JP4484195B2 - 酸化チタンの製造方法 - Google Patents

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本発明は、酸化チタンの製造方法に関し、さらに詳しくは、アナタース形酸化チタンとルチル形酸化チタンとが混在した酸化チタンの製造方法に関する。
従来から採用されている酸化チタンの製造方法としては、チタン溶液を加水分解するか、あるいはその加水分解物を焼成することが一般的である。そして、ルチル形酸化チタンは四塩化チタン水溶液の加水分解やアナタース形酸化チタンの焼成によって得られる。このようにアナタース形からルチル形への転換(結晶形の変化)は熱処理によって容易に行われ、既に非特許文献1に記載のような方法が提案されている。
西本清一、大谷文章、坂本章、鍵谷勤「硫酸チタン(IV)から調製した酸化チ タン(IV)の光触媒活性」、『日本化学会誌』、246−252(1984)
しかしながら、ルチル形からアナタース形への転換は、これまで、固相反応では不可能であった。固相反応、すなわち、固体粒子が形成されてからの酸化チタンのルチル形からアナタース形への転換が可能となれば、原料選択の自由度が広がるものと期待できる。
また、酸化チタンは光触媒としての機能を有しているが、その機能の発現には通常紫外線が必要である。光触媒としての機能を拡張するため、可視光による機能の発現など種々の検討がなされているが、そのような拡張例の一つとして(例えば、通常の住環境で使用されている蛍光灯での照射下などの)弱紫外線下でも充分に光触媒として機能する酸化チタンが望まれている。
本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決し、固相反応でルチル形酸化チタンからアナタース形酸化チタンへの転換(結晶形の変化)を可能とし、かつ転換後のアナタース形酸化チタンとルチル形酸化チタンとの比率を任意に制御でき、しかも、弱紫外線下でも充分な光触媒活性を発現する酸化チタンの製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、ルチル形酸化チタンをアンモニア雰囲気中で加熱処理して還元することにより、一旦チタンの窒化物と低次酸化チタンとの混合物とした後、再度加熱処理して酸化することによりアナタース形酸化チタンとルチル形酸化チタンとが混在した酸化チタンが得られることを見出し、また、上記アンモニア雰囲気中での加熱処理の前にルチル形酸化チタンにチタン以外のガリウム、インジウム、アルミニウムなどの金属を含む金属成分を添加しておくことにより、アナタース形酸化チタンとルチル形酸化チタンとの比率を任意に制御できることを見出し、それによって、上記課題を解決した。
本発明によれば、固相反応により、ルチル形酸化チタンを出発原料としてアナタース形酸化チタンとルチル形酸化チタンとが混在した酸化チタンが得られる。従って、原料選択の自由度が広がる。また、アンモニア雰囲気中での加熱処理に先立ち、ルチル形酸化チタンにインジウム、アルミニウム、ガリウムなどのチタン以外の金属を含む金属成分を添加しておくことにより、アナタース形酸化チタンとルチル形酸化チタンとの比率を任意に制御することができ、蛍光灯照射下などの弱紫外線下でも優れた光触媒活性を有する酸化チタンが得られ、その酸化チタンを用いることによって、弱紫外線下においても優れた有害物質除去能を有する有害物質除去剤を提供することができる。
以下に、本発明のルチル形酸化チタンからアナタース形酸化チタンとルチル形酸化チタンとが混在した酸化チタンを製造する方法を詳しく説明する。
まず、ルチル形酸化チタンをアンモニア雰囲気中で加熱処理して還元(以下、簡略化して「還元処理」で表す場合がある)することによって、一旦チタンの窒化物と低次酸化チタンとの混合物とする。出発原料となるルチル形酸化チタンの粒子径は、特に限定されるものではないが、上記還元処理の温度を低くできる点で、平均粒子径で0.1μm以下が好ましい。上記還元処理時の条件としては、その還元処理後にチタンの窒化物と低次酸化チタンとの混合物を得ることができさえすれば、特に限定されることはないが、その際の加熱温度としては、700℃以上が好ましい。これは、加熱温度が700℃より低い場合、出発原料であるルチル形酸化チタンがチタンの窒化物と低次酸化チタンとに転換されにくいためであり、この還元処理のための加熱温度は、高くなってもよいが、得られるチタンの窒化物と低次酸化チタンとの混合物に良好な分散性を保たせるためには、1100℃までが適している。
次に、上記還元処理(アンモニア雰囲気中での加熱処理)を行ったチタン化合物を、再度加熱処理して酸化(以下、簡略化して「酸化処理」で表す場合がある)する。この酸化処理は、空気雰囲気中で行うが、その際の加熱温度は500℃以上が好ましい。これは、加熱温度が500℃より低い場合、酸化反応が充分に進まず、チタンの窒化物と低次酸化チタンとが残存するおそれがあるためであり、この酸化処理のための加熱温度は、高くなってもよいが、あまり高くなると、過度のエネルギーを消費する上に、再度ルチル形に転換してしまうおそれがあるため、800℃までが適している。
