JP4480926B2 - シリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法及び貼着装置 - Google Patents

シリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法及び貼着装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4480926B2
JP4480926B2 JP2001275527A JP2001275527A JP4480926B2 JP 4480926 B2 JP4480926 B2 JP 4480926B2 JP 2001275527 A JP2001275527 A JP 2001275527A JP 2001275527 A JP2001275527 A JP 2001275527A JP 4480926 B2 JP4480926 B2 JP 4480926B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
silicon wafer
protective film
layer film
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2001275527A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003086660A (ja
Inventor
昌浩 李
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teikoku Taping System Co Ltd
Original Assignee
Teikoku Taping System Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teikoku Taping System Co Ltd filed Critical Teikoku Taping System Co Ltd
Priority to JP2001275527A priority Critical patent/JP4480926B2/ja
Priority to US10/238,882 priority patent/US6773536B2/en
Publication of JP2003086660A publication Critical patent/JP2003086660A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4480926B2 publication Critical patent/JP4480926B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/04Apparatus for manufacture or treatment
    • H10P72/0442Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C63/00Lining or sheathing, i.e. applying preformed layers or sheathings of plastics; Apparatus therefor
    • B29C63/02Lining or sheathing, i.e. applying preformed layers or sheathings of plastics; Apparatus therefor using sheet or web-like material
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/70Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
    • H10P72/74Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W42/00Arrangements for protection of devices
    • H10W42/121Arrangements for protection of devices protecting against mechanical damage
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C63/00Lining or sheathing, i.e. applying preformed layers or sheathings of plastics; Apparatus therefor
    • B29C63/0056Provisional sheathings
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/70Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
    • H10P72/74Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H10P72/7412Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support the auxiliary support including means facilitating the separation of a device or wafer from the auxiliary support
