JP4521656B2 - パラキシレンおよびスチレンの同時生成法 - Google Patents

Description

本発明は、主として８ヶの炭素原子を有する芳香族化合物を含む流れから高純度レベルのパラキシレンおよびスチレンを同時生成する方法に関する。

吸着分離による高純度のパラキシレンの生産は、先行技術から公知である。パラキシレンの市場は、拡大しつつあり、その販路は、テレフタル酸、無水フタル酸およびポリエチレンテレフタレートの生産である。極めて高純度のパラキシレンの生産を記述する技術的背景は、本出願人の特許文献１に記載されている。

更に、スチレンの市場も、同じく拡大しつつある。なぜならば、スチレンは、ポリスチレン（ＰＳ）の合成のためのモノマーとして且つアクリロニトリル・ブタジエン・スチレン（ＡＢＳ）およびスチレン・ブタジエン（ＳＢＲ）の合成におけるコポリマーとして使用されるからである。

市場の規格にもとづく高純度（＞９９．８重量％）のスチレンの生産および精製は、多数の特許の対象をなす。これらの大半は、３つの工程からなる方法である：
−エチルベンゼンの調製のためベンゼンによるエチレンのアルキル化工程、
−スチレンへのエチルベンゼンの脱水素工程、
−本質的に純スチレンからなる流れおよび本質的に脱水素ユニット内を循環されるエチルベンゼンからなる流れを生成するため、脱水素ユニットから来る生成物の精製工程。

特許文献２には、アルキル化に使用されるエチレンを、脱水素ユニットにおいてエタンからスチレンとともに同時生成し、次いで、上記エチレンを、蒸留によって分離し、アルキル化ユニットにリサイクルする先行の方法の適用が提示されている。分離段は、蒸留系から構成されている。

特許文献３は、不飽和芳香族化合物の調製のため芳香族アルキルの脱水素を実現できる触媒グループに関する。

実際、脱水素工程およびこの反応を実現できる多種多様な触媒は、良く知られている。吸熱反応である脱水素のエネルギ経費は高額であるので、この脱水素工程をより経済的とするため、多くの研究努力がなされている。即ち、特許文献４（特許文献５に対応）および特許文献６（特許文献７に対応）には、脱水素工程の重要な適用を含むスチレン調製法が開示されている。なぜならば、この脱水素工程は、水蒸気の存在下で操作されるからである。

特許文献４の場合、水蒸気および純水蒸気とともに脱水素反応器に入るエチルベンゼンの混合物を、エチルベンゼンからスチレンを分離するのに役立つ蒸留塔のコンデンサの回収熱によって連続的に加熱し、次いで、脱水素反応の排出液から熱回収を行う。

特許文献５には、３つの脱水素反応器を含む方法が開示してある。この場合、水蒸気は、まず、第１脱水素反応器の入口でエチルベンゼンと混合する前に、２つの後部の反応器の反応排出液を加熱するのに役立つ。スチレンを直接に調製する上記の基本方法に並行して、スチレンまたは他の反応中に生成された副生物としてのエチルベンゼンの回収を記載した若干数の特許が存在する。例えば、特許文献８には、石油精製、石油化学（熱分解ガソリン）または天然ガス処理によって形成される若干の流れに含まれるスチレンの抽出および／または調製および精製の多数の方法が提示されている。上記流れは、直接、スチレンを含むか、誘導される中間生成物、即ち、エチルベンゼンを含む。

記載の精製技術は、多様であり、単なる蒸留、共沸蒸留または抽出蒸留、液・液抽出、化学錯体の生成、膜分離およびこれら技術の複数の組合せを含む。

特許文献８には、特殊なスチレン生産技術が記載されている。この場合、実質的にスチレンを除いてエチルベンゼン、オルトキシレン、メタキシレンおよびパラキシレンを含むＣ８の改質留分からスチレンを調製する方法が対象である。この方法は、下記を含む：
−メタキシレンおよびパラキシレンの一部を含むエチルベンゼン濃度の高い頭部流れおよびオルトキシレンとメタキシレンおよびパラキシレンからなる補足成分を含む後部流れを生成できるスプリッタ（蒸留塔）；
−次いで、エチルベンゼンの少なくとも一部をスチレンに転換できる脱水素ユニットに上記頭部流れを送る；
−次いで、好ましくは水またはスルホレインから選択した溶媒を使用する抽出蒸留塔と、
上記溶媒を回収できるスプリッタ段と、スチレン精製塔とを含むスチレン精製ユニット群に、脱水素ユニットから出た流れを送る。

この特許は、高純度スチレンの生産に注目しているが、パラキシレンの同時生成を全く記載していない。Ｃ８の芳香族炭化水素の投入物からのスチレンの精製を明記する他の特許は、先行技術に提示されている。液・液抽出法は、特に、特許文献９に記載されている。この特許には、例えば、水蒸気分解装置の出口において熱分解ガソリン中の混合物に含まれたキシレン異性体（オルト、メタおよびパラ）およびエチルベンゼンからスチレンを２工程で分離することが記載されている。この場合、第１工程は、直列に配置された（蒸留塔からなる）２つの分溜器を含み、第１分溜器は、頭部からエチルベンゼン、パラキシレンおよびメタキシレンを除去でき、この場合、オルトキシレンおよびスチレンは、底部から引出され、第２分溜器は、炭素原子数が９以上の重い化合物を底部から除去できる。第２工程は、液・液抽出器を含み、使用する溶媒は、スクシノニトリルであり、スクシノニトリルは、スプリッピング工程中に回収される。

抽出蒸留による他のスチレン精製技術は、特許文献１０および特許文献１１に記載されている。上記技術は、抽出剤として何れにせよ錯体系の化合物の使用に依拠する。

エチルベンゼンからのスチレンの分離を記載した特許文献１０について、窒化有機製品（例えば、アジポニトリル、メチルグルタロニトリルまたはニトロベンゼン）を挙げる。

特許文献１２には、エステル（例えば、イソ吉草酸エチル、カプリン酸プロピル、プロピオン酸ブチルまたはギ酸ヘキシル）を使用して抽出蒸留または共沸蒸留によってエチルベンゼンまたはオルトキシレンからスチレンを分離する技術が開示されている。

特許文献１３には、エチルベンゼンの脱水素ユニットから来る流れの各種精製方法が記載されている。この公報には、更に、各種蒸留塔（塔底部、液体分配器）に関する技術的革新が記載されている。この発明にもとづき、塔径を著しく減少できるが、提案の方法の如何に拘わらず、（スチレン／エチルベンゼン／キシレン混合物からベンゼン／トルエン対の分離に役立つ第１複合精製塔に加えて）２つの蒸留塔、概ね、３つの蒸留塔を使用する必要があることに注意すべきである。更に、これらのすべての塔は、スチレンの望ましくない重合を完全に避けるため、真空下で操作される。