また、上記還元処理(アンモニア雰囲気中での加熱処理)を行う前のルチル型酸化チタンに、チタン以外の金属成分を添加することにより、得られる酸化チタンのアナタース形とルチル形との比率を任意に制御することができる。添加する金属成分としては、インジウム(In)、アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)などの三価の遷移金属を含むものが効果的で、特にインジウムとアルミニウムを含むものが好ましい。上記金属成分の添加時における形態(化合物)は、特に限定されることはないが、それぞれの金属塩の粉末をそのまま用いることが好ましい。添加後の混合方法としては、一般的な粉体における乾式混合でよい。
金属成分の添加効果の概略について述べると、例えば、金属成分の添加を行わずにアナタース形とルチル形とが混在した酸化チタンを製造した際に、例えば、アナタース率が0.27となる条件で工程を設定した場合、事前にインジウムを10mol%添加することでアナタース率をおおよそ0.1にまで変化させることができ、アルミニウムを5mol%添加することでアナタース率をおおよそ0.9にまで変化させることができ、ガリウムを5mol%添加することでアナタース率をおおよそ0.6にまで変化させることができる。そして、その間の比率も制御可能である。したがって、本発明によって得られるアナタース形とルチル形とが混在した酸化チタンにおいては、アナタース率を、インジウム(In)、アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)の添加量を調節することによって、0.1 〜0.9まで任意に制御することができる。
そして、本発明者らは、本発明の方法によって得られた酸化チタン、特にアナタース率が0.25〜0.7の範囲の酸化チタンが、弱紫外線下において従来の酸化チタンに比べて優れた光触媒活性を示すことを確認した。
本発明の方法によって得られた酸化チタンを用いて有害物質を除去するには、例えば、上記酸化チタンと粘結力を有する無機物質とを混合し、得られた混合物をガラス、建造物の内外壁、道路、フィルター基材などに膜状にして担持させる。そして、それらに光を照射することにより、その表面のNOx 、SOx 、アルデヒド類、アンモニア、アミン、メルカプト類などの有害な気体の除去、あるいは、油、タール、タバコのヤニなどの分解、殺菌などの菌類の殺菌、藻類の防藻などを行うことができる。また、上記酸化チタンをパルプなどの繊維に抄き込んでフィルターとして用いることにより、アルデヒド類、アンモニア、アミン、メルカプト類などによる悪臭の脱臭を行うことができる。
なお、本明細書において、上記酸化チタンを有効成分とする有害物質除去剤とは、上記酸化チタンだけで有害物質除去剤を構成してもよいし、また、上記酸化チタンと他のものとを混合した混合物を有害物質除去剤として用いてもよい、という意味である。
以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はそれらの実施例に限定されるものではない。
実施例1
平均粒子径0.25μmのルチル形酸化チタン粉体0.8gを石英製の反応容器に入れ、アンモニアガス雰囲気中で1000℃で3時間加熱処理して還元した。上記還元処理後の粉末はX線回折からチタンの窒化物であるTi−Nと低次酸化チタンであるTiOとの混合物であることを確認した。その後、空気雰囲気中で600℃で3時間加熱処理して酸化することにより、酸化チタンIを得た。得られた酸化チタンIのアナタース率を後記の表1に示す。
なお、アナタース率は後記の〔アナタース率の測定方法〕によって測定したものである。これは以後の実施例2〜6で製造する酸化チタンII〜VIについても同様である。
実施例2
実施例1の平均粒子径0.25μmのルチル形酸化チタンに代えて、平均粒子径15nmのルチル形酸化チタンを出発原料として用いた以外は、実施例1と同様に処理して、酸化チタンIIを製造した。
実施例3
平均粒子径0.25μmのルチル形酸化チタン粉体3gに、硝酸ガリウムn−水和物(n=7〜9)0.0150g(酸化チタンに対してガリウムとして0.1mol%)を混合した後、石英製の反応容器に入れ、アンモニアガス雰囲気中で1000℃で3時間加熱処理して還元した後、空気雰囲気中で600℃で3時間加熱処理して酸化することにより、酸化チタンIIIを製造した。
実施例4
実施例3において混合する硝酸ガリウムn−水和物(n=7〜9)を0.0150gから0.75g(酸化チタンに対してガリウムとして5mol%)に変更した以外は、実施例3と同様に処理して、酸化チタンIVを製造した。
実施例5
実施例3において混合する硝酸ガリウムn−水和物(n=7〜9)0.0150gを、硝酸インジウム3水和物1.33g(酸化チタンに対してインジウムとして10mol%)に変更した以外は、実施例3と同様に処理して、酸化チタンVを製造した。
実施例6
実施例3において混合する硝酸ガリウムn−水和物(n=7〜9)0.0150gを、硝酸アルミニウム9水和物0.704g(酸化チタンに対してアルミニウムとして5mol%)に変更した以外は、実施例3と同様に処理して、酸化チタンVIを製造した。