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/10Methods of surface bonding and/or assembly therefor
    • Y10T156/1052Methods of surface bonding and/or assembly therefor with cutting, punching, tearing or severing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/10Methods of surface bonding and/or assembly therefor
    • Y10T156/1052Methods of surface bonding and/or assembly therefor with cutting, punching, tearing or severing
    • Y10T156/108Flash, trim or excess removal
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/12Surface bonding means and/or assembly means with cutting, punching, piercing, severing or tearing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/16Surface bonding means and/or assembly means with bond interfering means [slip sheet, etc. ]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シリコンウエハの表面又は裏面のいずれか一方の面に保護フィルムを貼り付ける貼着方法及びその方法に使用される貼着装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来から、IC、LSI又は超LSIの半導体素子製造過程において、シリコンウエハの表面に保護フィルムを貼り付けてシリコンウエハを保護する工程と、その工程で得られたシリコンウエハの裏面を切削乃至研磨して最終的に得られる半導体素子が所定の厚さになるようにする工程とがあるが、前者の工程においては、特開平10−32179号公報に示すように、シリコンウエハの上に帯状の保護フィルムを一旦貼着した後、シリコンウエハの外周より外方に延出した余分の保護フィルムを切り落とす、いわゆるトリミングが実施されている。
【0003】
ところが、近年電子機器の高集積化に伴って、それに使用される半導体素子の小型化及び軽量化が一層要求されるようになり、前記保護フィルムも薄肉化する必要がでてきた。これは例えば、従来一般に、100μm程度の厚さであった保護フィルムの厚さを15μm程度まで薄肉化するといった要望であった。その結果、この薄肉化された保護フィルムでは、物理的特性、例えば引っ張り強度が小さいため、これを単独でシリコンウエハの表面に宛がって綺麗に貼着することが困難なものとなっていた。
【0004】
そこで、従来の保護フィルムの貼着方法として、図14に示すように、保護フィルム2の表面に補強フィルム3を積層させた2層フィルムH2を、シリコンウエハ1の上方から宛がった後、その2層フィルムH2をシリコンウエハ1の周縁に沿ってレーザビームLでトリミングして、図15に示すように、シリコンウエハ1の表面に2層フィルムH2をまず接合し、次いで、熟練者によって保護フィルム2から補強フィルム3を剥離することにより、図16に示すように、保護フィルム2のみによって上面が保護されたシリコンウエハ1を得ている。
尚、上記方法において、通常、2層フィルムH2の保護フィルム2の裏面にはキャリアフィルム(図示なし)が積層されており、この3層フィルムが、シリコンウエハの近くまで搬送された時点で保護フィルムからキャリアフィルムが剥離されるようになっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述の従来方法では、レーザビームで切断された後のシリコンウエハの保護フィルムから1枚ずつ補強フィルムを剥離する必要があり、この剥離作業が熟練者であっても注意を要する煩雑な作業であることから、シリコンウエハに保護フィルムを貼着する一連の生産性をより一層向上させることが困難なものとなっていた。
以上より本発明は、上記課題を解決するものであり、保護フィルムの表裏面に補強フィルム及びキャリアフィルムを積層してなる帯状の3層フィルムを使用するシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法において、前記保護フィルムをシリコンウエハに貼着する作業の生産性を向上させ得る貼着方法及びその貼着方法に使用される貼着装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明のシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法は、シリコンウエハを保護する保護フィルムの表裏面に補強フィルムとキャリアフィルムとを積層してなる帯状の3層フィルムを使用するシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法であって、先ず、前記3層フィルムから前記キャリアフィルムを分離して2層フィルムとし、次に、前記保護フィルムを該2層フィルムごと前記シリコンウエハの表面に貼着し、その後、該シリコンウエハの表面に貼着された該2層フィルムから前記補強フィルムを剥離して該シリコンウエハの表面に該保護フィルムのみを残し、次いで、該シリコンウエハの周縁に沿って該保護フィルムをトリミング手段によって切断することを特徴とする。
