JP4450031B2 - 半導体部品 - Google Patents

半導体部品 Download PDF

Info

Publication number
JP4450031B2
JP4450031B2 JP2007215977A JP2007215977A JP4450031B2 JP 4450031 B2 JP4450031 B2 JP 4450031B2 JP 2007215977 A JP2007215977 A JP 2007215977A JP 2007215977 A JP2007215977 A JP 2007215977A JP 4450031 B2 JP4450031 B2 JP 4450031B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor element
resin layer
mold resin
semiconductor
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007215977A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009049298A (ja
Inventor
テツヲ 吉岡
憲司 福村
貴彦 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denso Corp filed Critical Denso Corp
Priority to JP2007215977A priority Critical patent/JP4450031B2/ja
Priority to US12/222,558 priority patent/US7906859B2/en
Priority to BRPI0803701A priority patent/BRPI0803701B1/pt
Priority to DE102008039068A priority patent/DE102008039068A1/de
Publication of JP2009049298A publication Critical patent/JP2009049298A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4450031B2 publication Critical patent/JP4450031B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/02Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
    • G01N27/04Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
    • G01N27/12Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid
    • G01N27/128Microapparatus
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3142Sealing arrangements between parts, e.g. adhesion promotors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3157Partial encapsulation or coating
    • H01L23/3185Partial encapsulation or coating the coating covering also the sidewalls of the semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • H01L2924/1815Shape