上記実施例1〜6で得られた酸化チタンI〜VIについてアナタース率を測定した結果を後記の表1に示す。また、上記のようにして得られた実施例1の酸化チタンI、実施例2の酸化チタンII、実施例4の酸化チタンIVについて、後記のように、弱紫外線下での光触媒活性を調べ、その結果を後記の表2に示す。ただし、表2には、従来技術との比較のため、ルチル形酸化チタンを比較例1、アナタース形酸化チタンを比較例2、ルチル形チタンとアナタース形チタンとの混合物を比較例3として、それらについて弱紫外線下での光触媒活性を調べた結果もあわせて示す。そのため、比較例1〜3の構成を先に示す。
比較例1
実施例1において出発原料として用いた平均粒子径0.25μmのルチル形酸化チタンをそのまま用いて、比較例1とした。
比較例2
平均粒子径0.2μmのアナタース形酸化チタンをそのまま用いて、比較例2とした。
比較例3
実施例1において出発原料として用いた平均粒子径0.25μmのルチル形酸化チタンと、比較例2で用いた平均粒子径0.2μmのアナタース形酸化チタンとを、アナタース率が0.27(実施例1で得た酸化チタンIと同じアナタース率)となるように乾式混合したものを用いて、比較例3とした。
〔アナタース率の測定方法〕
実施例1〜6で得られた酸化チタンのアナタース率の測定には、理学電気社製粉末X線回折測定装置RINT 2000を用いた。分析線はCuKαで、管電圧40kV、管電流30mAとした。測定対象の粉末をガラス製の試料セルに詰め、毎分3°の速度で、2θが25.3〜25.5°範囲に現れるアナタースの最強回折線の高さ(HA)と、2θが27.4〜27.6°の範囲に現れるルチルの最強回折線のピーク高さ(HR)を求めた。それらのピーク高さがそれぞれの結晶の含有量に比例すると仮定し、HA/(HA+HR)をアナタース率とした。その結果を表1に示す。また、表1には比較例1〜3の酸化チタンのアナタース率についても示す。
Figure 0004484195
表1に示す結果から明らかなように、実施例1〜6では、ルチル形酸化チタンを出発原料としてアナタース形酸化チタンとルチル形酸化チタンとが混在した酸化チタンが得られた。また、ガリウム、インジウム、アルミニウムを添加することにより、アナタース率を0.1〜0.9まで制御可能であることがわかる。
〔弱紫外線下での光触媒活性の測定方法〕
以下の(1)〜(5)に示す条件下で対象試料の光触媒活性を測定した。
(1)測定対象試料0.5gを3000mlの東京デォドラント(株)製のにおい袋に入れる。
(2)250ppmに調整したアセトアルデヒドガスを、におい袋に注入する。(3)暗所において15時間放置した後、GASTEC社製のガス検知管にてガス濃度を測定する。
(4)40W蛍光灯により光照射を行う。におい袋に対する紫外線強度は0.03mW/cm2 であった(トプコン社製の紫外線強度計UVR−2による測定値)。
(5)照射から、2時間後、4時間後、8時間後、24時間後の各ガス濃度を測定し、ktx=In(CO/Cx )を用いて、アセトアルデヒドの見かけの減少速度定数k(h-1)を求める。
tx:測定時間
CO:15時間放置後のガス濃度
x :x時間後のガス濃度
得られた弱紫外線下での光触媒活性k(h-1)を表2に示すが、表2には上記光触媒活性の測定の対象となった酸化チタンのアナタース率をあわせて示す。
Figure 0004484195
アセトアルデヒドガスの見かけの減少速度定数は、数値の高い方が光触媒活性の高いことを示すが、表2に示す結果から明らかなように、実施例1〜2および4は、比較例1〜3に比べて、高い値を示しており、実施例1の酸化チタンI、実施例2の酸化チタンIIおよび実施例4の酸化チタンIVが、比較例1のルチル形酸化チタン、比較例2のアナタース形酸化チタンおよび比較例3のルチル形酸化チタンとアナタース形酸化チタンとの混合物より、光触媒活性が優れていることが明らかであった。

Claims (4)

  1. ルチル形酸化チタンを、アンモニア雰囲気中700℃以上(ただし、700℃を除く)で加熱処理して還元することにより、一旦チタンの窒化物と低次酸化チタンとの混合物とした後、再度加熱処理して酸化することを特徴とするアナタース形酸化チタンとルチル形酸化チタンとが混在した酸化チタンの製造方法。
  2. ルチル形酸化チタンにインジウム、アルミニウム、ガリウムより選ばれる少なくとも1種の金属を添加した後、アンモニア雰囲気中で加熱処理して還元することにより、一旦チタンの窒化物と低次酸化チタンとの混合物とした後、再度加熱処理して酸化することを特徴とするアナタース形酸化チタンとルチル形酸化チタンとが混在した酸化チタンの製造方法。
  3. アンモニア雰囲気中での加熱処理時の温度が700℃以上である請求項2記載の酸化チタンの製造方法。
  4. 度加熱処理時の温度が500℃以上である請求項1〜3のいずれかに記載の酸化チタンの製造方法。
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