【0007】
本発明の貼着方法によると、保護フィルムに補強フィルムを積層した2層フィルムがシリコンウエハに貼着されるので、保護フィルムを単独で貼着するものに比べ、シリコンウエハに対して保護フィルムを綺麗に貼着することができる。また、シリコンウエハに貼着された2層フィルムのうち補強フィルムを剥離してから、残った保護フィルムがトリミング手段によって切断されるので、保護フィルムから補強フィルムを1枚ずつ剥離する必要はなく、シリコンウエハに対する保護フィルムの貼着作業を効率化することができる。
【0008】
また、前記保護フィルムを前記トリミング手段によって切断した後、残余の切抜きフィルムを回収することができる。これにより、シリコンウエハに対する保護フィルムの貼着作業をより効率化することができる。
【0009】
また、前記2層フィルムを前記シリコンウエハの表面に貼着した後、該2層フィルムを冷却手段によって冷却し、その後、冷却された該2層フィルムから前記補強フィルムを剥離することができる。これにより、2層フィルムから補強フィルムをより容易に剥離することができる。
【0010】
また、前記冷却手段は、前記シリコンウエハに冷却気流を噴射する冷却気流噴射手段であることができる。これにより、2層フィルムを容易に冷却することができる。
【0011】
また、前記トリミング手段は、レーザービームを照射するレーザービーム手段であることができる。これにより、シリコンウエハに貼着された保護フィルムを容易に切断することができる。
【0012】
本発明のシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着装置は、シリコンウエハを保護する保護フィルムの表裏面に補強フィルムとキャリアフィルムとを積層してなる帯状の3層フィルムを使用するシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着装置であって、前記シリコンウエハが載置されるテーブル手段側に前記3層フィルムを供給する供給手段と、該供給手段から供給された該3層フィルムから前記キャリアフィルムを分離して巻き取る分離・巻取り手段と、該キャリアフィルムが分離された2層フィルムを前記シリコンウエハ上に誘導して宛がう宛がい・分離手段と、前記シリコンウエハ上に宛がわれた該2層フィルムを該シリコンウエハ上に押し付けて前記保護フィルムを接合する接合手段と、該シリコンウエハに接合された該2層フィルムから前記補強フィルムを剥離しながら巻き取る剥離手段と、該補強フィルムが剥離された前記保護フィルムを該シリコンウエハの周縁に沿ってトリミングするトリミング手段と、前記保護フィルムがトリミングされて残った切抜きフィルムを巻き取る巻取り手段とを備えることを特徴とする。本発明の貼着装置によると、上述の貼着方法を好適に実現できる。
【0013】
また、前記接合手段によって前記シリコンウエハに接合された前記2層フィルムを冷却する冷却手段を備えることができる。また、前記冷却手段は、前記シリコンウエハに冷却気流を噴射する冷却気流噴射手段であることができる。
【0014】
また、前記宛がい・分離手段、剥離手段及び接合手段は、前記供給手段から送り出された保護フィルムが切抜きフィルムとなって巻取り手段に巻き取られるときに保護フィルムが走行する走行方向に往復動可能になっていることができる。これにより、シリコンウエハ上に接合された2層フィルムから補強フィルムを容易に剥離することができる。
【0015】
また、前記剥離手段は、前記宛がい・分離手段と接合手段との間に設置されていることができる。これにより、シリコンウエハ上に接合された2層フィルムから補強フィルムを容易に剥離することができる。
【0016】
尚、前記宛がい・分離手段(D)は、前記供給手段(B)から送り出された保護フィルムが切抜きフィルム(4)となって巻取り手段(K)に巻き取られるときに保護フィルムが走行する走行方向(X)と直交する方向に回転軸を有する、一対の上下部巻回ローラ(25a、25b)を備えており、宛がい・分離手段が前進するとき前記上下部巻回ローラのうち下部巻回ローラが保護フィルムをシリコンウエハ上に宛がい、同宛がい・分離手段が後退するとき、上部巻回ローラが前記切抜きフィルム(4)をシリコンウエハから剥離するようになっていることができる。
【0017】
また、前記剥離手段(F)は、前記供給手段(B)から送り出された保護フィルム(2)が切抜きフィルム(4)となって巻取り手段(K)に巻き取られるときに保護フィルムが走行する走行方向(X)と直交する方向に回転軸を有する上下部巻回ローラ(27a、27b)を備えており、その下部巻回ローラ(27b)が前記接合手段Eの接合ローラ(24)より上位に設置されていることができる。また、前記接合ローラ(24)は、接合手段Eが前進するとき前記2層フィルムH2を保護フィルム側に押圧しながら保護フィルムをシリコンウエハ(1)に接合させ、後進するとき保護フィルムから補強フィルムを分離させる分離支点となることができいる。さらに、前記保護フィルムとしては、感熱接着性や感光性等を有する樹脂フィルムやポリイミドフィルムなどを挙げることができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
次に、図面を参照して本発明をより具体的に説明する。
