JP4523352B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
図1に、本発明の第1の実施例における基本構成を示す。本実施例では、被加工試料を載置する被加工試料設置電極に高周波電源が接続され、さらに被加工試料に対面する位置に配置された放電生成用電極に放電生成用高周波電源が接続された装置構成を有する平行平板構造のドライエッチング装置において、前記放電生成用電極に、前記放電生成用高周波電圧の周波数に対して高インピーダンスで、かつ直流的に低抵抗でアースと接続される低周波通過フィルタを挿入した構造を有する。
図5に、本発明の第2の実施例における基本構成を示す。本実施例では、被加工試料を載置する被加工試料設置電極に高周波電源が接続され、さらに被加工試料に対面する位置に配置された放電生成用電極に放電生成用電源が接続された装置構成を有する平行平板構造のドライエッチング装置において、放電生成用電極に、前記放電生成用高周波電圧の周波数に対して高インピーダンスで、かつ直流的に低抵抗でアースと接続される低周波通過フィルタを含む線路に直流電源を直列に挿入した構造を有する。
図7に、本発明の第3の実施例における基本構成を示す。図7の実施例では、図5で示した第2の実施例に対して、プラズマ電位計測手段13と、プラズマ電位計測手段13により検出したプラズマ電位に応じて直流電源12の直流電圧出力を制御する直流電源制御部14を有するプラズマ電位制御手段を有する。
Claims (9)
- 真空容器内にあって、
被加工試料を載置する被加工試料設置手段と、
前記被加工試料設置手段上に載置された前記被加工試料と対面する位置に配置された放電生成用電極と、
前記被加工試料設置手段に高周波電圧を印加するための手段と、
前記放電生成用電極に放電生成用高周波電圧を印加するための手段と、
前記放電生成用電極により導入される放電用高周波との相互作用で所定のガスをプラズマ化するための磁場を生成する磁場生成手段とを有し、
前記放電生成用電極に、前記放電生成用高周波電圧の周波数に対して高インピーダンスで、かつ直流的に低抵抗でアースと接続される低周波通過フィルタを設け、前記放電生成用電極と前記アースとの前記低周波通過フィルタを含めた経路に対し、直流電源およびキャパシタのいずれも直列に接続されていないことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 真空容器内にあって、
被加工試料を載置する被加工試料設置手段と、
前記被加工試料設置手段上に載置された前記被加工試料と対面する位置に配置された放電生成用電極と、
前記被加工試料設置手段に高周波電圧を印加するための手段と、
前記放電生成用電極に放電生成用高周波電圧を印加するための手段と、
前記放電生成用電極により導入される放電用高周波との相互作用で所定のガスをプラズマ化するための磁場を生成する磁場生成手段とを有し、
前記放電生成用電極に、前記放電生成用高周波電圧の周波数に対して高インピーダンスで、かつ直流的に低抵抗でアースと接続される低周波通過フィルタと、前記低周波通過フィルタと前記アースとの間に直列に接続された直流電圧印加手段と、
プラズマ電位を検出し、前記高周波電圧の印加によるプラズマ電位の周期的変化に対応して、前記直流電圧印加手段に印加する電圧を、プラズマ電位の上昇に同期させ、プラズマ電位の上昇を打ち消すように制御するプラズマ電位測定手段を設けてなることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置において、前記低周波通過フィルタが、インダクタンスであることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置において、前記低周波通過フィルタが、前記放電生成用高周波電圧の周波数の1/4波長の長さで構成された特定の特性インピーダンスを有する導体線路であることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置において、
前記低周波通過フィルタが、接地されたインダクタンスと、前記インダクタンスの両端に対接地間で接続されたコンデンサとで構成されることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置において、前記放電生成用高周波電圧の周波数が、50MHz以上500MHz以下であることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置において、
前記被加工試料設置手段に印加される高周波電圧の周波数が、400KHz以上15MHz以下であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置において、
前記磁場発生手段による磁場の向きが、前記放電生成用電極および前記被加工試料設置手段の面に垂直方向の成分を有することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置において、
前記被加工試料に対面する位置に配置された前記放電生成用電極の表面に、導体または半導体材料のいずれか一方を配置してなることを特徴とするプラズマ処理装置。
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