Description

本発明は、半導体素子をモールド樹脂層によりモールドすると共に、そのモールド樹脂層に、半導体素子の表面の一部を露出させる開口部を形成するようにした半導体部品に関する。
半導体素子をモールドするモールド樹脂層に開口部を設けることにより、半導体素子の表面の一部(検出部)を露出させるようにした半導体部品として、光半導体(光デバイス)や、誘電率、導電率を測定する半導体センサ等がある。例えば、特許文献1には、ガソリン中のアルコール濃度を検出するための半導体センサ(アルコール濃度センサ)が開示されている。
図16に示すように、この半導体センサ1は、半導体素子(センサチップ)2を、リードフレームのダイパッド部3上に接着し、図示はしないが半導体素子2の上面外周部分に設けられた電極とリードフレームのリード部とをボンディングワイヤで接続した上で、半導体素子2の周囲をモールド樹脂層4によりモールドして構成される。このとき、半導体素子2の表面(上面)中央部には、アルコール濃度を検出するための導電性薄膜等からなる検出部2aが設けられ、モールド樹脂層4には、その検出部2aを露出させるための開口部4aが形成されている。
また、一般に、上記モールド樹脂層4の形成方法としては、成形型内に、リードフレームに保持された半導体素子2を配置した状態で、液状(ゲル状)の樹脂を注入(充填)し、硬化させる方法が採用されている。この場合、開口部4aを形成するために、成形型(上型)のキャビティ面に凸部を設けることが行われている。さらには、開口部4aを形成する別の方法として、半導体素子2の上面と、上型のキャビティ面との間に、樹脂の進入を阻止するための筒状枠を配置することも考えられている(例えば特許文献2参照)。
特開2005−203431号公報 特許第2598161号公報
ところで、上記したような半導体部品(半導体センサ)は、従来では、主に、家電製品や、デジタル機器、セキュリティ機器などに用いられていた。このような用途において、半導体部品が使用される環境としては、振動等が少なく、また比較的清浄な雰囲気であり、さらには使用温度範囲も、気温変動と素子発熱程度の範囲に止まるものであった。これに対し、半導体部品(半導体センサ)が自動車等の移動体に搭載される用途に使用される場合、振動を受けやすく、また、水分、有機溶媒、燃料、オイル、酸、アルカリ等といった腐食や劣化を招く雰囲気にさらされることも多く、さらには使用温度も氷点下数十℃(例えば−40℃)から百数十℃(例えば150℃)の範囲にわたるなど、使用環境が劣悪となる。
ここで、上記のような樹脂封止型の半導体部品においては、半導体素子、ダイパッド、モールド樹脂層、接着剤などの各構成材料の線膨張係数が相違することに伴い、熱サイクルを受けた際に全体として反りを生じ、そのような熱サイクルが繰返し受けることにより、半導体素子とモールド樹脂層との界面で剥離や亀裂が生ずることがある。図16に示した開口部4aを有する半導体センサ1の場合、図に矢印Cで示すように、半導体素子2の露出端部から、モールド樹脂層4の剥離(或いは亀裂)が生じやすいものとなる。
このとき、上記した従来の家電製品等の用途の場合には、温度変動が小さいため、剥離や亀裂が生じにくく、また、生じたとしても、それを進展させるような腐食や劣化成分が少ないため、特に問題となることはなかった。ところが、自動車等の劣悪環境を伴う用途に用いる場合には、温度変動が大きいため、剥離(亀裂)が発生しやすく、しかも、剥離(亀裂)を進展させる腐食・劣化成分が存在することから、製品の大幅な品質低下を招いてしまうことになる。特に、剥離が進展して、半導体素子2の電極部分にまで到達し、電極材料の腐食・劣化、電気的接続の喪失、ワイヤ断線等に至ることは避けなければいけない。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、半導体素子をモールドするモールド樹脂層に開口部を設けることにより、半導体素子の表面の一部を露出させるようにしたものにあって、半導体素子の表面の開口部の周囲におけるモールド樹脂層の剥離や亀裂の発生、進展を効果的に防止することができる半導体部品を提供するにある。
上記目的を達成するために、本発明の請求項1の半導体部品は、半導体素子をモールド樹脂層によりモールドしてなると共に、前記モールド樹脂層に、前記半導体素子の表面に設けられた検出部を環境雰囲気に露出させる開口部を形成してなるものにおいて、前記半導体素子の前記検出部が設けられた面に、前記開口部の周囲部に位置して、ドット状、線状、格子溝状、縦横斜めの溝状のいずれかからなる規則的な凹凸形状を有する凹凸部を形成したところに特徴を有する。
これによれば、半導体素子の表面に形成された凹凸部に、モールド樹脂層を構成するモールド樹脂が入り込むようになることにより、いわゆるアンカー効果が得られる。従って、開口部の周囲部に位置するモールド樹脂層の半導体素子の上面に対する接合強度を高めることができ、その部分のモールド樹脂層の剥離の発生を抑制することができる。
尚、ここでいう凹凸部とは、半導体素子の表面をパターニングすることにより、規則的な凹凸を設けたものである。パターニングにより凹凸を設ける場合、半導体素子の基板自体をエッチングしたり、表面保護膜をエッチングしたり、表面に新たな材料を設けた上でエッチングしたりすることができる。凹凸部の形状としては、ドット状、線状、格子溝状、縦横斜めの溝状とすることができる。凹部を設ける場合、逆テーパ断面形状とすれば、アンカー効果をより高めることができる。
本発明の半導体部品においては、少なくとも、前記モールド樹脂層の前記開口部の内周部と、前記半導体素子の前記検出部が設けられた面の露出部分との境界面部分を、被覆材で被覆することができる(請求項2の発明)。
これによれば、モールド樹脂層と半導体素子との境界面部分が被覆材により被覆されるので、もし、熱膨張差等に起因して剥離や亀裂が発生しても、境界部分から腐食・劣化成分が剥離や亀裂の内部に侵入することを防止することができ、剥離や亀裂のそれ以上の進展を抑えることができる。尚、この被覆材としては、撥水性、撥油性、絶縁防湿性、耐薬品性、耐浸透性、防汚性に優れた、テフロン(登録商標)等のフッ素系コーティング材を採用することができる。
以下、本発明を具体化したいくつかの実施例及び参考例について、図1ないし図15を参照しながら説明する。尚、以下に述べる各実施例及び参考例は、半導体部品としての、光半導体(光デバイス)や、誘電率、導電率を測定するための半導体センサに本発明を適用したものである。この場合、半導体センサを、車両(自動車)用などの苛酷な環境で使用することを想定している。また、各実施例及び参考例間において、共通する部分については、同一符号を付し、説明を繰返すことを省略することとする。
(1)第1,第2の実施例
まず、図1及び図2を参照して、本発明の第1の実施例(請求項1に対応)について述べる。図1は、本実施例に係る半導体部品たる半導体センサ11の全体構成を概略的に示す縦断正面面である。ここで、この半導体センサ11は、半導体素子12をリードフレーム13にマウントし、それらを例えばエポキシ樹脂からなるモールド樹脂層14により樹脂封止して構成されている。