本発明に係る装置には、図1に示すように、シリコンウエハ1を載置するテーブル33をその下方から支持するテーブル手段Aと、前記テーブル33の僅か上方に略水平に帯状の保護フィルム2を横断させるための一対の供給手段B及び巻取り手段Kとが設置されている。そして、前記保護フィルム2は前記供給手段Bから繰り出されて前記テーブル手段A上で切抜きフィルム4となって巻取り手段Kに巻き取られる。従って、前記供給手段B、テーブル手段A及び巻取り手段Kを結ぶ方向が同一垂直面において保護フィルムの走行方向Xとなっている。
【0019】
さらに本発明に係る装置において、前記供給手段Bから保護フィルム2がその表裏面に補強フィルム3とキャリアフィルム19を積層した3層フィルムH3として前記巻取り手段K側に繰り出されるが、その3層フィルムH3からキャリアフィルム19を分離して巻き取る分離・巻取り手段Cが設けられている。加えて、前記装置には前記シリコンウエハ1に保護フィルム2を宛がったり、同シリコンウエハ1に接合した保護フィルム2をトリミングした後に残る切抜きフィルム4を分離したりする宛がい・分離手段Dと、前記保護フィルム2の表面に積層された補強フィルム3をから剥離する剥離手段Fと、前記保護フィルム2及び補強フィルム3からなる2層フィルムH2を前記シリコンウエハ1に接合する接合手段Eと、前記シリコンウエハ1に接合された保護フィルム2に所定の切れ目を入れてトリミングするトリミング手段Gとが設置されている。
【0020】
前記テーブル手段Aは、上下動可能な複数本のスライドロッド5と、それらスライドロッド5の先端部に取着された1枚の基板6と、その基板6の中央部に設置された1個の支持部7と、その支持部7に垂直に取り付けられた吸気管8と、その吸気管8の基端部に一体的に設けられた管継手9と、前記基板6の周縁部に支持体10を介して設けられた複数個の均圧室11とから構成されており、前記吸気管8の先端面が前記テーブル33の中央部を貫通してシリコンウエハ1を吸着するようになっている。従って、テーブル手段Aにおいて、図示しないフレームに設けられた伸縮手段、たとえばエアシリンダにより前記スライドロッド5を伸縮させると、テーブル33が上下動可能になり、図示しない減圧発生装置、例えば真空タンクや吸引ポンプにより前記吸気管8内を減圧にするとシリコンウエハ1はテーブル33上で吸着固定される。
【0021】
前記テーブル33は、図2及び図3に示すように、上下面が正方形をなし、中央部に前記吸気管8の先端部を貫通させる透孔部33aを備えた板状体になっており、上面側には半径が異なる複数個の環状スリット12が同心円上に形成されている。そしてテーブル33の上に、半径が異なる種々のシリコンウエハ1を載置すれば、図4に示すように、シリコンウエハ1の外周面1aが前記環状スリット12のいずれかの開口12aを臨むようになっている。
【0022】
前記テーブル2の上面において前記透孔部2a寄りには、図2、図3及び図5に示すように、複数個の環状溝13が同心円状に配置されている。これら環状溝13は連絡路100(図3参照)を介して連絡され、また、環状溝13うち一部のものには、図6に示すように、下方から複数個の噴射孔15が連通している。また、各噴射孔15は、圧空を供給する圧空源(図示せず)に接続されている。そして、上記レーザビーム手段Gによる保護フィルム3を切断する直前に、噴射孔15を介して環状溝13から空気を噴射してシリコンウエハ1を冷却して、積層フィルムH2から補強フィルム4を容易に剥離し得るようになっている。尚、本実施例では、上記圧空源、噴射孔15、連絡路100及び環状溝13等によって冷却手段L、具体的には冷却気流噴射手段が構成されていると言える。
【0023】
前記環状スリット12においてテーブル33の下面寄り部分には、図7及び図8に示すように、所定間隔をおいて環状スリット12の下部を橋絡する橋絡部16が形成されており、曲率半径の相違する複数個の環状スリット12間の境界部17を保持している。前記環状スリット12の半径方向の開口幅は、上方にゆくにつれて絞られており、好ましくは、図4に示すように、開口幅dは上方にゆくにつれて段差状に絞られている。
【0024】
図1、図2及び図7に示すように、テーブル33の下面側に複数個、好ましく4個の均圧室11が配設されており、その底部(あるいは側壁)から前記減圧発生装置に対して可撓性の吸気管(図示せず。)が延びている。また前記均圧室11の上端面は前記テーブル33で塞がれて実質上気密になっているので、均圧室11内の圧力はテーブル33に形成されている環状スリット12に及ぶことになる。従って、前記減圧発生装置を駆動させれば吸気管、均圧室11及び環状スリット12が減圧され、その結果、環状スリット12の開口12aからその上部雰囲気の空気が吸引される。
【0025】
次に供給手段Bについて述べると、この手段は、図1に示すように、ポリエチレンやポリプロピン等の補強フィルム3、保護フィルム2及びポリエチレンテレフタレートのキャリアフィルム19からなる3層フィルムH3が巻かれた供給ドラム20と、その供給ドラム20から3層フィルムH3を引き出すための一対のピンチローラ21、22と、前記供給ドラム20と一対のピンチローラ21、22間に設けられたガイドローラ34とから構成されている。前記ピンチローラ21、22を通過した3層フィルムH3は、図9に示すように、保護フィルム2及び補強フィルム3からなる2層フィルムH2と、キャリアフィルム19とに分離される。なお、前記ピンチローラ21、22及びガイドローラ34は、それらの回転軸(図示なし)が前記走行方向Xに対して直交するように、設置されている(以下において説明する各種のローラも同様に設置されている)。
【0026】
前記分離・巻取り手段Cは、図1に示すように、3層フィルムH3から分離されたキャリアフィルム19を巻き取る巻取りドラム23と、その巻取りドラム23とピンチローラ21、22間において所定間隔をおいて設けられた一対のターンローラ35、36と、それらのターンローラ35、36間においてキャリアフィルム19を上方から押えるためのダンサーローラ37を先端部に有する張力調整装置38とから構成されている。張力調整装置38には前記ダンサーローラ37が上昇するにつれてその上昇力を抑制する弾性体が内蔵されているので、前記キャリアフィルム19は巻取りドラム23に所定の張力で巻き取られる。