特許文献１４および特許文献１５には、それぞれ、ホージャサイト・タイプのゼオライト吸着剤の吸着によるＣ８の芳香族留分からのスチレン分離と、エチルベンゼン８０重量％を得ることができる蒸留工程、エチルベンゼンの脱水素工程および１価の金属カチオンをドーピングしたフォージャサイトの吸着によるスチレン分離工程を含むスチレン調製法とが開示されている。これら２つの特許の場合、高純度のパラキシレンの同時生成は対象ではなく、得られた生成物の品質に関する情報は、全く記載されてない。

従って、先行技術に鑑みて、本出願人の知見によれば、少なくとも９９．７重量％の純度のパラキシレンおよび少なくとも９９．８重量％の純度のスチレンを同時生成できる技術は存在しない。まさにエチルベンゼンの脱水素によってスチレンを調製する場合、パラキシレンの生産ループに入る投入物の中に高頻度でエチルベンゼンが存在することによって、スチレンに先行する中間生成物、即ち、エチルベンゼンが得られる。
欧州特許ＥＰ−Ａ−５３１１９１ 米国特許第６，０３１，１４３号 国際特許ＷＯ９７１８０３４号 米国特許第４，６２８，１３６号 欧州特許第０２２６０６４号 米国特許第４，７７４，３７８号 欧州特許第０２３８４００号 米国特許第５，８７７，３８５号 米国特許第４，０３１，１５３号 米国特許第４，９５９，１２８号 米国特許第４，９６６，６５６号 米国特許第４，９６６，６５６号 米国特許第６，０９６，９４１号 日本特許第０２１３８１３７号 日本特許第０３０２０２２９号

本発明の目的は、パラキシレンの生産ループにスチレン生産を組込むことによって、特に、ベンゼンのアルキル化工程が不要であるのでスチレン調製方法を簡単化できる極めて重要な共働作用を実現する方法を提供することにある。本発明に係る方法によって、更に、キシレン異性化ユニットの運転を最適化でき、エチルベンゼンの送入量を実質的に減少することによってパラキシレン分離装置の運転を容易化できる。

本発明の目的は、Ｃ８の芳香族炭化水素、エチルベンゼンおよびＣ９−Ｃ１０の炭化水素を含む炭化水素を含む投入物（すなわち仕込原料）から極めて高い純度レベルのパラキシレンおよびスチレンを同時生成する新規の方法である（符号Ｃｎは、本質的にｎヶの炭素原子を有する炭化水素を含む留分を表す）。パラキシレンは、少なくとも９９．７重量％の純度で得られ、スチレンは、少なくとも９９．８重量％の純度で得られる。

本方法は、擬似移動床で機能しパラキシレンを抽出できる少なくとも１つのクロマトグラフィ塔または吸着塔の使用を特徴とする。スチレンの抽出は、少なくとも１つの第２クロマトグラフィ塔によって実施できるが、更に、単なる蒸留、共沸蒸留または抽出蒸留、液・液抽出、化学錯体の生成、膜分離、吸着分離およびこれら技術の複数の組合せから選択した他の技術によっても実施できる。

以降の説明において、有利には、擬似移動床で機能する少なくとも１つのクロマトグラフィ塔によってスチレン分離を実現することを特徴とする方法の変形例を示す。方法の若干の点において流れに対して実施される類似の操作または操作グループを意味する工程について説明する。本方法を流れまたは生成物の流動順序で行われる各工程について記載し、パラキシレンの抽出を行う擬似移動床による吸着塔を意味する第１吸着分離塔およびスチレンの抽出を行う擬似移動床による吸着塔を意味する第２吸着分離塔について説明する。簡単に云えば、以降の説明において、第１分離塔および第２分離塔について説明する。

より一般的には、本発明は、キシレン、エチルベンゼン及びＣ９−Ｃ１０の炭化水素を含む投入物から高純度のパラキシレン及びスチレンを同時生成する方法において、
− キシレン分離を可能にする、蒸留塔（２）の中で実施される投入物（１）の蒸留段階（１）であって、該蒸留塔からメタキシレン、パラキシレン、エチルベンゼンの大部分とオルトキシレンの少なくとも一部分を含む流れを頭部で抜取り、底部ではこの蒸留塔からＣ９−Ｃ１０の炭化水素及びオルトキシレンの残留部分を含有する流れ（４）を抜取る段階；
− パラキシレン、エチルベンゼン、メタキシレン及びオルトキシレンに対する異なる選択性をもち、好ましくは閉ループ状に相互連結された複数の吸着剤床を収納する擬似移動床の形で機能する少なくとも１つの第１の吸着塔（６）の中で、頭部流れ（３）を吸着させる段階であって、前記吸着塔（６）には、少なくとも４つの機能ゾーンすなわち、脱着剤（５）の注入とエキストラクト（７ａ）の採取の間に含まれるパラキシレン脱着ゾーン１、エキストラクト（７ａ）の採取点と吸着投入物（３）の注入の間に含まれるエチルベンゼン、オルトキシレン及びメタキシレンの脱着ゾーン２、吸着投入物（３）の注入とラフィネート（７ｂ）の抜取りの間に含まれるパラキシレンの吸着ゾーン３及び、ラフィネート（７ｂ）の抜取りと脱着剤（５）の注入の間に含まれたゾーン４が含まれている段階；
− 少なくとも１基の蒸留塔（８ａ）内で実施されるエキストラクト（７ａ）の蒸留段階であって、該蒸留塔（８ａ）から、純粋な好ましくは少なくとも９９．７重量％の純度のパラキシレン（９ａ）を抜取り、かつ該塔から、第１の吸着塔内へその少なくとも一部分が再循環される脱着剤を抜取る段階；
− 少なくとも１基の蒸留塔（８ｂ）内でのラフィネート（７ｂ）の蒸留段階であって、該蒸留塔から、一方では第１の吸着塔内で少なくともその一部分が再循環される脱着剤そして他方ではメタキシレン、オルトキシレン、及びエチルベンゼンを含有する蒸留されたラフィネート（９ｂ）を抜取る段階；
− 少なくとも１つの脱水素ゾーン（１０）内で実施され、導入されたエチルベンゼンの少なくとも５０重量％がその間にスチレンに変換される、エチルベンゼンを含有する蒸留済みラフィネートをスチレン、メタキシレン、オルトキシレン、未変換エチルベンゼン及び副産物を含有する排出液へ脱水素する段階；
− スチレン、エチルベンゼン、メタキシレン及びオルトキシレンの大部分を含有する混合物（１８）を生成すべく、少なくとも１基の蒸留塔内の副産物を除去する少なくとも１つの段階；
− 混合物（１８）の分離段階であって、この段階の出口で、少なくとも９９．８重量％のスチレンを含有する第１の流れ（２３ａ）及び、メタキシレン及びオルトキシレンを主に含有する第２の流れ（２３ｂ）を抜取る段階；
− 少なくとも１つの異性化ゾーン内で、好ましくは液相で第２の流れ（２３ｂ）を異性化する段階であって、投入物の蒸留塔（２）の上流側へ再循環されるパラキシレン（２５）、オルトキシレン及びメタキシレンが回収される段階、
を連続的に含んで成る方法に関する。