詳しく図示はしないが、前記リードフレーム13は、前記半導体素子12がマウントされるダイパッド部13aと、半導体センサ11のリード脚となる複数本のリード部13bとを、図示しないフレーム部(連結部)で相互に連結した形態に構成され、樹脂封止後に前記フレーム部が切断除去されるようになっている。
前記半導体素子12は、図2にも示すように、矩形チップ状をなし、その表面(上面)の中央部には、矩形状の検出部12aが設けられている。また、半導体素子12の表面の外周部には、電気接続部である複数個の電極部(パッド)12bが設けられている。この半導体素子12は、前記リードフレーム13のダイパッド部13aの上面に例えば接着剤により接着されている。そして、この半導体素子12の各電極部12bと、前記リードフレーム13の各リード部13bとが、Au,Al等のボンディグワイヤ15にて接続されている。
前記モールド樹脂層14は、図1に示すように、半導体素子12の周囲全体を封止するような矩形状に構成されるのであるが、ここでは、前記半導体素子12の表面の一部である検出部12aを露出させるための開口部14aが形成されている。尚、開口部14aの内壁を構成する壁は、やや傾斜するテーパ面状に構成されている。また、前記リードフレーム13の各リード部13bの先端側が、モールド樹脂層14の側面から外部(側方)に導出されている。
そして、本実施例では、図2にも示すように、前記半導体素子12の表面(上面)には、前記モールド樹脂層14の開口部14aの周囲部、つまり前記検出部12aと電極部12bとの間の部分に位置して、凹凸部としての凹溝部16が形成されている。この凹溝部16は、検出部12aの周囲を囲むような矩形枠状の細幅のものが、この場合3本形成されている。この凹溝部16は、例えば、半導体素子12の表面(基板自体あるいは表面保護膜)をエッチングによりパターニングすることにより形成することができる。
尚、上記半導体センサ11を製造するにあたっては、まず、リードフレーム13(ダイパッド部13a)に半導体素子12を接着する工程が実行され、この後、半導体素子12の表面の各電極部12bと、リードフレーム13の各リード部13bとをボンディングワイヤ15により接続する工程が実行される。次いで、このように半導体素子12が装着されたリードフレーム13に対する樹脂モールドの工程が実行される。
図示はしないが、この樹脂モールドの工程では、例えば上型と下型とを有するモールド金型が用いられ、それら上型と下型との間には、前記モールド樹脂層14の外形に相当するキャビティが形成される。モールド成型にあたっては、前記半導体素子12が装着されたリードフレーム13を、例えば下型上の所定位置にセットし、その状態からモールド金型の型合せ,型締めを行う。このとき、上型には、半導体素子12の上面(検出部12a部分)に接触し、前記開口部14aを形成するための凸部が設けられている。
この状態で、モールド金型のキャビティ内に例えばエポキシ樹脂が注入されて硬化される。これにより、半導体素子12やダイパッド部13a、ボンディングワイヤ15を含む電極部12b部分、リード部13bの半導体素子12との接続部分等を一体にモールドし、また半導体素子12の検出部12aを露出させる開口部14aを有するモールド樹脂層14が形成される。このとき、モールド樹脂(エポキシ樹脂)は、半導体素子12の凹溝部16内にも侵入して硬化されるようになる。
次に、上記構成の作用について述べる。上記半導体センサ11は、例えば自動車に搭載される用途に使用されるのであるが、この場合、大きな振動を受けやすく、また、水分、有機溶媒、燃料、オイル、酸、アルカリ等の腐食や劣化を招く雰囲気にさらされることも多く、さらには使用温度も氷点下数十℃(例えば−40℃)から百数十℃(例えば150℃)の範囲にわたるなど、使用環境が劣悪となる。
ここで、上記のような半導体センサ11においては、半導体素子12、ダイパッド13a、モールド樹脂層14、接着剤などの各構成材料の線膨張係数が相違することに伴い、熱サイクルを受けた際に全体として反りを生じ、そのような熱サイクルが繰返し受けることにより、半導体素子12の表面とモールド樹脂層14の開口部14aの周囲部との界面(露出端部部分)で剥離や亀裂が生じやすいものとなる。
ところが、上記構成においては、半導体素子12の表面に形成された凹溝部16に、モールド樹脂層14を構成するモールド樹脂が入り込むようになることにより、いわゆるアンカー効果が得られる。従って、開口部14aの周囲部に位置するモールド樹脂層14の半導体素子12の表面に対する接合強度を高めることができ、その部分のモールド樹脂層14の剥離の発生を抑制することができる。
このように本実施例によれば、半導体素子12をモールドするモールド樹脂層14に開口部14aを設けることにより、半導体素子12の検出部12aを露出させるようにしたものにあって、半導体素子12の表面の開口部14aの周囲におけるモールド樹脂層14の剥離や亀裂の発生を効果的に防止することができるという優れた効果を得ることができる。この結果、過酷な条件で使用される場合でも、図16に示した従来の半導体センサ1と比べて、半導体センサ11の寿命を延ばすことができ、信頼性を高めることができるものである。
図3は、本発明の第2の実施例に係る半導体部品たる半導体センサ17の構成を示している。この半導体センサ17が上記第1の実施例の半導体センサ11と異なる点は、半導体素子12の表面(上面)の開口部14aの周囲部に位置して形成される凹凸部としての3本の凹溝部18の形状にあり、ここでは、図3(b)に拡大して示すように、凹溝部18の断面形状を逆テーパ状としている。尚、この凹溝部18は、RIE(反応性イオンエッチング)を用いた微細加工技術により形成することができる。
上記構成においては、逆テーパ状の凹溝部18内にモールド樹脂が入り込んでいることによって、開口部14aの周囲部に位置するモールド樹脂層14の半導体素子12の表面に対する接合強度をより一層高めることができ、その部分のモールド樹脂層14の剥離の発生防止効果により一層優れたものとなる。
尚、本発明にいう凹凸部とは、上記のように半導体素子12の表面をパターニングすることにより、規則的な凹凸を設けたものである。パターニングにより凹凸を設ける場合、半導体素子12の基板自体をエッチングしたり、表面保護膜をエッチングすることに加え、表面に新たな材料を設けた上でエッチングしたりすることもできる。凹凸部の形状としては、他にも、ドット状、線状、格子溝状、縦横斜めの溝状とすることができる。また、凹凸部は開口部14aの周囲部の全周にわたって形成しても良いし、周囲部の一部に形成しても良い。図示しないが、半導体素子12の検出部12aと電極部12bとを結ぶ配線部のみ凹凸部を設けないようにしてもよい。
(2)第1の参考例
次に、第1の参考例について、図4を参照しながら述べる。尚、以下に述べる各参考例においては、やはり、本発明を上記第1の実施例と同様の自動車用の半導体センサに適用したものであり、従って、上記第1の実施例と同一部分には同一符号を付して詳しい説明を省略し、以下、第1の実施例と相違する点について述べることとする。
この第1の参考例に係る半導体部品たる半導体センサ21が、上記第1の実施例の半導体センサ11と異なる点は、半導体素子12に凹溝部16を設けることに代えて、半導体素子12の表面の開口部14aの周囲部と、モールド樹脂層14との界面に、接着材料22を配置したところにある。この接着材料22は、半導体素子12とモールド樹脂層14との中間の線膨張係数を有する接着剤からなり、例えば、フィラー入りのエポキシ接着剤や、セラミック接着剤等を採用することができる。