【0027】
他方、前記ピンチローラ21、22を通過した2層フィルムH2は、そのまま接合手段Eに送られる。この接合手段Eは、前記走行方向Xに向かって延びるスライド軸32に案内されて、同方向Xに往復動可能に設置されている。そして前記接合手段Eには、前記テーブル33の上に載置されたシリコンウエハ1の上面の高さと略同じ高さ位置に最下位の周面部位を有する接合ローラ24が設けられている。2層フィルムH2は、前記接合ローラ24の周りを僅かに巻回した後、保護フィルム2と補強フィルム3に分離して前者はそのまま略水平に前記宛がい・分離手段Dに誘導されるが、後者は前記宛がい・分離手段Dより幾分高い位置に設置されている剥離手段Fに引き取られる。その結果、保護フィルム2と補強フィルム3は前記接合ローラ24を巻回した後、一時的に分離する。かかる意味において前記接合ローラ24は、保護フィルムから補強フィルムを分離させる分離支点となっている。
【0028】
前記剥離手段Fは、前記走行方向Xに向かって延びるスライド軸32に案内されて同方向Xに往復動可能、かつ前記接合手段Eに隣接して設置されるヘッド部30と、そのヘッド部30の上部に設けられた一対の上下部巻回ローラ27a、27bと、それらを巻回した補強フィルム3が巻き取られる巻取りローラ31と、該上下部巻回ローラ27a、27bと巻取りローラ31との間に設けられたターンローラ39とから構成されている。そして前記下部巻回ローラ27bは前記接合ローラ24より幾分高い位置に設置されているので、接合ローラ24を巻回した2層フィルムH2から補強フィルム3を分離する機能を発揮している。
【0029】
前記宛がい・分離手段Dは、前記剥離手段Fに隣接して設置されているとともに、前記スライド軸32に案内されて同方向Xに往復動可能に設置されている。この宛がい・分離手段Dには一対の上下部巻回ローラ25a、25bと、該上部巻回ローラ25aと同レベルの水平位置に前部巻回ローラ25cが設けられている。そして前記下部巻回ローラ25bの周面のうち最も低い部位は、テーブル手段Aのテーブル33に載置されたシリコンウエハ1の上面と略同じ高さ位置に設定されており、宛がい・分離手段Dが接合手段Eとともに前進する(図1の右側から左側に向かって移動する)とき、下部巻回ローラ25bと接合ローラ24との間に張られている保護フィルム2は、前記シリコンウエハ1上に移動して、シリコンウエハ1を覆うようにそれに宛がわれる。逆に宛がい・分離手段Dが後退するとき切抜きフィルム4をシリコンウエハ1から剥離する。
【0030】
シリコンウエハ1に保護フィルム2が宛がわれると続いて移動してくる接合手段Eの接合ローラ24が保護フィルム2の上に補強フィルム3を接合して2層フィルムH2としながら、その2層フィルムH2をシリコンウエハ1に向かって押圧して接合する。
【0031】
さらに本発明の装置においては前記シリコンウエハ1の上方にトリミング手段、具体的にはレーザビーム手段Gが設置されており、図1に示すように、シリコンウエハ1の表面に帯状の保護フィルム2が接合されると、前記レーザビーム手段Gが駆動して、図10に示すように、保護フィルム2の切れ目28を入れる。このときレーザビーム手段Gはコンピュータ制御によりシリコンウエハ1の外周面に沿って水平方向に移動する。
【0032】
保護フィルム2に環状の切れ目28が入ると、図11に示すように、帯状の保護フィルム2はシリコンウエハ1の外形と略同じ大きさの被切抜き部29を有する切抜きフィルム4に変わる。そこで、前記巻取り手段Kを作動させてその巻取りフィルム4を巻き取る。巻取り手段Kは駆動源で回転する巻取りドラム26と前部巻回ローラ25cとの間に設置されるターンローラ40とから構成されている。なお、前記巻取り手段Kを作動させるときは、前記接合手段E、剥離手段F及び宛がい・分離手段Dを後退させる。
【0033】
次に本発明に係る方法について説明すると、図1に示すように、前記接合手段E、剥離手段F及び宛がい・分離手段Dを配置し、かつそれらの作動を停止した状態で、供給手段Bから3層フィルムH3を繰り出す。そして一対のピンチローラ21、22を僅かに回転させ、それらに3層フィルムH3を挟むとともに3層フィルムH3からキャリアフィルム19を分離して分離・巻取り手段Cに巻取り可能にする。続いて2層フィルムH2を接合ローラ24に巻回させて保護フィルム2と補強フィルム3に分離する。そして保護フィルム2を宛がい・分離手段Dを経由して巻取り手段Kにまで延ばし、その手段に巻取りできるようにする。補強フィルム3を上下部巻回ローラ27a、27bに巻回して巻取りローラ31に巻取り可能にする。
【0034】
上記のように本発明に係る装置を運転できるようにしたら、シリコンウエハ1を予熱してテーブル手段Aのテーブル33の上に載置し、図11に示すように、前記宛がい・分離手段D、剥離手段F及び接合手段Eを前進させる。すると、その過程で宛がい・分離手段Dの下部巻回ローラ25bが保護フィルム2をシリコンウエハ1の上に宛がう。その後から接合手段Eの接合ローラ24が補強フィルム3を保護フィルム2に押さえつけて再度2層フィルムH2を形成しながら、その2層フィルムH2をシリコンウエハ1に圧接する。その結果、2層フィルムH2の下層にある保護フィルム2がシリコンウエハ1に接合する。これらの間、保護フィルム2は補強フィルム3により積層された状態で接合ローラ24と間接的に接触するから、物理的特性の不足が補強フィルム3により補われる。その結果、極めて薄肉化(例えば、15μm程度)された保護フィルム2でも好適に使用することができる。
