置。
- 発光素子の発光面をマウントツールで吸着して半導体基板にマウントする発光素子のボンディング方法において、
前記半導体基板に前記発光素子をはんだを介してマウントする際に、前記発光素子を発光させ、その光を前記マウントツールの中空孔を介して受光部でZ軸方向の少なくとも2箇所で受光し、それぞれの個所での基準光軸とのずれ量を測定し、その測定結果から前記発光面からの光の光軸傾きを算出する発光素子のボンディング方法。
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