前記接着材料22を設けるにあたっては、半導体素子12の表面の、検出部12aと電極部12bとの間の部分に位置して、液状の接着材料22を塗布しておき、その状態で、樹脂モールドの工程を実行することにより、モールド成型時の熱により、接着材料22が半導体素子12とモールド樹脂層14との双方に接着するようになる。あるいは、フィルム状に成形されている接着材料22を、半導体素子12の表面に密着させておき、樹脂モールドの工程を実行するようにしても良い。
上記構成においては、開口部14aの周囲部に位置するモールド樹脂層14と、半導体素子12の表面との間に接着材料22が配置されることにより、モールド樹脂層14と半導体素子12の表面との間の接合強度を高めることができ、これと共に、接着材料22が介在されていることとによって、モールド樹脂層14と半導体素子12の表面との間での熱膨張差等に起因する応力を緩和することができる。従って、この第1の参考例によっても、モールド樹脂層14の半導体素子12の表面からの剥離の発生を効果的に防止することができる。
尚、図示はしないが、上記した接着材料22に代えて、モールド樹脂層14よりもヤング率の小さい(例えば1MPa以下)接着材料を配置するようにしても良い。これによれば、モールド樹脂層14と半導体素子12の表面との間の接合強度を高めることができると共に、接着材料を比較的軟質なものとしたことにより、緩衝材としても機能し、モールド樹脂層14と半導体素子12との間での熱膨張、収縮の差を吸収することができる。従って、上記第1の参考例と同様に、モールド樹脂層14の半導体素子12の表面からの剥離の発生を効果的に防止することができる。
(3)第2、第3の参考例
図5は、第2の参考例に係る半導体部品たる半導体センサ31の構成を示しており、この実施例では、半導体素子12の表面の開口部14a(検出部12a)の周囲部に、発熱体32を設けるようにしている。
この発熱体32は、例えば、発熱抵抗体となる金属材料(例えばアルミニウム、金、ポリシリコン等)からなり、半導体素子12の検出部12aの周囲部を、例えば三重に囲むように、四角い螺旋状に延びる線状に形成されている。また、この発熱体32の両端部は、電極部12bに接続状態とされており、外部から通電可能に構成されている。この発熱体32は、半導体センサ11の製造プロセスにおいて、容易に設けることができる。
これによれば、モールド成形後に、前記発熱体32に通電することによって、発熱体32が発熱し、モールド樹脂層14の検出部12aの周囲に位置する部分を加熱して、半導体素子12の表面に対してより強固に接合させることができる。従って、この第2の参考例によっても、モールド樹脂層14の半導体素子12の表面からの剥離の発生を抑制することができる。
図6は、第3の参考例に係る半導体部品たる半導体センサ33の構成を示している。この第3の参考例が上記第2の参考例と異なる点は、発熱体32を設けることに加えて、半導体素子12の表面の開口部14aの周囲部と、モールド樹脂層14との界面に、前記発熱体32の熱を受けるように熱融着材34を配置したところにある。この熱融着剤34は、例えば熱可塑性エラストマからなり、発熱体32の表面部全体を覆うように設けられている。
これによれば、発熱体32の熱により熱融着材34を加熱することによって、モールド樹脂層14と半導体素子12の表面との間をより強固に接合させることができ、開口部14aの周囲部に位置するモールド樹脂層14の半導体素子12の表面からの剥離の発生をより効果的に防止することができる。尚、熱融着剤34としては、他にも、例えばPFA(四フッ化エチレン・パーフルオロアルコキシエチレン)、FEP(四フッ化エチレン・六フッ化エチレン共重合体)、ポリエステル等を採用することができる。
(4)第4の参考例
図7は、第4の参考例に係る半導体部品たる半導体センサ41の構成を示している。この半導体センサ41は、半導体素子12の表面のうち前記電気接続部部分、つまり、電極部12b、及び、ボンディングワイヤ15、並びにリード部13bのボンディングワイヤ15の接続部部分を覆うように、半導体素子12の表面材料と化学的に融合する保護材料42によりモールドし、その上で、モールド樹脂層14が形成されている。
このとき、前記保護材料42として、半導体素子12の表面の酸化膜と化学的に融合するガラスが採用されている。この半導体センサ41を製造するにあたっては、まず、リードフレーム13のダイパッド部13aに半導体素子12を接着し、半導体素子12の表面の各電極部12bとリードフレーム13の各リード部13bとをボンディングワイヤ15により接続した後、保護材料42を設ける工程が実行される。次いで、モールド樹脂層14を形成する樹脂モールドの工程が実行される。
この構成によれば、半導体素子12の表面のうち電気接続部部分が、ガラスからなる保護材料42でモールドされているので、仮に、モールド樹脂層14に剥離や亀裂が生じても、その剥離や亀裂は保護材料42部分で止まるようになる。この場合、保護材料42は、半導体素子12の表面に強固に接合されているので、この部分に剥離が生ずることもない。従って、本参考例によれば、モールド樹脂層14に発生した剥離や亀裂が、半導体素子12の電気接続部部分まで進展することを未然に防止することができる。
(5)第5、第6の参考例
図8は、第5の参考例に係る半導体部品たる半導体センサ51の構成を示している。また、図9は、第6の参考例に係る半導体部品たる半導体センサ53の構成を示している。これら第5及び第6の参考例では、モールド樹脂層52、54の開口部52a、54aを形成する内周部分の,半導体素子12の表面との接触端部52b、54bを、鋭角形状に構成したところを特徴としている。
即ち、図8に示す半導体センサ51においては、モールド樹脂層52の接触端部52bをいわゆるR形状とすることにより、なだらかに鋭角となる形状とされている。また、図9に示す半導体センサ53においては、モールド樹脂層54の接触端部54bをいわゆるひれ状構造とすることにより、なだらかに鋭角となる形状とされている。これら各接触端部52b、54bの形状は、モールド金型(上型)のキャビティ形状により、容易に形成することができる。
これら第5及び第6の参考例によれば、モールド樹脂層52、54の接触端部52b、54bが鋭角状とされていることにより、接触端部2b、54bが例えば垂直に近い形状とされるものと比べて、モールド樹脂層52、54の開口部52a、54aの、半導体素子12の表面との界面に発生する応力を緩和することができ、開口部52a、54aの周囲部に位置するモールド樹脂層52、54の半導体素子12の表面からの剥離の発生を抑制することができる。しかも、別の材料や複雑な工程を必要とせず、モールド樹脂層52、54の形状のみによって剥離の発生を防止することができるので、簡単で安価な構成で済ませることができる。
(6)第7の参考例
図10は、第7の参考例に係る半導体部品たる半導体センサ61の構成を示している。この参考例では、モールド樹脂層14の開口部14aの周囲部と半導体素子12とを上下方向に締付けるための締付部材62を設けるようにしているこの締付部材62は、例えば金属ばね材料から側面C字状(コ字状)をなすように構成され、Oリング63を介在させて、半導体センサ61の図で左右2箇所に設けるようにしている。
