JPH09157832A - 防着板およびそれを用いた真空装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 真空装置の内部を汚さずに容易かつ短時間で
超高真空の実現を可能とする防着板およびそれを用いた
真空装置を提供する。 【解決手段】 真空装置の内壁に防着板１を装着させ
る。防着板１は防着板本体１ａに、温媒４を流すための
温媒管２と冷媒５を流すための冷媒管３とを配設して構
成されている。真空装置内を真空状態とするガスの吸引
において、ガスの吸引開始初期に温媒４を流し防着板本
体１ａを加熱する。これにより防着板本体１ａに付着し
たガス分子が取り除かれる。また、その後のガスの吸引
時に冷媒５を流し防着板本体１ａを冷却させる。これに
より真空装置内に残存するガス分子が防着板本体１ａの
表面に捕獲される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空装置内で成
膜，合成等を行う際に真空装置の内壁にガス分子（すな
わち汚れ）が付着することを防止するための防着板およ
びそれを用いた真空装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体基板上に薄膜を作製する際
には、高機能半導体素子を実現する目的等で、１０^-3Ｔ
ｏｒｒ以下の高真空あるいは１０^-7Ｔｏｒｒ以下の超高
真空中で成膜を行うことが要求されている。特に、スパ
ッタ技術ではより高真空側での成膜が検討され、分子線
エピタキシ(Molecular Beam Epitaxy:以下ＭＢＥとい
う）技術では１０^-10 Ｔｏｒｒの超高真空が要求されて
いる。

【０００３】ところが、真空装置内で成膜を繰り返し行
うと、真空装置の内壁にも膜が付着してしまう。指向性
の良いＭＢＥであっても、膜厚の均一性を高めるために
故意にビーム強度の強いところを基板に向けないで成膜
するので、真空容器の内壁にはガス分子が付着し汚れて
くる。この汚れは、高真空、特に、超高真空以上を得よ
うとするときに障害となり、超高真空に到達するまでの
時間が遅くなったり、到達できる真空度自体が低下する
原因となっていた。

【０００４】そのため、従来は、真空装置内に汚れの付
着を防止するための板（防着板）を配設したり、このよ
うな防着板を配設しない場合には、真空装置内にエッチ
ング用のガスを流してプラズマを発生させることにより
真空装置の内壁に付着したガス分子を除去していた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
防着板は単に真空装置の内壁に汚れが付着するのを防止
するのみであり、付着したガス分子を除去する手段を何
ら備えていなかったので、防着板にガス分子が付着して
くると超高真空に到達するまでの時間が遅くなったり、
到達できる真空度自体が低下してしまうという問題があ
った。

【０００６】この場合、真空装置内でエッチング用のガ
スを流してプラズマを発生させることができるときには
これにより付着したガス分子を除去することもできる
が、プラズマの届く範囲には限界があり取り残しが存在
してしまう問題や、防着板や真空装置の内壁がプラズマ
で荒れてしまい超高真空を得るための障害となってしま
うという問題があった。

【０００７】また、真空装置内の温度を上昇させて防着
板を加熱しベーキング（焼き出し）を施すことにより防
着板に吸着したガス分子を除去することもできるが、防
着板は真空中に存在するため熱伝導性が悪く、防着板の
加熱はほとんど熱輻射によることとなり吸着ガス分子の
脱離に長時間を要してしまうという問題があった。

【０００８】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その第１の課題は、温度調節機能を備えることに
より真空装置を汚さずに容易かつ短時間で超高真空の実
現を可能とすることができる防着板を提供することにあ
る。

【０００９】本発明の第２の課題は、温度調節機能を備
えた防着板を用いることにより内部を短時間で容易に超
高真空状態とすることができる真空装置を提供すること
にある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の防着板
は、真空装置の内壁に対するガス分子の付着を防止する
ための防着板であって、真空装置の内壁に装着される防
着板本体と、この防着板本体の温度を調節するための温
度調節手段とを備えたものである。