【0035】
その後、噴射孔15を介して環状溝13からシリコンウエハ1の裏面に向って空気を噴射し、このシリコンウエハ1と共に2層フィルムH2を冷却する。次に、十分に2層フィルムH2が冷却された状態で、図13に示すように、前記剥離手段F及び接合手段Eを後進させる。すると剥離手段Fの上下部巻回ローラ27a、27bも後退するから、接合ローラ24より高い位置に設置されている下部巻回ローラ27bを巻回する補強フィルム3は、保護フィルム2から剥離して、シリコンウエハ1上には保護フィルム2だけが残る。
【0036】
そこで、テーブル手段Aにおいて前記減圧発生装置を駆動させて均圧室11を減圧状態にする。すると、テーブル33上に載置されたシリコンウエハ1の外周部付近の外気が吸引され、その吸気流により前記シリコンウエハ1上の保護フィルム2が冷却される。このような状態下にあるときレーザビーム手段Gを駆動させて、図10に示すように、保護フィルム2にレーザビームLを照射して切れ目28を入れるとともにレーザビーム手段Gのビーム銃(図示なし)をシリコンウエハ1の周面1aに沿って移動させると、保護フィルム2のトリミングが行なわれる。そして、保護フィルム2のうちシリコンウエハ1に接合されないで残った切抜きフィルム4は、幅方向中央部に円形の被切り抜き部29を有しているが、両側縁が連続した帯状物となる。
【0037】
このようにしてシリコンウエハ1の上面に保護フィルム2の貼り付けが終了したら、宛がい・分離手段Dを後退させて、図1に示すように元の位置に戻す。すると分離手段Dの上部・前部巻回ローラ25a、25cが前記切抜きフィルム4をシリコンウエハ1の上方に持ち上げる。次いで供給手段B、分離・巻取り手段C、宛がい・分離手段D、接合手段E、剥離手段F及び巻取り手段Kを駆動させて、保護フィルム2をシリコンウエハ1の直径より僅かに大きい長さだけ、いわゆるコマ送りをすると、本発明に係るシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法の1サイクルが完了すると同時に、従来技術と異なり、シリコンウエハの上に貼着した保護フィルムの上から補強フィルムを1枚ずつ剥離する作業を解消できる。また切抜きフィルム4を補強フィルム3と区別して巻き取って回収できるので、資源のリサイクル負荷を低減できる。
【0038】
尚、本発明においては、前記具体的な実施例に示すものに限られず、目的、用途に応じて本発明の範囲内で種々変更した実施例とすることができる。即ち、シリコンウエハ1の裏面に一時的に保護フィルムを貼着する態様に本発明を適用できる。また接合ローラ24と上下部巻回ローラ27a、27bの設置位置を所定の関係を以って維持する限り、接合手段Eと剥離手段Fのヘッド部30とを一体的に構成することもできる。
【0039】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明法は、シリコンウエハを保護する保護フィルムの表裏面に補強フィルム及びキャリアフィルムがそれぞれ積層された帯状の3層フィルムを使用してシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法において、前記保護フィルムをシリコンウエハに貼着する作業の生産性をより一層向上させることができるという優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る装置の側面図である。
【図2】前記装置に設置されるテーブルの破断斜視図である。
【図3】同じく前記テーブルの上面図である。
【図4】前記テーブルの部分縦断面図である。
【図5】図3におけるV−V矢視断面図である。
【図6】図3におけるVI―VI矢視断面図である。
【図7】前記テーブルの下面図である。
【図8】前記テーブルにおける環状スリットの一部分を展開して示す側断面図である。
【図9】前記装置におけるピンチローラの斜視図である。
【図10】保護フィルムに切れ目が入れられる状態を示す部分斜視図である。
【図11】保護フィルムがトリミングされた状態を示す斜視図である。
【図12】本発明に係る装置の宛がい・分離手段、接合手段及び剥離手段が移動した状態を示す側面図である。
【図13】本発明に係る装置の接合手段及び剥離手段が元の位置に復帰した状態を示す側面図である。
【図14】従来技術のおける保護フィルムのトリミング過程を示す要部斜視図である。
【図15】従来技術において上面に保護フィルム及び補強フィルムが接合された状態を示す斜視図である。
【図16】従来技術において上面に保護フィルムが接合された状態を示す斜視図である。
【符号の説明】
1:シリコンウエハ、2:保護フィルム、3:補強フィルム、4:切抜きフィルム、5:スライドロッド、6:基板、7:支持部、8:吸気管、9:管継手、10:支持体、11:均圧室、12:環状スリット、13:環状溝、14:圧空管、15:導入孔、16:橋絡部、17:境界部、18:吸気管、19:キャリアフィルム、20:供給ドラム、21、22:ピンチローラ、23:巻取りドラム、24:接合ローラ、25a:上部巻回ローラ、25b:下部巻回ローラ、25c:前部巻回ローラ、26:巻取りローラ、27a:上部巻回ローラ、27b:下部巻回ローラ、28:切れ目、29:被切抜き部、30:ヘッド部、31:巻取りローラ、32:スライド軸、33:テーブル、34:ガイドローラ、35:ターンローラ、36:ターンローラ、37:ダンサーローラ、38:張力調整装置、39:ターンローラ、40:ターンローラ、A:テーブル手段、B:供給手段、C:分離・巻取り手段、D:宛がい・分離手段、E:接合手段、F:剥離手段、G:トリミング手段、H2、H3:積層フィルム、L;冷却気流噴射手段、d:開口幅、X:走行方向。