これによれば、締付部材62,62による機械的な締付け力によって、モールド樹脂層14の剥離や亀裂の発生を防止することができる。尚、締付部材としては、様々な構造、形状のものを採用することが可能であり、例えば、モールド樹脂層14の上下に配置される2部材をねじにより締付けるような構成も可能である。
(7)第3〜第5の実施例
図11は、本発明の第3の実施例請求項2,3に対応)に係る半導体部品たる半導体センサ71の構成を示している。図示は省略しているが、この実施例でも、上記第1、第2の実施例のように、半導体素子12の上面の、モールド樹脂層14の開口部14aの周囲部に位置して、凹凸部としての凹溝部が形成されている。そして、この実施例では、少なくとも、モールド樹脂層14の開口部14aの内周部と、半導体素子12の表面の露出部分との境界面部分を、被覆材72により被覆するようにしており、ここでは、被覆材72により、前記モールド樹脂層14の表面部及び前記半導体素子12の表面の露出部分の全体が被覆されている。
このとき、前記被覆材72としては、撥水性、撥油性、絶縁防湿性、耐薬品性、耐浸透性、防汚性に優れた、テフロン(登録商標)等のフッ素系コーティング材が採用されている。また、この被覆材72は、例えば、固体原料のスパッタリングにより形成したり、液状ものを、スプレー或いは浸漬等により塗布し、その後硬化させることにより形成することができる。
この構成によれば、モールド樹脂層14と半導体素子12との境界面部分が被覆材72により被覆されるので、もし、熱膨張差等に起因してモールド樹脂層14に剥離や亀裂が発生しても、境界部分から腐食・劣化成分が剥離や亀裂の内部に侵入することを防止することができ、剥離や亀裂のそれ以上の進展を抑えることができる。この場合、半導体素子12の上面に凹凸部を形成した構成との相乗効果が得られ、より一層効果的となる。また、半導体素子12の露出面部分(検出部12a)をも被覆材72により覆われることにより、検出部12aの保護を図ることができる。
尚、この場合、被覆材72の材料としては、他にも、透光性に優れた材料、抵抗率や誘電率の高い材料など、半導体センサ71の用途(検出部12aにおける検出対象)に応じて選定することができる。
図12は、本発明の第4の実施例請求項2に対応)に係る半導体部品たる半導体センサ73の構成を示している。この半導体センサ73は、上記第3の実施例の被覆材72に代えて、モールド樹脂層14の開口部14aの内周部と、半導体素子12の表面の露出部分との境界面部分を、被覆材74により被覆するようにしており、ここでは、被覆材74は半導体素子12の表面の検出部12aを除く部分に設けられている。
図13は、本発明の第5の実施例請求項2に対応)に係る半導体部品たる半導体センサ75の構成を示している。この半導体センサ75は、上記第3の実施例の被覆材72に代えて、モールド樹脂層14の開口部14aの内周部と、半導体素子12の表面の露出部分との境界面部分のみ、被覆材76により被覆するようにしている。
これら図12、図13の構成においても、少なくともモールド樹脂層14と半導体素子12との境界面部分が被覆材74,76により被覆されるので、もし、熱膨張差等に起因してモールド樹脂層14に剥離や亀裂が発生しても、境界部分から腐食・劣化成分が剥離や亀裂の内部に侵入することを防止することができ、剥離や亀裂のそれ以上の進展を抑えることができる。
(8)第8、第9の参考例、その他の実施例
図14は、第8の参考例に係る半導体部品たる半導体センサ81の構成を示している。この参考例では、半導体素子12の表面の開口部14aの周囲部と、モールド樹脂層14との界面に、検出部12aの外側を囲むように空洞部82を設けるようにしている。この場合、前記空洞部82は、モールド樹脂層14内に半導体素子12の表面に接するように気泡を設けることにより構成されており、図14(b)に示すように、モールド樹脂層14の樹脂材料が鋭角的に半導体素子12の表面に接するようになっている。
これによれば、空洞部82を設けたことにより、モールド樹脂層14の一部の剛性が小さくなり、モールド樹脂層14と半導体素子12の表面との間での熱膨張差等に起因する応力の緩和を図ることができ、剥離や亀裂の発生を抑制することができる。しかも、もし、モールド樹脂層14に剥離や亀裂が発生しても、その剥離や亀裂が空洞部82に至ったところで、それ以上の進展を抑えることができる。
図15は、第9の参考例に係る半導体部品たる半導体センサ83の構成を示している。この半導体センサ83も、半導体素子12の表面の開口部14aの周囲部と、モールド樹脂層14との界面に、空洞部84が設けられているのであるが、このとき、空洞部84は、半導体素子12の表面に凹部(溝部)85を形成し、この凹部85全体を埋めることがないようにモールド樹脂層14を設けることにより形成されている。
これによれば、上記第8の参考例と同様に、空洞部84を設けたことにより、モールド樹脂層14と半導体素子12の表面との間での熱膨張差等に起因する応力の緩和を図ることができ、剥離や亀裂の発生を抑制することができ、また、モールド樹脂層14に剥離や亀裂が発生した場合でも、その剥離や亀裂の進展を抑えることができる。さらには、空洞部84の形成が比較的容易となり、また、モールド樹脂層14のアンカー効果も見込むことができるといった利点も得ることができる。
尚、空洞部の形態としては、上記第8、第9の参考例のものに限定されず、例えばモールド樹脂層14内の界面の近傍部分に多数個の気泡を設けるようにしても良く、同様の作用・効果を得ることができる。
の他、本発明は、リードフレーム13やボンディングワイヤ15を用いたものに限定されず、例えば、合成樹脂製の基板やセラミック基板、ヒートシンクなどに半導体素子を装着した状態で、樹脂モールドするようにしたもの等の、モールド樹脂層に開口部を形成するようにした半導体部品全般に適用することができるなど、要旨を逸脱しない範囲内で適宜変更して実施し得るものである。
本発明の第1の実施例を示すもので、半導体センサの全体構成を示す縦断正面図 半導体素子の平面図 本発明の第2の実施例を示す半導体センサの縦断正面図(a)及びそのB部の拡大断面図(b) 第1の参考例を示す図3相当図 第2の参考例を示す図3相当図 第3の参考例を示す図3相当図 第4の参考例を示す図1相当図 第5の参考例を示す図3相当図 第6の参考例を示す図3相当図 第7の参考例を示す図1相当図 本発明の第3の実施例を示す図1相当図 本発明の第4の実施例を示す図1相当図 本発明の第5の実施例を示す図1相当図 第8の参考例を示す図3相当図 第9の参考例を示す図3相当図 従来例を示す図1相当図
図面中、11,17,21,31,33,41,51,53,61,71,73,75,81,83は半導体センサ(半導体部品)、12は半導体素子、12aは検出部、12bは電極部、13はリードフレーム、14,52,54はモールド樹脂層、15はボンディングワイヤ、16,18は凹溝部(凹凸部)、22は接着材料、32は発熱体、34は熱融着材、42は保護材料、62は締付治具、72,74,76は被覆材、82,84は空洞部を示す。