【００１１】請求項２記載の防着板は、請求項１記載の
防着板において、温度調節手段が、防着板本体の表面に
配設された媒体流通用の配管と、所定の温度に調節され
た媒体を配管内で流通させるための媒体流通手段とを含
むように構成したものである。

【００１２】請求項３記載の防着板は、請求項２記載の
ものにおいて、温度調節手段が、配管として前記媒体流
通手段によって高温に調節された温媒用の配管と、媒体
流通手段によって低温に調節された冷媒用の配管とを備
え、いずれか一方の配管を選択的に使用するように構成
したものである。

【００１３】請求項４記載の防着板は、請求項３記載の
ものにおいて、更に、温媒用の配管に温媒を流す場合に
冷媒用の配管に対して加圧ガスを流入させて冷媒を配管
から除去すると共に、冷媒用の配管に冷媒を流す場合に
温媒用の配管に対して加圧ガスを流入させて温媒を配管
から除去するための加圧手段を備えるように構成したも
のである。

【００１４】請求項５記載の防着板は、請求項４記載の
ものにおいて、ポンプの吸引により温媒および冷媒を除
去するように構成したものである。

【００１５】請求項６記載の防着板は、請求項３記載の
ものにおいて、冷媒用の配管および温媒用の配管それぞ
れが防着板本体に対して固定されると共に、冷媒用配管
および温媒用配管それぞれの両端部に、媒体供給源側の
配管に対して着脱容易な接続手段を備えるように構成し
たものである。

【００１６】請求項７記載の防着板は、請求項１記載の
ものにおいて、温度調節手段は、防着板本体の表面に対
して配設されると共にその表面が絶縁膜で被覆された抵
抗部材と、この抵抗部材に対して通電し前記抵抗部材を
発熱させる通電手段とを含むように構成したものであ
る。

【００１７】請求項８記載の真空装置は、真空容器本体
と、この真空容器本体の内壁面に着脱可能に取り付けら
れる防着板本体と、真空容器本体内のガスの吸引開始初
期に防着板本体を加熱して防着板本体に付着したガス分
子を離脱させ、その後のガスの吸引時に前記防着板本体
を冷却させて真空装置内の残留ガスを防着板本体の表面
に捕獲させるための温度調節手段とを備えたものであ
る。

【００１８】請求項１記載の防着板では、温度調節手段
によって防着板本体の温度が直接、加熱または冷却さ
れ、これにより防着板本体に付着したガス分子を離脱さ
せ、あるいは真空装置内のガス分子を防着板本体の表面
に捕獲することができる。

【００１９】請求項２記載の防着板では、媒体流通手段
により、防着板本体の表面に配設された媒体流通用の配
管内を所定の温度に調節された媒体が流通することによ
り、防着板本体が加熱または冷却される。

【００２０】請求項３記載の防着板では、温媒用の配管
および冷媒用の配管のいずれか一方の配管が選択的に使
用される。

【００２１】請求項４記載の防着板では、温媒用の配管
に温媒を流す場合には、冷媒用の配管に対して加圧ガス
が流入し冷媒が配管から除去される。一方、冷媒用の配
管に冷媒を流す場合には、温媒用の配管に対して加圧ガ
スが流入し温媒が配管から除去される。

【００２２】請求項５記載の防着板では、ポンプの吸引
により温媒または冷媒が除去される。

【００２３】請求項６記載の防着板は、冷媒用の配管お
よび温媒用の配管それぞれの両端部に設けられた接続手
段によって、媒体供給源側の配管に対して着脱自在に取
り付けられる。

【００２４】請求項７記載の防着板では、抵抗部材が発
熱することにより、防着板本体が加熱される。

【００２５】請求項８記載の真空装置では、温度調節手
段によって、真空容器本体内のガスの吸引開始初期には
防着板本体が加熱され、防着板本体に付着したガス分子
が取り除かれる。また、その後のガスの吸引時には、防
着板本体が冷却され、真空装置内の残留ガス分子が防着
板本体の表面に捕獲される。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。

