JP4450743B2 - フォトマスク、フォトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
従来のハーフトーン型の位相シフトマスク200は、合成石英基板などの透明基板201上に順に形成された、半透明のハーフトーン位相シフト層(以下位相シフト層という。)202、遮光層203から構成される。半導体チップ(以下単にチップという。)に転写される回路パターン210aが形成されるチップ領域210では、遮光層203が除去されており、形成する回路パターン210aに応じた開口がなされた位相シフト層202が露出されている。露光工程の際には、このチップ領域210において、透明基板201が露出している領域では露光光がそのまま透過され、位相シフト層202が露出している領域では、露光光の位相が180度反転される。
図13、図14は、従来の位相シフトマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
まず、透明基板201上に、位相シフト層202a、遮光層203aを積層し、更にレジスト層204aを形成する(図13(A))。
レジスト層205a形成の後、チップ領域210を形成する領域に対し、露光及び現像を施し、レジストパターン205bを形成する(図14(A))。
また、本発明の他の目的は、上記のようなフォトマスクの製造方法を提供することである。
この半導体装置の製造方法は、透明基板上に露光光の位相をシフトさせる位相シフト層と、遮光層とが順に積層され、所望のパターン形状の開口により、半導体チップに転写するチップ領域には回路パターン、前記チップ領域外には非回路パターンが形成されたフォトマスクであって、前記チップ領域では前記遮光層が除去され、且つ、前記回路パターンに応じた開口がなされた前記位相シフト層が露出しており、前記チップ領域の周囲に、前記チップ領域から15mm以内の領域において前記遮光層のみが開口され、その開口部に前記位相シフト層が露出した、前記回路パターンの位置精度を測定するための位置精度測定用モニタパターンと、前記チップ領域から15mmを超える領域において前記遮光層及び前記位相シフト層の両方が開口され、その開口部に前記透明基板が露出した、露光装置との位置合わせを行うためのフィディシャルパターンとを含む非回路パターンを有したフォトマスクを用いて露光を行う露光工程を有する。
図1は、本実施の形態の位相シフトマスクの構造を示す図であり、(A)は平面図であり、(B)はA−A線での断面図である。
図2、図3は、本実施の形態の位相シフトマスクの製造方法における一工程を示す断面図である。
その後、レジスト層15aを露光及び現像して、レジストパターン15bを形成する。レジストパターン15bは、図1に示したチップ領域20の全面及び高い光透過率を必要とし光透過部として形成する必要があるフィディシャルパターン33の形状に開口され、モニタパターン30などチップ領域20外に存在するその他のパターンの開口部を覆うように形成する。この際にフィディシャルパターン33を形成する領域の遮光層13bは極力ダメージのないことが望ましいので、レジストパターン15bの下地に対する位置合わせは厳密に行う必要がある(図3(A))。
最後に、残存するレジストパターン15bを除去することによって、位相シフトマスク10が完成する(図3(D))。
図4、図5は本実施の形態の位相シフトマスクの他の製造方法における一工程を示す断面図である。
さらに、レジスト層16aを露光及び現像して、チップ領域20の全面を開口したレジストパターン16bを形成する(図5(A))。
最後にレジストパターン16bを除去することにより、位相シフトマスク10が完成する(図5(C))。
図6〜図11は、半導体装置の製造工程の一工程を示す断面図である。
P型不純物拡散領域106は、例えばボロンイオン(B+)を、加速エネルギーを150keV、ドーズ量を3×1013cm-2としてイオン注入することにより形成する。
N型不純物拡散領域110は、例えばリンイオン(P+)を、加速エネルギーを300keV、ドーズ量を3×1013cm-2としてイオン注入することにより形成する。
次に、フォトリソグラフィーにより、N型トランジスタ形成領域を露出し、P型トランジスタ形成領域を覆うフォトレジスト膜114を形成する。そしてこのフォトレジスト膜114及びゲート電極112をマスクとしてイオン注入を行い、ゲート電極112の両側のシリコン基板100中に、N型トランジスタのエクステンション領域となるN型不純物拡散領域115を形成する。N型不純物拡散領域115は、例えば砒素イオンを、加速エネルギーを2keV、ドーズ量を1×1015cm-2としてイオン注入することにより形成する。さらに、フォトレジスト膜114及びゲート電極112をマスクとしてイオン注入を行い、N型トランジスタ形成領域にP型ポケット領域116を形成する(図8(A))。
次いで、フォトリソグラフィーにより、P型トランジスタ形成領域を露出しN型トランジスタ形成領域を覆うフォトレジスト膜123を形成する。そしてこのフォトレジスト膜123、ゲート電極113及び側壁絶縁膜120をマスクとしてイオン注入を行い、ゲート電極113の両側のシリコン基板100中に、P型不純物領域124を形成する(図10(A))。
次いで、例えば1000℃、3秒間の短時間熱処理を行い、注入した不純物を活性化する。これにより、N型トランジスタ形成領域には、P型不純物拡散領域104、105、106を含むP型ウェル125と、N型不純物拡散領域115、122よりなるエクステンションソース・ドレイン構造のN型ソース/ドレイン領域126とが形成される。また、P型トランジスタ形成領域には、N型不純物拡散領域108、109、110を含むN型ウェル127と、P型不純物拡散領域118、124よりなるエクステンションソース・ドレイン構造のP型ソース/ドレイン領域128とが形成される(図10(B))。
この状態の半導体装置をウェハパターン検査装置(KLA社製 KLA2350)を用いて検査したところ、デバイスパターン領域外に存在するパターンの写り込みは全く検出されず、本実施の形態の位相シフトマスク10の有効性が確認された。
前記チップ領域では、前記遮光層が除去され、且つ、前記回路パターンに応じた開口がなされた前記位相シフト層が露出しており、
前記チップ領域の周囲に、前記遮光層のみが開口され、その開口部に前記位相シフト層が露出した非回路パターンを有したことを特徴とするフォトマスク。
(付記3) 前記非回路パターンは、前記回路パターンの欠陥検査におけるアライメント用のパターンであることを特徴とする付記1記載のフォトマスク。
(付記5) 前記非回路パターンは、マスク描画装置において重ね合わせ描画を行う際のアライメント用ターゲットパターンであることを特徴とする付記1記載のフォトマスク。
(付記8) 前記非回路パターンは、マスク識別用のナンバリングパターンであることを特徴とする付記1記載のフォトマスク。
(付記11) 前記位相シフト層は、MoSiON膜であることを特徴とする付記1記載のフォトマスク。
(付記13) 露光光の位相を変化させる機能を有するフォトマスクの製造方法において、
透明基板上に露光光の位相をシフトさせる位相シフト層と、遮光層とを順に積層する工程と、
半導体チップに転写するチップ領域の回路パターン及び前記チップ領域外の非回路パターンのパターン形状の開口部を前記遮光層に形成する工程と、
前記チップ領域が開口され、且つ、前記チップ領域の周囲の前記非回路パターンの前記開口部を覆うようなレジストパターンを形成し、前記レジストパターンと前記チップ領域に露出している前記遮光層をマスクとして前記位相シフト層をエッチングする工程と、
前記チップ領域内の前記遮光層を除去する工程と、
を有することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
前記レジストパターンをマスクとして、前記チップ領域内の前記遮光層を除去することを特徴とする付記13記載のフォトマスクの製造方法。
透明基板上に露光光の位相をシフトさせる位相シフト層と、遮光層とが順に積層され、所望のパターン形状の開口により、半導体チップに転写するチップ領域には回路パターン、前記チップ領域外には非回路パターンが形成されたフォトマスクであって、前記チップ領域では前記遮光層が除去され、前記回路パターンに応じた開口がなされた前記位相シフト層が露出しており、前記チップ領域の周囲に、前記遮光層のみが開口され、その開口部に前記位相シフト層が露出した非回路パターンを有したフォトマスクを用いて露光を行う露光工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
11 透明基板
12 位相シフト層
13 遮光層
20 チップ領域
20a 回路パターン
30 モニタパターン
31 アライメント用ターゲットパターン
32 アライメント精度測定用パターン
33 フィディシャルパターン
34 欠陥検査におけるアライメント用のパターン(または線幅測定装置におけるアライメント用のパターン)
35 バーコードパターン
36 ナンバリングパターン
Claims (6)
- 透明基板上に露光光の位相をシフトさせる位相シフト層と、遮光層とが順に積層され、所望のパターン形状の開口により、半導体チップに転写するチップ領域には回路パターン、前記チップ領域外には非回路パターンが形成されたフォトマスクにおいて、
前記チップ領域では、前記遮光層が除去され、且つ、前記回路パターンに応じた開口がなされた前記位相シフト層が露出しており、
前記チップ領域の周囲に、前記チップ領域から15mm以内の領域において前記遮光層のみが開口され、その開口部に前記位相シフト層が露出した、前記回路パターンの位置精度を測定するための位置精度測定用モニタパターンと、前記チップ領域から15mmを超える領域において前記遮光層及び前記位相シフト層の両方が開口され、その開口部に前記透明基板が露出した、露光装置との位置合わせを行うためのフィディシャルパターンとを含む非回路パターンを有したことを特徴とするフォトマスク。 - 前記チップ領域から15mm以内の範囲に存在する前記非回路パターンの前記開口部には、前記位相シフト層が露出していることを特徴とする請求項1記載のフォトマスク。
- 前記位相シフト層と前記遮光層は、それぞれ選択的にエッチング可能な材料にて構成されていることを特徴とする請求項1記載のフォトマスク。
- 前記遮光層は、クロムとクロム酸化物の積層膜で構成されていることを特徴とする請求項1記載のフォトマスク。
- 露光光の位相を変化させる機能を有するフォトマスクの製造方法において、
透明基板上に露光光の位相をシフトさせる位相シフト層と、遮光層とを順に積層する工程と、
半導体チップに転写するチップ領域の回路パターン及び前記チップ領域外の、前記チップ領域から15mm以内の領域に形成される、前記回路パターンの位置精度を測定するための位置精度測定用モニタパターンと、前記チップ領域から15mmを超える領域に形成される、露光装置との位置合わせを行うためのフィディシャルパターンとを含む非回路パターンのパターン形状の開口部を前記遮光層に形成する工程と、
前記チップ領域及び、前記チップ領域外の領域のうち、前記フィディシャルパターンが形成される領域が開口され、且つ、前記位置精度測定用モニタパターンが形成される領域を覆うようなレジストパターンを形成し、前記レジストパターンと前記チップ領域に露出している前記遮光層をマスクとして前記位相シフト層をエッチングする工程と、
前記チップ領域内の前記遮光層を除去する工程と、
を有することを特徴とするフォトマスクの製造方法。 - 半導体装置の製造方法において、
透明基板上に露光光の位相をシフトさせる位相シフト層と、遮光層とが順に積層され、所望のパターン形状の開口により、半導体チップに転写するチップ領域には回路パターン、前記チップ領域外には非回路パターンが形成されたフォトマスクであって、前記チップ領域では前記遮光層が除去され、且つ、前記回路パターンに応じた開口がなされた前記位相シフト層が露出しており、前記チップ領域の周囲に、前記チップ領域から15mm以内の領域において前記遮光層のみが開口され、その開口部に前記位相シフト層が露出した、前記回路パターンの位置精度を測定するための位置精度測定用モニタパターンと、前記チップ領域から15mmを超える領域において前記遮光層及び前記位相シフト層の両方が開口され、その開口部に前記透明基板が露出した、露光装置との位置合わせを行うためのフィディシャルパターンとを含む非回路パターンを有したフォトマスクを用いて露光を行う露光工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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