本発明は図面を参照することでさらに良く理解できるものと思われる。

本発明は、図１上に提示されている概略図に従って以下の段階を連続的に含み、キシレン、エチルベンゼン及びＣ９−Ｃ１０の炭化水素を含む投入物からパラキシレン及びスチレンを同時生成する方法に関する：
− キシレン分離を可能にする、蒸留塔（２）の中で実施される投入物（１）の蒸留段階（１）であって、該蒸留塔からメタキシレン、パラキシレン、エチルベンゼンの大部分とオルトキシレンの少なくとも一部分を含む流れを頭部で抜取り、底部ではこの蒸留塔からＣ９−Ｃ１０の炭化水素及びオルトキシレンの残留部分を含有する流れ（４）を抜取る段階；
− パラキシレン、エチルベンゼン、メタキシレン及びオルトキシレンに対する異なる選択性をもち、好ましくは閉ループ状に相互連結された複数の吸着剤床を収納する擬似移動床の形で機能する少なくとも１つの第１の吸着塔（６）の中で実施される、頭部混合物（３）の吸着段階であって、前記吸着塔は、一方では吸着投入物を構成する混合物（３）及び脱着剤（５）の注入によって、他方ではパラキシレンを含むエキストラクト及びエチルベンゼン、オルトキシレン及びメタキシレンを含有する少なくとも１つのラフィネート（７ｂ）の抜取りによって画定された少なくとも４つのゾーンを含んでいる段階。パラキシレン脱着ゾーン１は、脱着剤（５）の注入とエキストラクト（７ａ）の採取の間に含まれる。エチルベンゼン、オルトキシレン及びメタキシレンの脱着ゾーン２は、エキストラクト（７ａ）の採取と吸着投入物（３）の注入の間に含まれる。パラキシレン吸着ゾーン３は、投入物（３）の注入とラフィネート（７ｂ）の抜取りの間に含まれる。ゾーン４は、ラフィネート（７ｂ）の抜取りと脱着剤（５）の注入の間に含まれる；
− それぞれ抜取り（７ａ）及び（７ｂ）による供給を受ける２本の蒸留塔（８ａ）及び（８ｂ）を用いて実施され、例えば塔の底部のほぼ全ての脱着剤を除去できるようにする、流れ（７ａ）及び（７ｂ）の分離段階。塔（８ａ）の頭部では、少なくとも９９．７重量％の純度のパラキシレン（９ａ）を抜取り、塔（８ｂ）の頭部では、メタキシレン、オルトキシレン、エチルベンゼン及びわずかなパラキシレンを含有する蒸留済みラフィネートを抜取る。脱着剤（５）は、塔８ａ及び８ｂの底部で回収され、吸着塔（６）内へ戻される；
− 流れ（９ｂ）により導入されたエチルベンゼンの少なくとも５０％、有利には、少なくとも６５重量％がその間にスチレンに変換される、脱水素反応装置内で実施される、エチルベンゼンからスチレンへの脱水素段階；
− 先行する脱水素段階から出た流れ（１１）を処理できるようにする分離段階。流れ（１１）は、大部分のスチレン、エチルベンゼン、メタキシレン、オルトキシレン、極く少量のパラキシレン及びトルエン、ベンゼン、エチレン、エタン、メタン及び水素などの極く少量のその他の副産物を含む。この分離段階は、少なくとも１基の蒸留塔の使用を特徴としている。例えば、熱交換器（１２）の中で流れ（１１）を冷却し、冷却された流れ（１１）を分離装置（１３）の中に送り込み、この分離装置から底部では凝縮性の生成物（１５）、基本的にはスチレン、エチルベンゼン、メタキシレン、パラキシレン及びオルトキシレン（極く少量のベンゼン及びトルエン副産物を伴う）を、頭部では、軽量生成物（１４）（エチレン、エタン、メタン及び水素）が取出される。蒸留塔（１６）の中では、頭部でベンゼン及びトルエンの流れ（１７）を、底部では大部分のスチレン、エチルベンゼン、メタキシレン、オルトキシレン及び極く少量のパラキシレンを含有する流れ（１８）を回収するべく凝縮性の生成物（１５）を分離する。

− スチレン、エチルベンゼン、メタキシレン、オルトキシレン及びパラキシレンに対する異なる選択性をもち、好ましくは閉ループ状に相互連結された複数の吸着剤床を収納する擬似移動床の形で作動する少なくとも１つの第２のクロマトグラフィ塔（２０）の中で実施される、混合物（１８）の分離段階であって、前記塔（２０）が、一方では混合物（１８）及び脱着剤の注入によって、他方では、９９．８％を上回る純度のスチレンを含有するエキストラクト（２１ａ）及びエチルベンゼン、メタキシレン、オルトキシレン、パラキシレン及びスチレンを含有するラフィネート（２１ｂ）の抜取りによって画定されている段階。スチレン脱着の第１ゾーンは、脱着剤（１９）の注入とエキストラクトの採取（２１ａ）の間に含まれる。エチルベンゼン、メタキシレン、オルトキシレン及びパラキシレンの脱着の第２ゾーンは、エキストラクト（２１ａ）の採取と脱着投入物（１８）の注入の間に含まれる。スチレン吸着の第３ゾーンは、投入物（１８）の注入とラフィネート（２１ｂ）の抜取りの間に含まれる。脱着の第４ゾーンは、ラフィネート（２１ｂ）の抜取りと脱着剤（１９）の注入の間に含まれる。