【００２７】図１は本発明の第１の実施の形態に係る防
着板の構成を表すものである。図２は図１に示した防着
板１を真空装置、例えばＣＶＤ装置２０の内壁に装着し
た状態を表すものである。この防着板１は、ＣＶＤ装置
２０の内壁にガス分子（汚れ）が付着することを防止す
るためのものであり、防着板本体１ａと、防着板本体１
ａの表面に配設された温媒管２および冷媒管３とにより
構成されている。

【００２８】防着板本体１ａは、ＣＶＤ装置２０の内周
壁を覆うように内周壁に応じた形状となっている。本実
施の形態では、高さ４５０ｍｍ，半径１２５ｍｍ，板厚
１．０ｍｍの円筒を縦に４分割にすることにより形成さ
れている。材質は例えばステンレスであり、本実施の形
態ではＳＵＳ３１６Ｌを用いている。防着板本体１ａの
表面は、バフ研磨処理の後に電解研磨処理が施されてい
る。

【００２９】防着板本体１ａの外周面には、全面を網羅
するように蛇行して配設された温媒管２および冷媒管３
がそれぞれ溶接により固定されている。これら温媒管２
および冷媒管３の材質は、例えば共にステンレスであ
り、大きさは共に１／８インチ管である。

【００３０】温媒管２の内部には温媒４が流れるように
なっている。温媒４としては、例えばフッ素化オイル
（不活性雰囲気中の耐熱性３５０℃程度）を用いる。こ
のフッ素化オイルは、ＣＶＤ装置２０の外部に配設され
た図示しない媒体温度調節装置によって、例えば１５０
℃に調節され後、図示しないポンプにより導入管７ａを
介して温媒管２に導入されると共に回収管７ｂを介して
温媒管２から回収されるようになっている。これにより
フッ素化オイルは防着板本体１ａを加熱し、その結果防
着板本体１ａに付着したガス分子が取り除かれるように
なっている。

【００３１】一方、冷媒管３には冷媒５が流れるように
なっている。冷媒５としては、例えばエチレングリコー
ル（融点−１２．６℃，沸点１９７．８５℃）を用い
る。このエチレングリコールは、図示しない媒体温度調
節装置によって、例えば０℃に調節された後、図示しな
いポンプにより導入管８ａを介して冷媒管３に導入され
ると共に回収管８ｂを介して冷媒管３から回収されるよ
うになっている。これによりエチレングリコールは防着
板本体１ａを冷却し、その結果ＣＶＤ装置２０内に残存
するガス分子が防着板本体１ａの表面に捕獲（コールド
トラップ）されるようになっている。

【００３２】温媒管２および冷媒管３それぞれの両端
部、導入管７ａ，８ａおよび回収管７ｂ，８ｂそれぞれ
の一端部は接続部材６（例えばガスケットを用いてシー
リングを行うＶＣＲ（登録商標））の継ぎ手となってお
り、接続部材６により簡易に接続ができるようになって
いる。導入管７ａ，８ａの他端部および回収管７ｂ，８
ｂの他端部は、それぞれＣＶＤ装置２０の外部に導出さ
れており、ＣＶＤ装置２０の外部に配設された媒体温度
調節装置にそれぞれ連結されている。

【００３３】なお、上記温媒管２，冷媒管３および媒体
温度調節装置により本発明の温度調節手段が構成されて
いる。

【００３４】このような構成を有する防着板１は、図２
に示したように、防着板本体１ａがＣＶＤ装置２０の内
周壁にそって４個装着される。このＣＶＤ装置２０は、
中央にウェーハ２１を載置するステージ２２が配設され
ており、その上方にガス導入口２３が接続された電極２
４が配設されている。また、ＣＶＤ装置２０の底部に
は、ガスを排気するための排気口２５が設けられてい
る。

【００３５】このようにＣＶＤ装置２０内に装着された
防着板１は、ステージ２２上に載置されたウェーハ２１
上に膜を生成するに先立ってＣＶＤ装置２０内を真空状
態とするガスの吸引時に、次のようにして使用される。

