JP4460418B2 - シールド体および真空処理装置 - Google Patents
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Description
真空処理装置の処理容器内部に設置される、シールド体であって、
前記処理容器内部の減圧された処理空間に露出される外壁構造と、
前記外壁構造の内部に形成された、前記処理空間と隔絶された内部空間と、
前記内部空間に設置された、前記外壁構造を加熱する加熱手段と、を有し、
前記内部空間は前記真空処理容器の外部に連通し、前記加熱手段はシート状に前記内部空間に延伸するようにして形成されており、
前記加熱手段の一面と前記外壁構造との間に空間が形成されていることを特徴とするシールド体により、また、
請求項2に記載したように、
前記内部空間を含む前記外壁構造の厚さは5mm以下であることを特徴とする請求項1記載のシールド体により、また、
請求項3に記載したように、
前記内部空間には、前記外壁構造を冷却する冷却手段が設置されていることを特徴とする請求項1または2記載のシールド体により、また、
請求項4に記載したように、
前記外壁構造の温度を測定する温度測定手段が設置され、該温度測定手段により測定される温度に対応して前記加熱手段を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項1乃至3のうち、いずれか1項記載のシールド体により、また、
請求項5に記載したように、
前記外壁構造の温度を測定する温度測定手段が設置され、該温度測定手段により測定される温度に対応して前記加熱手段および前記冷却手段を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項3記載のシールド体により、また、
請求項6に記載したように、
処理容器と、
前記処理容器内部の処理空間を排気する排気手段と、
被処理基板を保持する保持台と、
前記処理容器内部に設置されるシールド体と、を有する真空処理装置であって、
前記シールド体は、
前記処理容器内部の減圧された前記処理空間に露出される外壁構造と、
前記外壁構造の内部に形成された、前記処理空間と隔絶された内部空間と、
前記内部空間に設置された、前記外壁構造を加熱する加熱手段と、を有し、
前記内部空間は前記真空処理容器の外部に連通し、前記加熱手段はシート状に前記内部空間に延伸するようにして形成されており、
前記加熱手段の一面と前記外壁構造との間に空間が形成されていることを特徴とする真空処理装置により、また、
請求項7に記載したように、
前記内部空間を含む前記外壁構造の厚さは5mm以下であることを特徴とする請求項6記載の真空処理装置により、また、
請求項8に記載したように、
前記内部空間には、前記外壁構造を冷却する冷却手段が設置されていることを特徴とする請求項6または7記載の真空処理装置により、また、
請求項9に記載したように、
前記外壁構造の温度を測定する温度測定手段が設置され、該温度測定手段により測定される温度に対応して前記加熱手段を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項6乃至8のうち、いずれか1項記載の真空処理装置により、また、
請求項10に記載したように、
前記外壁構造の温度を測定する温度測定手段が設置され、該温度測定手段により測定される温度に対応して前記加熱手段および前記冷却手段を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項8記載の真空処理装置により、また、
請求項11に記載したように、
前記シールド体は前記保持台の周囲を覆うように前記処理容器の内壁に沿って形成されていることを特徴とする請求項6乃至10のうち、いずれか1項記載の真空処理装置により、また、
請求項12に記載したように、
前記シールド体は略円筒形状であることを特徴とする請求項6乃至11のうち、いずれか1項記載の真空処理装置により、また、
請求項13に記載したように、
前記処理容器には、平行平板プラズマによるプラズマ励起手段が設けられていることを特徴とする請求項6乃至12のうち、いずれか1項記載の真空処理装置により、また、
請求項14に記載したように、
前記処理容器には、ラジアルラインスロットアンテナを含むプラズマ励起手段が設けられていることを特徴とする請求項6乃至12のうち、いずれか1項記載の真空処理装置により、解決する。
11 処理容器
11A 処理空間
11B 排気口
12 保持台
13 供給部
13A ガス孔
14 排気手段
15 供給ライン
16,16A 高周波電力
17 カバープレート
18 放射板
18a,18b スロット
19 遅相板
20 ガス供給リング
21 同軸導波管
22 アンテナ本体
30 ラジアルラインスロットアンテナ
100,100A,100B シールド体
101 外壁構造
101A 内部空間
101B 開口部
101C 接続部
102 加熱手段
102A 接続線
103 電源
104 温度測定手段
104A 接続線
105 制御手段
106 冷却手段
106A 接続ライン
Claims (14)
- 真空処理装置の処理容器内部に設置される、シールド体であって、
前記処理容器内部の減圧された処理空間に露出される外壁構造と、
前記外壁構造の内部に形成された、前記処理空間と隔絶された内部空間と、
前記内部空間に設置された、前記外壁構造を加熱する加熱手段と、を有し、
前記内部空間は前記真空処理容器の外部に連通し、前記加熱手段はシート状に前記内部空間に延伸するようにして形成されており、
前記加熱手段の一面と前記外壁構造との間に空間が形成されていることを特徴とするシールド体。 - 前記内部空間を含む前記外壁構造の厚さは5mm以下であることを特徴とする請求項1記載のシールド体。
- 前記内部空間には、前記外壁構造を冷却する冷却手段が設置されていることを特徴とする請求項1または2記載のシールド体。
- 前記外壁構造の温度を測定する温度測定手段が設置され、該温度測定手段により測定される温度に対応して前記加熱手段を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項1乃至3のうち、いずれか1項記載のシールド体。
- 前記外壁構造の温度を測定する温度測定手段が設置され、該温度測定手段により測定される温度に対応して前記加熱手段および前記冷却手段を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項3記載のシールド体。
- 処理容器と、
前記処理容器内部の処理空間を排気する排気手段と、
被処理基板を保持する保持台と、
前記処理容器内部に設置されるシールド体と、を有する真空処理装置であって、
前記シールド体は、
前記処理容器内部の減圧された前記処理空間に露出される外壁構造と、
前記外壁構造の内部に形成された、前記処理空間と隔絶された内部空間と、
前記内部空間に設置された、前記外壁構造を加熱する加熱手段と、を有し、
前記内部空間は前記真空処理容器の外部に連通し、前記加熱手段はシート状に前記内部空間に延伸するようにして形成されており、
前記加熱手段の一面と前記外壁構造との間に空間が形成されていることを特徴とする真空処理装置。 - 前記加熱手段を含む、外壁構造の厚さは5mm以下であることを特徴とする請求項6記載の真空処理装置。
- 前記内部空間には、前記外壁構造を冷却する冷却手段が設置されていることを特徴とする請求項6または7記載の真空処理装置。
- 前記外壁構造の温度を測定する温度測定手段が設置され、該温度測定手段により測定される温度に対応して前記加熱手段を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項6乃至8のうち、いずれか1項記載の真空処理装置。
- 前記外壁構造の温度を測定する温度測定手段が設置され、該温度測定手段により測定される温度に対応して前記加熱手段および前記冷却手段を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項8記載の真空処理装置。
- 前記シールド体は前記保持台の周囲を覆うように前記処理容器の内壁に沿って形成されていることを特徴とする請求項6乃至10のうち、いずれか1項記載の真空処理装置。
- 前記シールド体は略円筒形状であることを特徴とする請求項6乃至11のうち、いずれか1項記載の真空処理装置。
- 前記処理容器には、平行平板プラズマによるプラズマ励起手段が設けられていることを特徴とする請求項6乃至12のうち、いずれか1項記載の真空処理装置。
- 前記処理容器には、ラジアルラインスロットアンテナを含むプラズマ励起手段が設けられていることを特徴とする請求項6乃至12のうち、いずれか1項記載の真空処理装置。
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