− それぞれ塔（２０）の抜取り（２１ａ）及び（２１ｂ）による供給を受ける２本の蒸留塔（２２ａ）及び（２２ｂ）の中で実施され、例えば塔の底部のほぼ全ての脱着剤（１９）を除去できるようにする、エキストラクト（２１ａ）及びラフィネート（２１ｂ）の蒸留段階。塔（２２ａ）の頭部では、少なくとも９９．８重量％の純度のスチレン（２３ａ）を抜取り、塔（２２ｂ）の頭部では、エチルベンゼン、メタキシレン、オルトキシレン、及びパラキシレンを含有する蒸留済みラフィネート（２３ｂ）を抜取る。脱着剤（１９）は、塔（２１ａ）及び（２１ｂ）の底部で回収され、吸着塔（２０）内に戻される。

− 好ましくは液相で実施される、塔（２２ｂ）から来た流れの異性化ユニット（２４）の中での異性化段階。この段階は、流れ（２３ｂ）内に存在するキシレンをパラキシレンの富化された流れ（２５）へと再度変化させるような形で、流れ（２３ｂ）の供給を受ける。この異性化された流れ（２５）は、投入物の蒸留塔（２）の上流側（又は下流側）へ再循環される。

本発明に従った方法の利点は、以下の通りである：
− 芳香族留分Ｃ８の中にエチルベンゼンが存在していることから、脱水素によりこのエチルベンゼンをスチレンに加工できることでスチレン取得を大幅に簡略化できるようになるという意味で、スチレンの直前の中間体を入手することが可能になる。大部分の方法において、単量体スチレンは、それ自体ベンゼン上のエチレンのアルキル化によって得られるエチルベンゼンから生成されている。

− 流れ（２３ｂ）は基本的にメタキシレン及びオルトキシレンで構成されていることから、有利にも、エチルベンゼンの存在によって必要となる気相での異性化よりもはるかに穏やかな条件下で液相で異性化を実施することができる。実際、エチルベンゼンの量は、異性化投入物の１０重量％を超えず、好ましくは投入物の多くとも５重量％に達するにすぎない。一例として、以下の運転条件が挙げられる（フランス特許ＦＲ２，７９２，６３２号）： ３００℃未満、好ましくは２００〜２６０℃の間に含まれる温度； ４ＭＰａ未満、好ましくは２〜３ＭＰａの間に含まれる圧力、１０ｈ^−１未満、好ましくは２〜４ｈ^−２の間の空間速度、及びＺＳＭ５タイプの触媒。

− 異性化された流れ（２５）はエチルベンゼンをほぼ含まず、一般に、蒸留塔（２）内への合計流入量は６０〜８０重量％である。従って、エチルベンゼンの平均含有量は大幅に低下し、吸着ユニット（６）内での擬似移動床による分離はそれにより容易になる。

− 該方法の供給投入物（１）は、１重量％未満の直鎖状及び分枝状アルカン含有量及び１重量％未満のナフテン含有量そして有利にも０．３重量％未満のナフテン含有量を有することができる。該方法の供給投入物（１）は、一般に５〜１５重量％の間のエチルベンゼンを含有する。この投入物は、Ｃ７及びＣ９からキシレンへのトランスアルキル化ユニットか又はトルエンからベンゼンへの触媒不均化ユニット、又はエチルベンゼンを含有する流体の異性化ユニットに由来し得る。

図２に例示されているもう１つの好ましい実施形態に従うと、場合によっては、脱着剤（５）の注入とラフィネート（７ｂ）の間で第２のラフィネート（７ｃ）を抜取ることにより分離ユニット（６）内で第５のゾーンを使用することができるだろう。このとき前記分離ユニット（６）は、以前に明示した脱着ゾーンのみならず、有利にも、投入物の注入と第１のラフィネートの抜取りの間に含まれるパラキシレンの脱着ゾーン３Ａ、第１のラフィネートの抜取りと第２のラフィネートの抜取りの間に含まれるエチルベンゼンの吸着ゾーン３Ｂ及び第２のラフィネートの抜取りと脱着剤の注入の間に含まれるゾーン４によっても特徴づけられる。

この場合、塔は一般に少なくとも２４段の床を含み、そのうち少なくとも３段はゾーン３Ｂの中にある。

第１のラフィネート（７ｂ）は、このときエチルベンゼンが富化された状態にある。

これは、例えば塔の底部でほぼ全ての脱着剤を除去するべく蒸留塔（８ｂ）内で蒸留される。頭部で抜取られた流れ（９ｂ）はその後、脱水素ユニット（１０）に向かって送られる。前記第２のラフィネート（７ｃ）は、ほぼ全ての脱着剤を除去するべく塔（８ｃ）の中で蒸留され、塔（８ｃ）の頭部で抜取られた流れ（９ｃ）は、エチルベンゼンをほとんど含まない。前記流れ（９ｃ）はその後、異性化ユニット（２４）へと導かれる。

この実施形態により、（分離ユニット（２０）の場合を除いて）下流側に設置されたユニットに対して不活性物として働きかつスチレンの製造及び精製用のユニットのサイズを不要に増大させるメタキシレン及びオルトキシレンの量を実質的に削減することが可能になる。その上、その他のＣ８の芳香族（キシレン及びエチルベンゼン）からのスチレンの分離ユニット（２０）については、メタ及びオルトキシレンの量の減少は、自明の通り、それが分離を容易にし一定の与えられた純度レベルを得るために必要なふるいを減らし、又、同一のふるい数で生産性を増大できるようにするという理由で、１つの利点である。

もう１つの実施形態に従うと、脱水素ユニット（１０）の中に進入する流れ（９ｂ）の中に、例えばベンゼン上へのエチレンのアルキル化ユニットに由来する付加的なエチルベンゼンの入口を設けることができる。

該方法のもう１つの特徴に従うと、塔（６）の中で実施される第１の分離段階で使用される吸着剤はバリウム交換されたゼオライトＸ又は、カリウム交換されたゼオライトＹ又はバリウムとカリウムで交換されたゼオライトＹを含むことができる。

塔（６）内で実施される第１の分離段階のための好ましい脱着剤は、パラジエチルベンゼンである。ただし、混合状態でのトルエン、パラジクロロベンゼン又はジエチルベンゼンといったようなその他の脱着剤も同じく適切である。

本発明のもう１つの特徴においては、塔（６）内で実施される第１の吸着段階における投入物に対する脱着剤の体積比は、０．５〜２．５の間にあり、好ましくは１．４〜１．７の間に含まれることになる。

本発明のもう１つの特徴に従うと、第１の吸着段階は、２０℃〜２５０℃、好ましくは９０℃〜２１０℃、さらに好ましくは１６０℃〜２００℃の間の温度で、選択された運転温度でのキシレンの気泡圧力と２ＭＰａの間の圧力下で運転することができる。