【００３６】まず、図示しない排気手段によりＣＶＤ装
置２０内のガスの吸引が開始されると同時に、媒体温度
調節装置によってフッ素化オイルを１５０℃に加熱し、
この加熱したフッ素化オイルを温媒管２へ流し始める。
これにより、防着板本体１ａは加熱され、防着板本体１
ａに付着していたガス分子が離脱する。ガス分子が十分
に防着板本体１ａから取り除かれたら、フッ素化オイル
の加熱および流動を停止し、防着板本体１ａの加熱（ベ
ーキング）を終了する。

【００３７】次に、ガスの吸引が継続されている状態
で、媒体温度調節装置によってエチレングリコールを０
℃に冷却し、この冷却したエチレングリコールを冷媒管
３へ流し始める。これにより、防着板本体１ａは冷却さ
れ、スパッタ装置２０内に残存するガス分子が防着板本
体１ａ表面に捕獲（コールドトラップ）される。

【００３８】このようにしてＣＶＤ装置２０内が十分高
い真空状態になった後、ＣＶＤ装置２０ではガス導入口
２３に反応ガスが導入されウェーハ２１上への膜の生成
が開始される。この際、防着板１は、防着板本体１ａに
よってＣＶＤ装置２０の内周壁にガス分子が付着するの
を防止する。

【００３９】このように本実施の形態によれば、防着板
本体１ａに温媒管２を配設し温媒４の流動により防着板
本体１ａを直接加熱できるようにしたので、防着板本体
１ａに付着したガス分子を容易に取り除くことができ
る。従って、ＣＶＤ装置２０内を汚すことなく容易に短
時間で超高真空を得ることができる。

【００４０】また、防着板本体１ａに冷媒管３を配設し
冷媒５の流動により防着板本体１ａを直接冷却できるよ
うにしたので、ＣＶＤ装置２０内のガスの吸引において
ＣＶＤ装置２０内に残存するガス分子を防着板本体１ａ
の表面に捕獲することができる。従って、ＣＶＤ装置２
０内の真空度を短時間で容易に高めることができ、超高
真空を容易に実現することができる。

【００４１】更に、本実施の形態によれば、温媒管２お
よび冷媒管３と、導入管７ａ，８ａおよび回収管７ｂ，
８ｂそれぞれとの接続を簡易的接続手段によって行うよ
うにしたので、防着板本体１ａのＣＶＤ装置２０への装
着およびＣＶＤ装置２０からの取り外しが容易になり、
防着板本体１ａの交換を容易に行うことができる。

【００４２】加えて、本実施の形態によれば、温度調節
機能を備えた防着板１をＣＶＤ装置２０に装着して、ガ
スの吸引開始初期においては防着板本体１ａを加熱する
と共に、その後のガスの吸引時においては防着板本体１
ａを冷却するようにしたので、ガスの吸引開始初期にお
いて防着板本体１ａに付着しているガス分子を除去する
ことができ、その後ＣＶＤ装置２０内に残存するガス分
子を防着板本体１ａの表面に捕獲することができる。従
って、容易に短時間で真空度を高めることができ、超高
真空を容易に実現することができる。

【００４３】次に、本発明の第２の実施の形態について
説明する。

【００４４】図３は本発明の第２の実施の形態に係る防
着板のうち温媒管２の配管構造を表すものである。この
防着板は、温媒管２および冷媒管３に加圧装置３０がそ
れぞれ接続されたことを除き、第１の実施の形態と実質
的に同一の構成および作用を有している。従って、同一
の構成要素には同一の符合を付し、その詳細な説明は省
略する。