Claims (10)

  1. シリコンウエハ(1)を保護する保護フィルム(2)の表裏面に補強フィルム(3)とキャリアフィルム(19)とを積層してなる帯状の3層フィルム(H3)を使用するシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法であって、
    先ず、前記3層フィルムから前記キャリアフィルムを分離して2層フィルム(H2)とし、次に、前記保護フィルムを該2層フィルムごと前記シリコンウエハの表面に貼着し、その後、該シリコンウエハの表面に貼着された該2層フィルムから前記補強フィルムを剥離して該シリコンウエハの表面に該保護フィルムのみを残し、次いで、該シリコンウエハの周縁に沿って該保護フィルムをトリミング手段(G)によって切断することを特徴とするシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法。
  2. 前記保護フィルム(2)を前記トリミング手段(G)によって切断した後、残余の切抜きフィルム(4)を回収する請求項1記載のシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法。
  3. 前記2層フィルム(H2)を前記シリコンウエハの表面に貼着した後、該2層フィルム(H2)を冷却手段(L)によって冷却し、その後、冷却された該2層フィルムから前記補強フィルムを剥離する請求項1又は2記載のシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法。
  4. 前記冷却手段(L)は、前記シリコンウエハ(1)に冷却気流を噴射する冷却気流噴射手段である請求項3記載のシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法。
  5. 前記トリミング手段(G)は、レーザービームを照射するレーザービーム手段である請求項1乃至4のいずれか一項に記載のシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法。
  6. シリコンウエハ(1)を保護する保護フィルム(2)の表裏面に補強フィルム(3)とキャリアフィルム(19)とを積層してなる帯状の3層フィルム(H3)を使用するシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着装置であって、
    前記シリコンウエハが載置されるテーブル手段(A)側に前記3層フィルムを供給する供給手段(B)と、該供給手段から供給された該3層フィルムから前記キャリアフィルムを分離して巻き取る分離・巻取り手段(C)と、該キャリアフィルムが分離された2層フィルム(H2)を前記シリコンウエハ上に誘導して宛がう宛がい・分離手段(D)と、前記シリコンウエハ上に宛がわれた該2層フィルムを該シリコンウエハ上に押し付けて前記保護フィルムを接合する接合手段(E)と、該シリコンウエハに接合された該2層フィルムから前記補強フィルムを剥離しながら巻き取る剥離手段(F)と、該補強フィルムが剥離された前記保護フィルムを該シリコンウエハの周縁に沿ってトリミングするトリミング手段(G)と、前記保護フィルムがトリミングされて残った切抜きフィルム(4)を巻き取る巻取り手段(K)とを備えることを特徴とするシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着装置。
  7. 前記接合手段(E)によって前記シリコンウエハ(1)に接合された前記2層フィルム(H2)を冷却する冷却手段(L)を備える請求項6記載のシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着装置。
  8. 前記冷却手段(L)は、前記シリコンウエハ(1)に冷却気流を噴射する冷却気流噴射手段である請求項7記載のシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着装置。
  9. 前記宛がい・分離手段(D)、剥離手段(F)及び接合手段(E)は、前記供給手段(B)から送り出された保護フィルム(2)が切抜きフィルム(4)となって巻取り手段(K)に巻き取られるときに保護フィルムが走行する走行方向(X)に往復動可能になっている請求項6乃至8のいずれか一項に記載のシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着装置。
  10. 前記剥離手段(F)は、前記宛がい・分離手段(D)と接合手段(E)との間に設置されている請求項6乃至8のいずれか一項に記載のシリコンウエハに対する保護フィルムの貼着装置。
JP2001275527A 2001-09-11 2001-09-11 シリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法及び貼着装置 Expired - Lifetime JP4480926B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001275527A JP4480926B2 (ja) 2001-09-11 2001-09-11 シリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法及び貼着装置
US10/238,882 US6773536B2 (en) 2001-09-11 2002-09-11 Method and apparatus for bonding protection film onto silicon wafer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001275527A JP4480926B2 (ja) 2001-09-11 2001-09-11 シリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法及び貼着装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003086660A JP2003086660A (ja) 2003-03-20
JP4480926B2 true JP4480926B2 (ja) 2010-06-16