ユニット（１０）で実施される脱水素段階は、エチルベンゼンの脱水素のために使用される従来の触媒で実施できる。米国特許第４，６２８，１３６号及び４，７７４，３７８号で言及されているように、出る排出液（１１）及び／又はその後の蒸留のレベルで回収されるエネルギーを特に取込むことによりエネルギー消費量を減少させることのできる使用が好まれるということを認識した上で、いかなる脱水素反応装置でも使用することができる。

エチルベンゼンの脱水素は、一般に以下の条件で行なわれる：
− 温度： ５８０℃〜６４０℃
− 圧力： ０．０４ＭＰａ〜０．１ＭＰａ
− 空間速度（触媒体積あたりの試薬の体積流量）： １００〜１０００ｈ^−１
− 一例として使用された触媒は、質量％で表わされた以下のような組成をもつ：
− Ｃｒ_２Ｏ_３：８〜２８％
− ＳｎＯ：０．３〜３．１％
− アルカリ性酸化物（例えばカリウム）：０．６〜２．８％
− シリカ：０．１〜２．８％
残りはアルミナで構成されている。

本発明の好ましい実施形態に従うと、蒸留塔（１６）は、スチレンの重合の危険性を制限するため、減圧下、標準的には０．０２５ＭＰａ〜０．０３５ＭＰａ、好ましくは０．０２８ＭＰａ〜０．０３２ＭＰａの間の圧力下で運転される。

該方法のもう１つの特徴に従うと、第２の吸着塔のために吸着による分離方法が使用される場合、第２の塔（２０）内で使用される吸着剤は、ナトリウム、バリウム、カリウム又はリチウムならびにカリウム及び銀で交換されたゼオライトＸ又はＹを含むことができる。この塔は少なくとも１６段の床を収納でき、うち少なくとも５段は第２ゾーン内にある。

塔（２０）内で実施される第２の吸着段階のための好ましい脱着剤は、トルエン、ジエチルベンゼン又はナフタレンならびにそのアルキル化誘導体である。

本発明のもう１つの特徴に従うと、第２の分離段階のために吸着による分離方法が使用される場合、第２の分離段階における投入物に対する脱着剤の体積比は、０．５〜３．０の間でよく、好ましくは１．４〜２．０の間となる。

本発明のもう１つの特徴に従うと、第２の吸着塔を、一般に２０℃〜２００℃、好ましくは５０℃〜１５０℃、さらに好ましくは６０℃〜１００℃の間の温度で、かつ選択された運転温度での混合物の気泡圧力と２ＭＰａの間の圧力下で運転させることができる。この第２の分離段階中、場合によっては、重合抑制剤を付加することができる。

本発明の好ましい実施形態に従うと、第２の吸着段階に由来するラフィネート（２３ｂ）は、分離ユニット（６）における進入投入物の有害な汚染を回避するべく、場合によって存在するスチレンのビニル基を飽和させる目的で蒸留ユニット（２）内に導入される前に穏やかな水素化を受けることができる。前記水素化の実施を望まない場合には、スチレンが底部で出るような形で塔（２）を運転させることができるだろう。

もう１つの変形実施形態は、一定の与えられた投入物について吸着塔のサイズを増大させること、特にゾーン３の中に１つの追加床を導入してより多くのスチレンを吸着させより優れたスチレン収量を得ることから成り得る。このため、この塔のラフィネートはもはやほとんどスチレンを含有しない。

異性化段階は、気相で実施することも可能であるが、エチルベンゼンが一般的には異性化投入物の１０重量％以下、好ましくは５％以下という少ないものであることのため、有利には液相で実施される。

液相での異性化は次の条件で実施することができる（フランス特許第２７９２６３２号）：すなわち、３００℃未満、好ましくは２００〜２６０℃の間の温度、４ＭＰａ未満、好ましくは２〜３ＭＰａの間の圧力、１０ｈ^−１未満、好ましくは２〜４ｈ^−１の間の空間速度。触媒は例えばＺＳＭ５タイプのゼオライト系である。

比較のため、エチルベンゼンを含有する排出物の気相での異性化が次のようなさらに厳しい条件で実施されることを指摘しておきたい（フランス特許第２７９２６３２号を参照）：すなわち、３００℃を超える、好ましくは３６０〜４８０℃の間の温度、２．５ＭＰａ未満、好ましくは０．５〜０．８ＭＰａの間の圧力、１０ｈ^−１未満、好ましくは０．５〜６ｈ^−１の空間速度、１０未満、好ましくは３〜６の間の炭化水素に対する水素のモル比である。

本方法のもう一つの特徴に従うと、蒸留（８ａ）によって脱着剤を事前に取除いた第１の分離塔に由来するエキストラクトを結晶化により精製することができる。この結晶化は、好ましくは、欧州特許第ＥＰ−Ａ−５３１１９１号及びＥＰ−Ａ−８００４９９号に記述されているように、＋１０℃〜−３０℃の間で、単数又は複数の段階で実施されることになる。

結晶化に由来する母液は、このとき、第１の分離ゾーンの擬似移動床吸着塔（６）の供給レベルへ再循環させることが可能である。パラキシレン結晶ケーキの洗浄用溶剤は、擬似移動床吸着塔（６）の供給レベルに再循環させることが可能である。結晶の洗浄用溶剤は、例えば、ｎ−ペンタン、水、精製パラキシレン又はトルエンといった溶剤中から選択される。

本方法のもう一つの特徴に従うと、クロマトグラフィ吸着（又は分離）塔（６）は、低い生産性の９９．７％以上の純度でではなく、高い生産性で５０％以上の純度でパラキシレンを生産することができる。

こうして生産され脱着剤を取り除かれたエキストラクトを、パラキシレンの結晶と１つの母液を送達するために、少なくとも１つの結晶化ゾーンへ送ることができる。パラキシレンの結晶は、母液から分離され、場合によって再懸濁、洗浄及び回収され、母液は少なくとも部分的に吸着塔（６）に再循環される。

結晶化及び母液の分離及びパラキシレンの精製の様々な段階は、例えば該出願人の米国特許第６，１４７，２７２号及び６，１１１，１６１号中に記述されている。

形成された結晶は、適切な洗浄用溶剤によって洗浄することが可能であり、非常に純度の高い生成物が回収され、その結果としてもたらされる不純物を含有する洗浄液は、再懸濁化ゾーン内に再循環させることができる。このため、吸着ユニットから出てくるパラキシレンの対する純度の制約を解除し、９９．７％以上、好ましくは少なくとも９９．９重量％という生成物の最終純度を少なくとも１回の結晶化段階によって確保することにより、吸着ユニットの生産性は最大限になる。