【００４５】本実施の形態では、加圧装置３０が温媒管
２の上流側に対して接続されており、高圧のガス（本実
施の形態では窒素ガス；Ｎ₂ ガス）を温媒管２内の配管
に流通させることができるようになっている。加圧装置
３０と温媒管２との接続部分には弁３１が配設されてお
り、高圧ガスの流入を制御できるようになっている。ま
た、加圧装置３０の配設に伴い、温媒管２の上流（加圧
装置３０の接続位置よりも更に上流側）には弁３２が配
設され、下流には弁３３が配設されており、高圧装置３
０の動作と連動してそれぞれ開閉制御が行われるように
なっている。

【００４６】なお、図３では温媒管２のみの構成につい
て図示し、冷媒管３については図示を省略しているが、
冷媒管３側にも同様に加圧装置３０および弁３１〜３３
がそれぞれ配設されている。温媒および冷媒の回収除去
を図示しないポンプの吸引により行うことは上記実施の
形態と同様である。

【００４７】このような構成を有する防着板は、真空装
置内を真空状態とするガスの吸引時において、次のよう
にして使用される。なお、本実施の形態においては、温
媒４として第１の実施の形態と同様に１５０℃に加熱し
たフッ素化オイルを用い、冷媒５として−２００℃に冷
却した液体窒素を用いた。

【００４８】まず、ガスの吸引開始初期において、温媒
管２の弁３２および弁３３を開放し、第１の実施の形態
と同様にして防着板本体１ａの加熱を行い、吸着ガス分
子を防着板本体１ａから取り除く。このとき温媒管２の
弁３１および冷媒管３の各弁はそれぞれ閉鎖しておく。
吸着ガス分子が十分に取り除かれたら、弁３２のみを閉
鎖し弁３３は開放したままで弁３１を開放する。これに
より、高圧Ｎ₂ ガスが温媒管２内に流入し、温媒管２内
の温媒（フッ素化オイル）が温媒管２内から押し出され
て回収管７ｂ内に回収される。

【００４９】その後、弁３１および弁３３を閉鎖し、冷
媒管３の上流側の弁および下流側の弁を開放する。そし
て第１の実施の形態と同様にして防着板本体１ａの冷却
を行い、真空装置内の残存ガスの捕獲を行う。ＣＶＤ装
置２０内の真空度が十分高くなって、その後の成膜が終
了した後は、冷媒管３の上流側の弁のみを閉鎖し下流側
の弁は開放したままで加圧装置の接続弁を開放する。こ
れにより、高圧Ｎ₂ ガスが冷媒管３内の配管に流入し、
冷媒管３内の冷媒（液体窒素）が冷媒管３内から押し出
されて回収管８ｂ内に回収される。

【００５０】このように本実施の形態によれば、温媒管
２および冷媒管３に加圧装置３０をそれぞれ接続し、温
媒４および冷媒５のいずれか一方を使用しているとき
に、他方を除去することができるようにしたので、防着
板本体１ａを加熱している時に冷媒５が冷媒管３内で加
熱され熱分解したり圧力が上昇してしまったりすること
を回避でき、また防着板本体１ａを冷却している時に温
媒４が温媒管２内で冷却され凍結してしまうことを回避
できる。よって、温媒４および冷媒５を任意に選択する
ことができる。

【００５１】以上、実施の形態を挙げて本発明を説明し
たが、本発明は上記実施の形態に限定されることなく、
種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態で
は、防着板本体１ａに温媒管２を配設しこれに温媒４を
流すことにより防着板本体１ａを加熱するようにした
が、図４に示したように絶縁膜９に被覆された抵抗線１
０を図１の温媒管２と同様に防着板本体１ａの表面に配
設し、これに通電をして発熱させ防着板本体１ａを加熱
するようにしてもよい。このように抵抗線１０によって
防着板本体１ａを加熱するようにすれば、温媒４による
加熱に比べて構造が簡単になる。この場合も、冷却を冷
媒５によって行えば、上記実施の形態と同様に、残存ガ
ス分子を捕獲する効果も得ることができる。なお、冷却
手段としては、その他ペルティエ素子を用いるようにし
てもよい。