Claims (2)

  1. 半導体素子をモールド樹脂層によりモールドしてなると共に、前記モールド樹脂層に、前記半導体素子の表面に設けられた検出部を環境雰囲気に露出させる開口部を形成してなる半導体部品において、
    前記半導体素子の前記検出部が設けられた面には、前記開口部の周囲部に位置して、ドット状、線状、格子溝状、縦横斜めの溝状のいずれかからなる規則的な凹凸形状を有する凹凸部が形成されていることを特徴とする半導体部品。
  2. 少なくとも、前記モールド樹脂層の前記開口部の内周部と、前記半導体素子の前記検出部が設けられた面の露出部分との境界面部分を、被覆材で被覆したことを特徴とする請求項1記載の半導体部品。
JP2007215977A 2007-08-22 2007-08-22 半導体部品 Expired - Fee Related JP4450031B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007215977A JP4450031B2 (ja) 2007-08-22 2007-08-22 半導体部品
US12/222,558 US7906859B2 (en) 2007-08-22 2008-08-12 Semiconductor device
BRPI0803701A BRPI0803701B1 (pt) 2007-08-22 2008-08-19 dispositivo semicondutor
DE102008039068A DE102008039068A1 (de) 2007-08-22 2008-08-21 Halbleitervorrichtung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007215977A JP4450031B2 (ja) 2007-08-22 2007-08-22 半導体部品