一方、少ない数の吸着床及び少ない割合の溶剤での運転が可能であるために、吸着ユニットの運転コストは最小限になる。実際には、好ましくは多くとも２４段の床で、好ましくは多くとも２０段の床で作業することができる。ゾーン１の中に脱着剤を投入し、多くとも１．７、例えば０．７〜１．５の間、有利には１．０〜１．３の間の投入物に対する体積比で、割合として、投入物をクロマトグラフィ塔のゾーン３に注入することにより、脱着剤の量を最小限にすることも同様に可能である。

本方法のもう１つの特徴に従うと、オルトキシレンの少なくとも１部分を塔の底部で取るような形で、蒸留塔（２）を運転することも可能である。このとき、９８．５％以上の純度のオルトキシレン流れを頭部から、炭素原子９個以上の芳香族及び場合によってオルトキシレンを含有する流れを底部から抜取るような形で、炭素原子９個以上の芳香族及びオルトキシレンを含有するこの流れを蒸留塔に送ることができる。

本発明は、制限的な意味なく示されかつ図１の概略図に適合する以下の例により例示されている。

流れ（１）の組成に異性化に由来する流れ（２５）が追加された組成をもつ投入物が、８個以上の炭素原子を有するほぼ全ての芳香族を除去することを目的として、９０枚のトレーを有する蒸留塔（２）で構成された分離ユニット中に送られる。流れ（３）は次に、擬似向流で作用しかつ以下の通りの内訳の２４段の床を有する吸着塔（６）中に送られる。

ゾーン１に５段、ゾーン２に９段、ゾーン３に７段そしてゾーン４に３段。吸着塔（６）は、次のような運転条件で作動する：すなわち、温度は１７５℃に維持され、再循環ポンプの吸引圧力は１ＭＰａに維持される。使用される吸着剤は、水和ゼオライトＢａＸである。使用される脱着剤は、投入物に対する脱着剤の体積割合１．３で使用されるパラジエチルベンゼンである。

塔（６）よりエキストラクト（７ａ）及びラフィネート（７ｂ）を抜取る。エキストラクト（７ａ）は蒸留塔（８ａ）に送られ、そこから純度９９．８重量％のパラキシレンで構成された流れ（９ａ）が頭部で抜取される。ラフィネート（７ｂ）は蒸留塔（８ｂ）に送られ、そこで７．０６重量％のエチルベンゼンを含有する流れ（９ｂ）が頭部で抜取られる。

このエチルベンゼン流れは、脱水素ユニット（１０）内に送られ、このユニットは、凝縮及び蒸留の後に４．６４重量％のスチレンを含有する流れ（１８）を生成する。

エチレンベンゼンからスチレンへの脱水素ユニットの運転条件は以下の通りである。

− 温度： ６００℃
− 圧力： ０．０８ＭＰａ
− 空間速度（触媒の体積あたりの試薬の体積流量）：３００ｈ^−１
− 使用される触媒は次の重量組成を有している：
− Ｃｒ_２Ｏ_３： １３％
− ＳｎＯ： １．５％
− アルカリ性酸化物（例えばカリウムの）： １％
− シリカ： １％
残りはアルミナで構成されている。

ラフィネート（２３ｂ）の穏やかな水素化の運転条件は以下の通りである。

− 温度： ２０〜２００℃
− 圧力： ０．１〜１ＭＰａ
− 触媒の単位質量あたりの投入物の質量流量：０．１〜１０ｈ^−１
− 触媒のタイプ：少なくとも１つの担体（例えばアルミナ）と元素周期表のＶＩＩＩ群金属の少なくとも１つを含む。

流れ（１８）は、擬似向流で作動しかつ以下の内訳の２０段の床を有する吸着塔（２０）中に送られる。ゾーン１に４段、ゾーン２に７段、ゾーン３に５段そしてゾーン４に４段。吸着塔は、次のような運転条件で作動する。すなわち、温度は１００℃に維持され、再循環ポンプの吸引圧力は７ｂａｒに維持される。使用される吸着剤は、ゼオライトＮａＹである。使用される脱着剤は、投入物に対する脱着剤の体積比率１．６で使用される１，２−ジメチルナフタレンである。

塔（２０）でエキストラクト（２１ａ）及びラフィネート（２１ｂ）を抽出する。エキストラクト（２１ａ）は蒸留ユニット（２２ａ）に送られ、そこで９９．８重量％のスチレンを含有する流れ（２３ａ）が頭部で抜取られる。ラフィネート（２１ｂ）は蒸留ユニット（２２ｂ）に送られ、そこから１０ｈ^−１に等しい空間速度で液相で運転される異性化ユニット中に送られる流れ（２３ｂ）が頭部で抜取られる。温度は２００℃に維持され圧力は２．５ＭＰａに維持される。触媒は、ＺＳＭ５タイプのものである。簡略化された物質収支が下記の表に示されており、この表中流れは、図１の番号と同一の意味を有する番号によって目印が付けられている。各流れの組成は重量パーセント単位で以下の要素から得られる（表１）：
パラキシレン分率 ： ＰＸ
メタキシレン分率 ： ＭＸ
オルトキシレン分率 ： ＯＸ
エチレンベンゼン分率 ： ＥＢ
非芳香族分率 ： ｎｏｎ Ａｒｏ
Ｃ_９＋の芳香族分率 ： Ｃ_９＋
スチレン分率 ： スチレン

本発明は、制限的な意味は無く示されかつ図２の概略図に適合する例２によっても同様に例示されている。下記の表中に見られる流れの数字は、図２中に見られるものと同じの意味を有する。

本発明は、制限的な意味なく示されかつ図２の概略図に適合する以下の例により例示されている。

流れ（１）の組成に異性化に由来する流れ（２５）が追加された組成をもつ投入物が、８個以上の炭素原子を有するほぼ全ての芳香族を除去することを目的として、９０枚のトレーを有する蒸留塔（２）で構成された分離ユニット中に送られる。流れ（３）は次に、擬似向流で作用しかつ以下の通りの内訳の２４段の床を有する吸着塔（６）中に送られる： ゾーン１に５段、ゾーン２に９段、ゾーン３Ａに５段、ゾーン３Ｂに３段そしてゾーン４に２段。吸着塔（６）は、次のような運転条件で作動する：すなわち、温度は１７５℃に維持され、再循環ポンプの吸引圧力は１ＭＰａに維持される。使用される吸着剤は、水和ゼオライトＢａＸである。使用される脱着剤は、投入物に対する脱着剤の体積割合１．５で使用されるパラジエチルベンゼンである。