【００５２】また、上記実施の形態では、温媒管２およ
び冷媒管３と、導入管７ａ，８ａおよび回収管７ｂ，８
ｂとの間の接続を例えばＶＣＲからなる接続部材６によ
って行うようにしたが、他のＯリングを用いてシーリン
グを行うＶＣＯや金属同士の締め付けによりシーリング
を行うスウェージロック（いずれも登録商標）などの接
続手段を用いるようにしても良い。

【００５３】更に、上記実施の形態では、温媒４と冷媒
５とを別個独立の温媒管２，冷媒管３にそれぞれ流すよ
うにしたが、温媒４と冷媒５とが互いに反応しないもの
であれば、単一の管に流すようにしてもよい。なお、こ
の場合、その管に上記第２の実施の形態と同様に加圧装
置を接続し、一方の媒体を流す前に加圧装置で他方の媒
体を押し出すようにすれば、温媒４と冷媒５との交換を
迅速に行うことができる。

【００５４】加えて、上記第２の実施の形態では、冷媒
管３の下流側の弁に閉鎖と開放の２方弁を用いている
が、３方弁を用いてもよい。これにより、冷媒管３を開
放し冷媒５を流しているときに冷媒５が加熱され気化し
てもガス抜きをすることができ、冷媒管３内が高圧とな
ることを回避することができる。

【００５５】更にまた、上記実施の形態では、防着板本
体１ａの加熱と冷却の双方を行えるようになっている
が、加熱と冷却のいずれか一方のみできる構成でもよ
い。

【００５６】加えてまた、上記実施の形態では、真空装
置としてＣＶＤ装置２０を示して説明したが、本発明は
分子線エピタキシー装置など他の真空装置にも適用可能
できることは言うまでもない。

【００５７】なお、本発明は、防着板本体１ａの温度調
節機能を備えてさえいればよく、上記実施の形態におい
て示した具体的な形状，大きさ，材質については適宜選
択することができるものである。

【００５８】

【発明の効果】以上説明したように本発明の防着板によ
れば、防着板本体に温度調節機能を持たせるようにした
ので、防着板本体の温度を直接調節することができる。
従って、防着板本体を加熱することにより、防着板本体
に付着したガス分子を容易に短時間で取り除くことがで
きるので、真空装置内を汚すことなく容易に短時間で超
高真空を得ることができるという効果を奏する。また、
防着板本体を冷却することにより、真空装置内に残存す
るガス分子を防着板本体の表面に捕獲することができる
ので、スパッタ装置内の真空度を短時間で容易に高める
ことができ、超高真空を容易に実現することができると
いう効果も奏する。

【００５９】特に、温度調節手段を、防着板本体の表面
に配設された媒体流通用の配管と、所定の温度に調節さ
れた媒体を前記配管内で流通させるための媒体流通手段
とを含むように構成すれば、媒体の温度と流動状態を調
節することにより容易に防着板本体の温度を調節するこ
とができるという効果を奏する。

【００６０】更に、加圧手段により、温媒用配管に温媒
を流す場合に冷媒用配管に対して加圧ガスを流入させて
冷媒を冷媒用配管から除去し、一方、冷媒用配管に冷媒
を流す場合に温媒用配管に対して加圧ガスを流入させて
温媒を温媒用配管から除去するようにすることにより、
防着板本体を加熱している時に冷媒が配管内で加熱され
熱分解したり圧力が上昇してしまったりすることを回避
でき、また防着板本体を冷却している時に温媒が配管内
で冷却され凍結してしまうことを回避できる。よって、
温媒および冷媒を任意に選択することができるという効
果を奏する。

【００６１】加えて、冷媒用配管および温媒用配管それ
ぞれを防着板本体に対して固定すると共に、冷媒用配管
および温媒用配管それぞれの両端部に、媒体供給源側の
配管に対して着脱自在の接続手段を備えるようにすれ
ば、防着板本体の真空装置への装着および真空装置から
の取り外しが容易となり、防着板本体の交換を容易に行
うことができるという効果を奏する。