Family

ID=19100378

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001275527A Expired - Lifetime JP4480926B2 (ja) 2001-09-11 2001-09-11 シリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法及び貼着装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6773536B2 (ja)
JP (1) JP4480926B2 (ja)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI332024B (en) * 2000-03-31 2010-10-21 Hitachi Chemical Co Ltd Method for making a semiconductor device
JP4318471B2 (ja) * 2003-03-05 2009-08-26 日東電工株式会社 保護テープの貼付・剥離方法
JP4402964B2 (ja) 2004-01-14 2010-01-20 富士フイルム株式会社 パターン膜形成方法
TW200539357A (en) * 2004-04-28 2005-12-01 Lintec Corp Adhering apparatus and adhering method
JP4689972B2 (ja) * 2004-05-26 2011-06-01 リンテック株式会社 ウエハ処理装置及びウエハ処理方法
JP4540403B2 (ja) * 2004-06-16 2010-09-08 株式会社東京精密 テープ貼付方法およびテープ貼付装置
JP2006272505A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Nitto Denko Corp 保護テープ切断方法およびこれを用いた装置
JP4795772B2 (ja) * 2005-10-24 2011-10-19 リンテック株式会社 シート切断用テーブル及びシート貼付装置
JP4836557B2 (ja) * 2005-11-25 2011-12-14 株式会社東京精密 ダイシングテープ貼付装置およびダイシングテープ貼付方法
JP4953764B2 (ja) * 2005-11-29 2012-06-13 株式会社東京精密 剥離テープ貼付方法および剥離テープ貼付装置
JP4376250B2 (ja) * 2006-06-21 2009-12-02 テイコクテーピングシステム株式会社 多層構造体の形成方法
JP4895766B2 (ja) * 2006-11-14 2012-03-14 日東電工株式会社 半導体ウエハの保護テープ切断方法および保護テープ切断装置
US7641830B2 (en) * 2007-02-09 2010-01-05 Snyang Yu Enterprise Co., Ltd Method of continuously feeding film piece for molding process
JP5113646B2 (ja) * 2008-07-04 2013-01-09 リンテック株式会社 シート貼付装置及び貼付方法
JP4995796B2 (ja) * 2008-09-30 2012-08-08 日東電工株式会社 粘着テープ貼付け方法および粘着テープ貼付け装置
KR101981639B1 (ko) * 2012-11-13 2019-05-27 삼성디스플레이 주식회사 시트 커팅 장치 및 그것을 이용한 시트 커팅 방법
CN104128664B (zh) * 2014-07-11 2016-06-15 德清县宝华氟塑料工贸有限公司 一种台钻辅助碗唇切边装置
EP3026697B1 (de) * 2014-11-28 2020-10-14 Mechatronic Systemtechnik GmbH Schweißvorrichtung zum Anschweißen einer Folie an einem Substrat
TWI685905B (zh) * 2017-07-12 2020-02-21 日商新川股份有限公司 接合裝置和接合方法
CN109228296B (zh) * 2018-08-23 2020-08-21 重庆市嘉凌新科技有限公司 芯片原片贴膜裁剪装置
JP7360812B2 (ja) * 2019-05-17 2023-10-13 リンテック株式会社 シート支持装置およびシート支持方法
CN113371292B (zh) * 2020-03-09 2022-11-11 Oppo(重庆)智能科技有限公司 贴合设备
JP7423066B2 (ja) 2020-09-11 2024-01-29 日本シール株式会社 ローラの製造方法
US12202094B2 (en) * 2021-07-09 2025-01-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. System and method for chemical mechanical polishing pad replacement
CN113814312B (zh) * 2021-11-25 2022-03-15 新恒汇电子股份有限公司 柔性引线框架使用的高精度切筋方法
WO2025047255A1 (ja) * 2023-08-31 2025-03-06 テイコクテーピングシステム株式会社 半導体製造装置及び支持機構

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4075051A (en) * 1976-11-29 1978-02-21 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method of trimming photoresist film
US4188254A (en) * 1978-07-24 1980-02-12 Seal Incorporated Vacuum press
JPH1032179A (ja) * 1996-07-15 1998-02-03 Teikoku T-Pingu Syst Kk シリコンウエハー加工用マスキングシートの切断方法

Also Published As

Publication number Publication date
US6773536B2 (en) 2004-08-10
US20030062116A1 (en) 2003-04-03
JP2003086660A (ja) 2003-03-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4480926B2 (ja) シリコンウエハに対する保護フィルムの貼着方法及び貼着装置
JP3770820B2 (ja) 保護テープの貼付け方法
JP4482243B2 (ja) ダイのピックアップ方法及びピックアップ装置
KR101286393B1 (ko) 전자 부품 실장 장치 및 전자 부품 실장 방법
JP5047838B2 (ja) テープ貼り機
TWI417987B (zh) 黏著帶貼附方法及利用該方法的黏著帶貼附裝置
JP4612453B2 (ja) ウエハへのテープ貼付方法と貼付装置
US20130206331A1 (en) Edge separation equipment and operating method thereof
JP2009158879A (ja) 基板への接着シートの貼付け装置
JP2009158879A5 (ja)
JP5201511B2 (ja) ウエハの保持テーブル
US7118645B2 (en) Method and apparatus for joining protective tape to semiconductor wafer
CN100343970C (zh) 保护带的贴附和分离方法
JP4550510B2 (ja) シート剥離装置及び剥離方法
JP7071455B2 (ja) フィルム切断装置、フィルム切断方法、ウェハラミネーター、並びにウェハのラミネート方法
TWI234800B (en) DAF tape adhering apparatus and DAF tape adhering method
JP4728534B2 (ja) シリコンウエハ保護フィルムのトリミング方法及びトリミング装置
JP2024014233A (ja) 保護シート配設方法、及び保護シート配設装置
JPH11320682A (ja) 真空式ラミネータ装置及びその方法
CN220731467U (zh) 一种晶圆解胶装置
JP2022132971A (ja) ワークとシート材の一体化方法、ワークとシート材の一体化装置、および半導体製品の製造方法
JP5530203B2 (ja) シート貼付装置およびシート貼付方法
CN112440463B (zh) 层膜裁切装置及其方法、晶圆贴膜方法及其贴膜机
KR20030060164A (ko) 프레임에 회로 필름을 라미네이팅 하는 장치 및 방법
JP2005340859A (ja) 保護テープの剥離方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20050606

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080702

TRDD Decision of grant or rejection written
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100225

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100302

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100317

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130326

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4480926

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130326

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160326

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term