塔（６）よりエキストラクト（７ａ）、ラフィネート（７ｂ）及び第２のラフィネート（７ｃ）を抜取る。エキストラクト（７ａ）は蒸留塔に送られ、そこから純度９９．８重量％のパラキシレンで構成された流れ（９ａ）が頭部で抜取される。第２のラフィネート（７ｃ）は蒸留塔（８ｃ）に送られ、そこから、異性化（２４）に戻される流れ（９ｃ）が頭部で抜取られる。ラフィネート（７ｂ）は蒸留塔（８ｂ）に送られ、そこで特に７．４２重量％のエチルベンゼンを含有する流れ（９ｂ）が頭部で抜取られる。このエチレンベンゼン流れは、脱水素ユニット（１０）内に送られ、このユニットは（軽量部の分離後に）、４．８８重量％のスチレンを含有する流れ（１８）を生成し、残留分は下表にその濃度が記されているＣ８の芳香族で構成されている。脱水素は実施例１の条件で運転される。

流れ（１８）は、擬似向流で作動しかつ以下の内訳の２０段の床を有する吸着塔（２０）中に送られる。ゾーン１に４段、ゾーン２に７段、ゾーン３に５段そしてゾーン４に４段。吸着塔は、次のような運転条件で作動する。すなわち、温度は１２０℃に維持され、再循環ポンプの吸引圧力は１ＭＰａに維持される。使用される吸着剤は、ゼオライトＮａＹである。使用される脱着剤は、投入物に対する脱着剤の体積比率１．６で使用されるトルエンである。

塔（２０）からエキストラクト（２１ａ）及びラフィネート（２１ｂ）を抽出する。エキストラクト（２１ａ）は蒸留ユニット（２２ａ）に送られ、そこから９９．８重量％のスチレンを含有する流れ（２３ａ）が頭部で抜取られる。ラフィネート（２１ｂ）は蒸留ユニット（２２ｂ）に送られ、そこから以下の条件下で液相で運転される異性化ユニット中に送られる流れ（２３ｂ）が頭部で抜取られる：温度は２００℃に維持され圧力は２．５ＭＰａに維持される。ＶＶＨ＝１０ｈ^−１で、触媒はＺＳＭ５タイプのものである。

パラキシレン分率 ： ＰＸ
メタキシレン分率 ： ＭＸ
オルトキシレン分率 ： ＯＸ
エチレンベンゼン分率 ： ＥＢ
Ｃ_９＋の芳香族分率 ： Ｃ_９＋
スチレン分率 ： スチレン

該方法をその最も一般的な形で表わす概略フローシートである。 第１の分離塔のレベルに新しい運転ゾーンを導入する、全体図の一変形形態を表わすフローシートである。

Claims (23)