【００６２】また、温度調節手段を抵抗部材によって構
成すれば、通電による発熱によって防着板本体を加熱で
き、簡単な構成によって防着板本体の温度を調節するこ
とができるという効果を奏する。

【００６３】更に、本発明の真空装置によれば、温度調
節機能を有する防着板本体を、真空容器本体の内壁面に
着脱自在に取り付け、真空容器本体内のガスの吸引開始
初期に防着板本体を加熱して防着板本体に付着したガス
分子を取り除き、その後のガスの吸引時に防着板本体を
冷却させて真空装置内のガスを防着板本体の表面に捕獲
させるようにしたので、容易に短時間で真空度を高める
ことができ、超高真空を容易に実現することができると
いう効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る防着板の構成
を表す構成図である。

【図２】図１に示した防着板をＣＶＤ装置に装着した状
態を表す断面図である。

【図３】本発明の第２の実施の形態に係る防着板の配管
構成図である。

【図４】本発明の第１の実施の形態の変形例を説明する
ための構成図である。

【符号の説明】

１ 防着板 １ａ 防着板本体 ２ 温媒管 ３ 冷媒管 ４ 温媒 ５ 冷媒 ６ 接続部材 ７ａ，８ａ 導入管 ７ｂ，８ｂ 回収管 ９ 抵抗線 １０ 絶縁膜 ２０ ＣＶＤ装置（真空装置） ３０ 加圧装置 ３１，３２，３３ 弁

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/31 Ｈ０１Ｌ 21/31 Ｆ

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空装置の内壁に対するガス分子の付着
   を防止するための防着板であって、 真空装置の内壁に装着される防着板本体と、 前記防着板本体の温度を調節するための温度調節手段と を備えたことを特徴とする防着板。
2. 【請求項２】 前記温度調節手段は、 前記防着板本体の表面に配設された媒体流通用の配管
   と、 所定の温度に調節された媒体を前記配管内で流通させる
   ための媒体流通手段とを含むことを特徴とする請求項１
   記載の防着板。
3. 【請求項３】 前記温度調節手段は、 配管として前記媒体流通手段によって高温に調節された
   温媒用の配管と、前記媒体流通手段によって低温に調節
   された冷媒用の配管とを備え、いずれか一方の配管を選
   択的に使用することを特徴とする請求項２記載の防着
   板。
4. 【請求項４】 更に、温媒用の配管に温媒を流す場合に
   冷媒用の配管に対して加圧ガスを流入させて冷媒を配管
   から除去すると共に、冷媒用の配管に冷媒を流す場合に
   温媒用の配管に対して加圧ガスを流入させて温媒を配管
   から除去するための加圧手段を備えたことを特徴とする
   請求項３記載の防着板。
5. 【請求項５】 ポンプの吸引により温媒および冷媒を除
   去することを特徴とする請求項４記載の防着板。
6. 【請求項６】 前記冷媒用の配管および温媒用の配管そ
   れぞれが前記防着板本体に対して固定されると共に、前
   記冷媒用配管および温媒用配管それぞれの両端部に、媒
   体供給源側の配管に対して着脱自在の接続手段を備えた
   ことを特徴とする請求項３記載の防着板。
7. 【請求項７】 前記温度調節手段は、 前記防着板本体の表面に対して配設されると共にその表
   面が絶縁膜で被覆された抵抗部材と、 この抵抗部材に対して通電し前記抵抗部材を発熱させる
   通電手段とを含むことを特徴とする請求項１記載の防着
   板。
8. 【請求項８】 真空容器本体と、 この真空容器本体の内壁面に着脱可能に取り付けられる
   防着板本体と、 前記真空容器本体内のガスの吸引開始初期に前記防着板
   本体を加熱して防着板本体に付着したガス分子を離脱さ
   せ、その後のガスの吸引時に前記防着板本体を冷却させ
   て前記真空装置内の残留ガスを防着板本体の表面に捕獲
   させるための温度調節手段とを備えたことを特徴とする
   真空装置。