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009049298A JP2009049298A (ja) 2009-03-05
JP4450031B2 true JP4450031B2 (ja) 2010-04-14

Family

ID=40280430

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007215977A Expired - Fee Related JP4450031B2 (ja) 2007-08-22 2007-08-22 半導体部品

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7906859B2 (ja)
JP (1) JP4450031B2 (ja)
BR (1) BRPI0803701B1 (ja)
DE (1) DE102008039068A1 (ja)

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7993972B2 (en) * 2008-03-04 2011-08-09 Stats Chippac, Ltd. Wafer level die integration and method therefor
EP2366993A1 (en) * 2010-03-08 2011-09-21 Nxp B.V. A sensor and a method of assembling a sensor
WO2012049742A1 (ja) * 2010-10-13 2012-04-19 日立オートモティブシステムズ株式会社 流量センサおよびその製造方法並びに流量センサモジュールおよびその製造方法
DE102011004381A1 (de) * 2011-02-18 2012-08-23 Robert Bosch Gmbh Moldmodul mit Sensorelement
DE102011013468A1 (de) * 2011-03-09 2012-09-13 Micronas Gmbh Halbleitergehäuse und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitergehäuses
JP5441956B2 (ja) * 2011-05-26 2014-03-12 三菱電機株式会社 樹脂封止形電子制御装置及びその製造方法
US8759153B2 (en) 2011-09-06 2014-06-24 Infineon Technologies Ag Method for making a sensor device using a graphene layer
EP2573804A1 (en) * 2011-09-21 2013-03-27 Nxp B.V. Integrated circuit with sensor and manufacturing method thereof
US8828207B2 (en) * 2012-06-13 2014-09-09 Honeywell International Inc. Deep sea pH sensor
DE102012011794A1 (de) 2012-06-15 2013-12-19 Phoenix Contact Gmbh & Co. Kg Elektrische Anschlussklemme
JP5675716B2 (ja) 2012-06-29 2015-02-25 日立オートモティブシステムズ株式会社 熱式空気流量センサ
ITTO20120854A1 (it) * 2012-09-28 2014-03-29 Stmicroelectronics Malta Ltd Contenitore a montaggio superficiale perfezionato per un dispositivo integrato a semiconduttori, relativo assemblaggio e procedimento di fabbricazione
US9184066B2 (en) * 2012-11-16 2015-11-10 Infineon Technologies Ag Chip arrangements and methods for manufacturing a chip arrangement
JP6018903B2 (ja) 2012-12-17 2016-11-02 日立オートモティブシステムズ株式会社 物理量センサ
JP2016029676A (ja) 2012-12-19 2016-03-03 富士電機株式会社 半導体装置
JP6063777B2 (ja) * 2013-03-04 2017-01-18 日立オートモティブシステムズ株式会社 センサ装置
JP6210818B2 (ja) * 2013-09-30 2017-10-11 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP6264193B2 (ja) * 2013-10-07 2018-01-24 株式会社デンソー モールドパッケージ
JP5910653B2 (ja) 2014-03-18 2016-04-27 トヨタ自動車株式会社 放熱板付きリードフレーム、放熱板付きリードフレームの製造方法、半導体装置、および半導体装置の製造方法
EP2765410B1 (en) * 2014-06-06 2023-02-22 Sensirion AG Gas sensor package
CN104201116B (zh) 2014-09-12 2018-04-20 苏州晶方半导体科技股份有限公司 指纹识别芯片封装方法和封装结构
EP3045909B1 (en) 2015-01-14 2020-11-04 Sensirion AG Sensor package
US9470652B1 (en) * 2015-09-15 2016-10-18 Freescale Semiconductor, Inc. Sensing field effect transistor devices and method of their manufacture
US10750071B2 (en) * 2016-03-12 2020-08-18 Ningbo Sunny Opotech Co., Ltd. Camera module with lens array arrangement, circuit board assembly, and image sensor and manufacturing method thereof
WO2017157015A1 (zh) * 2016-03-12 2017-09-21 宁波舜宇光电信息有限公司 阵列摄像模组及其模塑感光组件和制造方法以及电子设备
GB201608758D0 (en) * 2016-05-18 2016-06-29 Dnae Group Holdings Ltd Improvements in or relating to packaging for integrated circuits
JP6528732B2 (ja) * 2016-06-20 2019-06-12 株式会社デンソー 流量センサ
US10229865B2 (en) * 2016-06-23 2019-03-12 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Fan-out semiconductor package
CN107799476B (zh) * 2016-09-02 2019-12-13 胜丽国际股份有限公司 具有挡止件的封装基板及感测器封装结构
EP3519801A1 (en) * 2016-09-29 2019-08-07 IDT Europe GmbH Hydrophobic and oleophobic cover for gas sensing module
US11843009B2 (en) * 2017-08-18 2023-12-12 Ningbo Sunny Opotech Co., Ltd. Photosensitive assembly, imaging module, smart terminal, and method and mould for manufacturing photosensitive assembly
KR102466332B1 (ko) 2018-01-02 2022-11-15 삼성전자주식회사 가스 센서 패키지
JPWO2020012810A1 (ja) * 2018-07-11 2021-07-08 住友電気工業株式会社 炭化珪素半導体装置
WO2020038139A1 (zh) 2018-08-21 2020-02-27 宁波舜宇光电信息有限公司 摄像模组和模塑感光组件及其制造方法以及电子设备
KR102248527B1 (ko) * 2019-05-02 2021-05-06 삼성전기주식회사 이미지 센서 패키지
CN113266491A (zh) * 2021-05-19 2021-08-17 天津大学 一种提高内燃机燃料利用效率的方法及内燃机
CN113299566B (zh) * 2021-05-20 2023-01-24 合肥速芯微电子有限责任公司 封装结构及其制备方法
US20230067313A1 (en) * 2021-08-31 2023-03-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Package structure and method of forming the same
CN115985859A (zh) * 2021-10-14 2023-04-18 恩智浦美国有限公司 形成于半导体封装模塑料中的腔和形成方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2598161B2 (ja) 1990-10-03 1997-04-09 三菱電機株式会社 中空型半導体装置の樹脂封止方法
JPH05136298A (ja) 1991-11-14 1993-06-01 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法
JPH05183072A (ja) 1991-12-26 1993-07-23 Olympus Optical Co Ltd 半導体装置
JPH0685132A (ja) 1992-09-07 1994-03-25 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP3179970B2 (ja) 1994-07-14 2001-06-25 株式会社東芝 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JP3274963B2 (ja) 1996-04-19 2002-04-15 株式会社日立製作所 半導体装置
JP3483720B2 (ja) 1997-02-12 2004-01-06 沖電気工業株式会社 半導体装置
DE10346474B4 (de) * 2003-10-02 2014-07-10 Infineon Technologies Ag Sensorbauteil mit einem Sensorchip, Sensorstapel und Verfahren zum Prüfen einer biochemischen Probe
JP2005203431A (ja) 2004-01-13 2005-07-28 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 合成樹脂モールドパッケージの製造方法
US20060053850A1 (en) * 2004-09-14 2006-03-16 Bioarts Industria E Comercio De Biotechnologia Ltda. Package for storing a formulate liquid inoculating solution containing rhizobia and process for growing rhizobia in it
EP2463910A3 (en) * 2005-03-25 2012-08-15 Fujifilm Corporation Manufacturing method of a solid state imaging device
WO2006101274A1 (en) 2005-03-25 2006-09-28 Fujifilm Corporation Method of manufacturing solid state imaging device