1. キシレン、エチルベンゼン及びＣ９−Ｃ１０の炭化水素を含む投入物から高純度のパラキシレン及びスチレンを同時生成する方法において、
   − 蒸留塔（２）の中で実施される、キシレン分離を可能にする投入物（１）の蒸留段階（１）であって、該蒸留塔からメタキシレン、パラキシレン、エチルベンゼンの大部分とオルトキシレンの少なくとも一部分を含む流れを頭部で抜取り、又底部ではこの蒸留塔からＣ９−Ｃ１０の炭化水素及びオルトキシレンの残留部分を含有する流れ（４）を抜取る段階；
   − パラキシレン、エチルベンゼン、メタキシレン及びオルトキシレンに対する異なる選択性をもち、閉ループ状に相互連結された複数の吸着剤床を収納する擬似移動床の形で機能する少なくとも１つの第１の吸着塔（６）の中で、頭部流れ（３）を吸着させる段階であって、前記吸着塔（６）には、少なくとも４つの機能ゾーンすなわち、脱着剤（５）の注入点とエキストラクト（７ａ）の採取点の間に含まれるパラキシレン脱着ゾーン１、エキストラクト（７ａ）の採取点と吸着投入物（３）の注入点の間に含まれるエチルベンゼン、オルトキシレン及びメタキシレンの脱着ゾーン２、吸着投入物（３）の注入点とラフィネート（７ｂ）の抜取り点の間に含まれるパラキシレンの吸着ゾーン３及び、ラフィネート（７ｂ）の抜取り点と脱着剤（５）の注入点の間に含まれたゾーン４が含まれている段階；
   − 少なくとも１基の蒸留塔（８ａ）内で実施されるエキストラクト（７ａ）の蒸留段階であって、該蒸留塔から、一方では少なくとも９９．７重量％の純度のパラキシレン（９ａ）そして他方では、第１の吸着塔内でその少なくとも一部分が再循環される脱着剤を抜取る段階；
   − 少なくとも１基の蒸留塔（８ｂ）内でのラフィネート（７ｂ）の蒸留段階であって、該蒸留塔から、一方では第１の吸着塔内で少なくともその一部分が再循環される脱着剤そして他方ではメタキシレン、オルトキシレン、及びエチルベンゼンを含有する蒸留されたラフィネート（９ｂ）を抜取る段階；
   − 少なくとも１つの脱水素ゾーン（１０）内で実施され、導入されたエチルベンゼンの少なくとも５０重量％がその間にスチレンに変換される、スチレン、メタキシレン、オルトキシレン、未変換エチルベンゼン及び副産物を含有する排出液を得る目的でエチルベンゼンを含有する蒸留済みラフィネートを脱水素する段階；
   − スチレン、エチルベンゼン、メタキシレン及びオルトキシレンの大部分を含有する混合物（１８）を生成するべく少なくとも１基の蒸留塔内の副産物を除去する少なくとも１つの段階；
   − 少なくとも９９．８重量％のスチレンを含有する第１の流れ（２３ａ）及び、メタキシレン及びオルトキシレンを主に含有する第２の流れ（２３ｂ）を生成する、混合物（１８）の分離段階；
   − 少なくとも１つの異性化ゾーン内で、液相で第２の流れ（２３ｂ）をユニット（２４）の中で異性化する段階であって、この段階の終りで、投入物の蒸留塔（２）の上流側へ再循環されるパラキシレン（２５）、オルトキシレン及びメタキシレンが回収される段階、
   を連続的に含んで成る方法。
2. 混合物（１８）の分離段階が、スチレン、エチルベンゼン、メタキシレン及びオルトキシレンに対する異なる選択性をもち、閉ループ状に相互連結された複数の吸着剤床を収納する擬似移動床の形で作動する少なくとも１つの第２の吸着塔（２０）の中で実施され、前記吸着塔（２０）には、少なくとも４つのクロマトグラフィゾーンすなわち、脱着剤（１９）の注入点とエキストラクト（２１ａ）の採取点の間に含まれる第１のスチレン脱着ゾーン；エキストラクト（２１ａ）の採取点と前記混合物（１８）を含む吸着投入物の注入点の間に含まれるエチルベンゼン、メタキシレン及びオルトキシレンの第２の脱着ゾーン；投入物（１８）の注入点とラフィネート（２１ｂ）の抜取り点の間に含まれる第３のスチレン吸着ゾーン；
   及び、ラフィネート（２１ｂ）の抜取り点と脱着剤（１９）の注入点の間に含まれた第４のゾーンが含まれている、請求項１に記載の方法。
3. エキストラクトを蒸留してそこから脱着剤を除去し、ラフィネートを蒸留してそこから脱着剤を除去し、回収された脱着剤は、少なくとも部分的に第２の吸着塔内で回収される、請求項１または２に記載の方法。
4. 第１の吸着塔（６）が５つの機能ゾーンで運転され、この塔からエチルベンゼンが富化された第１のラフィネート（７ｂ）を抜取り、第１のラフィネート（７ｂ）の抜取り点と、脱着剤（５）の注入点の間で第２のラフィネート（７ｃ）を抜取り、このとき前記吸着塔（６）が、第１の吸着塔（６）の前記機能ゾーン１及び２、投入物の注入点と第１のラフィネートの抜取り点の間に含まれたパラキシレンの吸着ゾーン３Ａ、第１のラフィネートの抜取り点と第２のラフィネートの抜取り点の間に含まれたエチルベンゼンの吸着ゾーン３Ｂ、第２のラフィネートの抜取り点と脱着剤の注入点の間に含まれたゾーン４を含むことを特長としている、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
5. 第１のラフィネート（７ｂ）が、ほぼ全ての脱着剤を除去するべく蒸留塔（８ｂ）の中で蒸留され、第１の蒸留済みラフィネート（９ｂ）が次に脱水素ゾーン（１０）内に送られ、第２のラフィネート（７ｃ）はその後、ほぼ全ての脱着剤を除去するべく１基の蒸留塔（８ｃ）内で蒸留され、エチルベンゼンをほぼ含まない状態で回収される第２の蒸留済みラフィネート（９ｃ）が次に異性化ゾーンに導かれる、請求項４に記載の方法。
6. 第１の吸着塔内で使用される吸着剤が、バリウム交換されたゼオライトＸ又は、カリウム交換されたゼオライトＹ又は又バリウムとカリウムで交換されたゼオライトＹである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
7. 第２の吸着塔内で使用される吸着剤がナトリウム又はバリウム又はカリウム又はリチウムならびにカリウム及び銀で交換されたゼオライトＸ又はＹである請求項２〜６のいずれか１項に記載の方法。
8. 第１の吸着塔の脱着剤が、混合状態パラジエチルベンゼン、トルエン、パラジフルオロベンゼン及びジエチルベンゼンから成るグループの中から選択される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
9. 第２の吸着塔の脱着剤が、トルエン、ナフタレン及びそのアルキル化誘導体から成るグループの中から選択されている、請求項２〜８のいずれか１項に記載の方法。
10. 第１の吸着塔についての投入物に対する脱着剤の体積比が０．５〜２．５の間であり、吸着による第２の吸着塔についての投入物に対する脱着剤の体積比が０．５〜３．０の間にある、請求項２〜９のいずれか１項に記載の方法。
11. 第１の吸着段階が、２０℃〜２５０℃の間の温度で、運転温度でのキシレンの気泡圧力と２ＭＰａの間の圧力下で行なわれる、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
12. 第１の吸着段階が、９０℃〜２１０℃の間の温度で、運転温度でのキシレンの気泡圧力と２ＭＰａの間の圧力下で行なわれる、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
13. 第１の吸着段階が、１６０℃〜２００℃の間の温度で、運転温度でのキシレンの気泡圧力と２ＭＰａの間の圧力下で行なわれる、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
14. 第２の吸着塔が、２０℃〜２００℃の間の温度で、運転温度での混合物の気泡圧力と２ＭＰａの間の圧力下で行なわれる、請求項２〜１３のいずれか１項に記載の方法。
15. 第２の吸着塔が、５０℃〜１５０℃の間の温度で、運転温度での混合物の気泡圧力と２ＭＰａの間の圧力下で行なわれる、請求項２〜１４のいずれか１項に記載の方法。
16. 第２の吸着塔が、６０℃〜１００℃の間の温度で、運転温度での混合物の気泡圧力と２ＭＰａの間の圧力下で行なわれる、請求項２〜１５のいずれか１項に記載の方法。
17. 第１の吸着塔が少なくとも２４段の床を含み、そのうち少なくとも３段がゾーン３Ｂ内にある、請求項４〜１６のいずれか１項に記載の方法。
18. 第２の吸着塔が少なくとも１６段床を含み、そのうち少なくとも５段が第２のゾーン内にある、請求項２〜１７のいずれか１項に記載の方法。
19. 留分（９ａ）は、少なくとも５０重量％の純度でパラキシレンが富化されており、パラキシレン結晶及び母液を送り出すため少なくとも１つの結晶化ゾーン内に送られ、結晶は母液から分離され、場合によって再度懸濁させられ、洗浄され、回収され、母液は第１の分離塔内に再循環させられる、請求項１〜１８のいずれか１項に記載の方法。
20. オルトキシレンを含有する留分の少なくとも一部分が塔の底部で抜取られるような形で蒸留塔（２）を運転し、さらに少なくとも９個の炭素原子をもつ芳香族を含む前記留分を蒸留塔に向かって送り、かくして、頭部では少なくとも９８．５重量％の純度のオルトキシレンの流れを、又少なくとも９個の炭素原子をもつ芳香族及び場合によってはオルトキシレンを含有する流れを抜取るようにする、請求項１〜１９のいずれか１項に記載の方法。
21. 混合物（１８）の分離段階が、蒸留、共沸蒸留、抽出蒸留、液−液蒸留、化学的錯体形成、膜分離及びそれらの組合せから成るグループの中から選択された分離技術を使用する、請求項１に記載の方法。
22. 第２の流れ（２３ｂ）がさらにスチレンを含有し、この流れを水素化ゾーン内で水素化し、水素化排出液を回収し異性化ゾーンに送り込む、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の方法。
23. 第２の流れ（２３ｂ）が、多くとも５％のエチルベンゼンを含有する、請求項１〜２２のいずれか１項に記載の方法。

Images