Also Published As

Publication number Publication date
US7906859B2 (en) 2011-03-15
DE102008039068A1 (de) 2009-02-26
BRPI0803701A2 (pt) 2009-10-20
US20090051052A1 (en) 2009-02-26
JP2009049298A (ja) 2009-03-05
BRPI0803701B1 (pt) 2019-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4450031B2 (ja) 半導体部品
US20130056883A1 (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
JP6357535B2 (ja) センサおよびその製造方法
US10727152B2 (en) Semiconductor apparatus
KR20140127900A (ko) 제1금속 부품과 피복된 제2 금속 부품과의 연결장치
JP2008294275A (ja) 電力半導体装置
JP2006220456A (ja) 圧力センサおよびその製造方法
CN105431952A (zh) 光电组件以及用于生产所述光电组件的方法
JP6057748B2 (ja) パワーモジュールおよびパワーモジュールの製造方法
JP2012033884A (ja) 半導体装置用パッケージおよびその製造方法ならびに半導体装置
US20120313484A1 (en) Ultrasonic sensor
JP2009212501A (ja) 発光デバイス及びその製造方法
JP6538959B2 (ja) 多部分から成る装置ならびにこの多部分から成る装置を製造する方法
JP2021072329A5 (ja)
JP4635963B2 (ja) 電気回路装置
JPH02276280A (ja) 圧電積層体
JP5023792B2 (ja) 半導体圧力センサ装置
JP7014821B2 (ja) 試料保持具
US20160260657A1 (en) Method of manufacturing semiconductor package and semiconductor package
JP2006086342A (ja) 樹脂封入型半導体装置
CN108811409B (zh) 电子机器
JP6944341B2 (ja) 温度センサ及びその製造方法
JP2005071139A (ja) 防水型火災感知器及びその製造方法
JP4269487B2 (ja) 圧力センサの製造方法
JP6465347B2 (ja) 樹脂封止型電子部品

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081224

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090714

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090721

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090910

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091027

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091203

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100105

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100118

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4450031

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140205

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees