JP4441472B2 - 陽イオン交換樹脂の含有金属不純物量低減方法 - Google Patents
陽イオン交換樹脂の含有金属不純物量低減方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4441472B2 JP4441472B2 JP2005309122A JP2005309122A JP4441472B2 JP 4441472 B2 JP4441472 B2 JP 4441472B2 JP 2005309122 A JP2005309122 A JP 2005309122A JP 2005309122 A JP2005309122 A JP 2005309122A JP 4441472 B2 JP4441472 B2 JP 4441472B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exchange resin
- ion exchange
- metal impurities
- liquid
- amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 144
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 118
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 118
- 239000012535 impurity Substances 0.000 title claims description 113
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 title claims description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 41
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 37
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 25
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 25
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 14
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 14
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 13
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims description 13
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 6
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 5
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 135
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 135
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 87
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 47
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 22
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 16
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- -1 ICs Substances 0.000 description 7
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 7
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 6
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 5
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 229920011301 perfluoro alkoxyl alkane Polymers 0.000 description 5
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001780 ECTFE Polymers 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 229940023913 cation exchange resins Drugs 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 2
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Natural products OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011538 cleaning material Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229920013653 perfluoroalkoxyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 1
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
Description
本発明は、イオン交換樹脂、イオン交換樹脂カラム、イオン交換樹脂の含有金属量低減方法、精製装置、及び精製方法に係り、特に塩酸等の鉱酸溶液を用いて含有金属量を低減させたイオン交換樹脂、及びそのイオン交換樹脂を用いて工業用水等の被処理液を精製する精製装置等に関する。本発明は、ＩＣ、液晶表示素子、撮像素子、各種記録メディア等の電子工業製品の製造に用いる電子材料等、洗浄水、薬液等の精製に好適である。
ＩＣ（半導体集積回路）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、撮像素子（ＣＣＤ、ＣＭＯＳ）等の電子部品やＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等の各種記録メディア等（これらを総称して電子工業製品という。）の製造工程においては種々の薬液、溶解溶剤、電子材料（例えば液状のもの）、電子材料の原料や溶解溶剤、洗浄水等（これらを総称して製造用液という。）が使用される。近年の電子工業製品の高性能化・高品質化に伴ってこれらの製造用液、電子材料の原料やその溶解溶剤に対しても高純度化の要求が高まってきている。
この製造用液に金属（ナトリウム（Ｎａ）、カルシウム（Ｃａ）、マグネシウム（Ｍｇ）、鉄（Ｆｅ）等）のイオン性不純物（これらを総称して金属不純物イオンという。）が含まれていると、電子工業製品の性能や品質に重大な影響を及ぼす。そのため、製造用液には不純物（特に、金属）の含有量が極めて低いこと、すなわち高純度であることが必要とされる。例えば、超純水においては１ｐｐｔ以下程度、その他の薬液等においても１０ｐｐｂ以下程度の金属含有量であることが要求される。
そのため、これらの製造用液は精製によって金属不純物の除去が行われたうえで電子工業製品の製造に用いられるが、その精製に際しては従来よりイオン交換樹脂が使用されている。イオン交換樹脂は、水中及び水以外の液状物質中においてイオン交換能力を有しており、そのイオン交換能力により水及び液状物質内に含まれる金属不純物を除去することができる。また、固体であっても、溶媒に溶解して液状とすることによって金属不純物を低減し、さらに必要に応じて溶媒を取り除いて精製した固体とすることが可能である。
しかし、イオン交換樹脂中にも微量ながら金属不純物が含有されている。そのため、イオン交換樹脂を用いて製造用液を精製する際に、このイオン交換樹脂中の金属不純物が製造用液中に溶出してしまう場合がある。この溶出する金属不純物が製造用液中の金属イオン量を増大させてしまうと、高純度の製造用液が得られなくなってしまうという問題がある。
特に、水以外の薬液や溶解溶剤等の製造用液はイオン交換樹脂とのイオン交換反応の速度が遅いため、イオン交換樹脂での精製を非常に低い流速、例えばＳＶ５程度で行う必要がある。そのため、イオン交換樹脂からの金属不純物の溶出の影響を受けやすくなってしまう。ここにおいて、ＳＶは空間速度（Ｓｐａｃｅ Ｖｅｌｏｃｉｔｙ）を意味し、例えば、ｈ−１（単位時間・単位イオン交換樹脂体積当たりの通過液体積）の単位で表される。
そこで例えば、特許文献１，２に開示のもののように、イオン交換樹脂に鉱酸水溶液を通液させて含有金属不純物量を低減させる方法が提案されている。
特開平１１−１７１５０８号公報
特表平８−５０３９８３号公報
しかしながら、通液させる鉱酸水溶液自体に金属不純物が含まれていると、イオン交換樹脂内の金属不純物を低減させることができないばかりか、逆にイオン交換樹脂に鉱酸水溶液中の金属不純物を吸着させ増大させてしまう場合がある。それにより、鉱酸水溶液通液後のイオン交換樹脂を使用することによって、却って製造用液中に多量の金属物質等を溶出させてしまうという問題がある。特に、ナトリウム（Ｎａ）、カルシウム（Ｃａ）、マグネシウム（Ｍｇ）、鉄（Ｆｅ）は、他の金属に比較してイオン交換樹脂内での含有量が多く、鉱酸水溶液の通液によっても含有量の低減が困難である。
本発明は上記の事情に鑑みて為されたもので、イオン交換樹脂内の金属不純物の含有量を確実に低減し、このイオン交換樹脂により精製される製造用液中への金属不純物溶出量を低減し、ひいては含有金属不純物量の少ない高純度の製造用液を得ることができるイオン交換樹脂の含有金属不純物低減方法、その方法により製造されたイオン交換樹脂、イオン交換樹脂カラム、そのイオン交換樹脂を用いた精製装置、及び精製方法を提供することを例示的課題とする。
上記の課題を解決するために、本発明の例示的側面としてのイオン交換樹脂は、含有金属不純物量が１ｍｇ／ｌ以下でかつ濃度が５％以上の鉱酸溶液にＨ形陽イオン交換樹脂を接触させることにより、濃度３％の塩酸を体積比２５倍量で通過させたときに溶出する全金属不純物量を５μｇ／ｍｌ−Ｒ以下としたことを特徴とする。
含有金属不純物量が極めて少ない鉱酸溶液に接触させることにより、確実かつ効果的にイオン交換樹脂内の金属不純物量を低減することができ、溶出金属不純物の少ないイオン交換樹脂を得ることができる。したがって、このイオン交換樹脂を用いて製造用液等の被処理液を精製することにより、含有金属不純物の少ない高純度の被処理液を得ることができる。
鉱酸溶液中の含有金属不純物量は１ｍｇ／ｌ以下であることが必要であるが、０．５ｍｇ／ｌ以下であることが好ましく、０．２ｍｇ／ｌ以下であることはさらに好ましい。また、鉱酸溶液の濃度は１０％以上であればさらに好ましく、５％未満の場合は充分なイオン交換樹脂内の金属不純物低減効果を得ることができない。
なお、ここで金属不純物とは金属不純物イオンをも含む概念であり、代表的なものとして例えばＮａ，Ｍｇ，Ｆｅ等が挙げられる。鉱酸溶液としては水溶液が望ましく、例えば塩酸溶液、硫酸溶液、硝酸溶液等が考えられる。また、「体積比２５倍量」とは、イオン交換樹脂の体積に対して２５倍の体積の塩酸（濃度３％）を通過させることを意味する。単位「／ｍｌ−Ｒ」は、「水膨潤状態におけるイオン交換樹脂の体積１ｍｌ当たり」を意味する。「鉱酸溶液に接触させる」は、イオン交換樹脂に鉱酸溶液を通過させることのほか、イオン交換樹脂を鉱酸溶液中に浸漬すること等も含む。
イオン交換樹脂としては、例えば、強酸性陽イオン交換樹脂、弱酸性陽イオン交換樹脂、強塩基性陰イオン交換樹脂、弱塩基性陰イオン交換樹脂、キレート樹脂等が考えられる。
鉱酸溶液におけるナトリウム（Ｎａ），カルシウム（Ｃａ），マグネシウム（Ｍｇ），及び鉄（Ｆｅ）の各含有量がそれぞれ２００μｇ／ｌ以下であることが望ましい。これらの金属不純物含有量が少ない鉱酸溶液をイオン交換樹脂に接触させることにより、確実かつ効果的にイオン交換樹脂内のＮａ，Ｃａ，Ｍｇ，Ｆｅの含有量を低減させることができる。
溶出する金属不純物が、ナトリウム（Ｎａ），カルシウム（Ｃａ），マグネシウム（Ｍｇ），又は鉄（Ｆｅ）のうち少なくともいずれか１の金属を含んでもよい。これらの金属を含む全金属不純物溶出量を５μｇ／ｍｌ−Ｒ以下とすることにより、このイオン交換樹脂を被処理液の精製に用いた場合のイオン交換樹脂から被処理液中へのこれら金属不純物の溶出量を低減することができる。
イオン交換樹脂を、鉱酸溶液に接触させた後に純水又は超純水で洗浄することが望ましい。鉱酸溶液を除去する際、金属不純物の再汚染を防止することができる。
水分含有率を３０％以下としてもよい。水分含有率を低減する方法としては、減圧乾燥、棚式乾燥、熱風乾燥等の公知の乾燥方法を利用することができる。これにより、例えば有機性の被処理液や非極性溶液のように水分混入が望ましくない被処理液の精製にこのイオン交換樹脂を適用することが可能となる。イオン交換樹脂中の水分量が３０％以上であると、このような被処理液の精製時に、被処理液中に水分が溶出したり、水分が障壁となってイオン交換反応が充分に行われなくなってしまう。したがって、イオン交換樹脂中の水分含有率は３０％以下、より好ましくは１０％以下とされるのがよい。
本発明の他の例示的側面としてのイオン交換樹脂カラムは、上記のイオン交換樹脂と、供給口と排出口と収納室とを有してかつ供給口から給水された被処理液が収納室内に収納されたイオン交換樹脂を通過した後に排出口から排水されるように構成された収納部材と、を有することを特徴とする。
含有金属不純物量が極めて少ない鉱酸溶液に接触させることで、内部の金属不純物量を低減させたイオン交換樹脂を用いてイオン交換樹脂カラムを構成することにより、このイオン交換樹脂カラムを使用した被処理液の精製において、被処理液中への金属不純物溶出を低減することができる。それにより、含有金属不純物の少ない高純度の被処理液を得ることができる。
ここにおいて、被処理液は、イオン交換樹脂により精製される製造用液等の液体を意味し、電子工業製品の製造に用いられる薬液、溶剤、電子材料等（電子材料そのものの他、電子材料の原料やそれらの溶解溶剤を含む）、洗浄水等が含まれる。
薬液には、過酸化水素、塩酸、フッ化水素酸、燐酸、酢酸、水酸化テトラメチルアンモニウム、フッ化アンモニウム水溶液等が含まれる。溶剤には、アセトン、２−ブタノン、酢酸−ｎ−ブチル、エタノール、メタノール、２−プロパノール、トルエン、キシレン、酢酸プロピレングリコールメチルエーテル、Ｎ−メチル２−ピロリジノン、乳酸エチル、フェノール化合物、ジメチルスルホキシド、テトラヒドラフラン、γ−ブチルラクトン等が含まれる。
電子材料等としては、半導体関連材料（レジスト、剥離剤、反射防止膜、層間絶縁膜塗布剤、バッファコート膜用塗布剤等）、ＦＰＤ材料（液晶用フォトレジスト、カラーフィルター用材料、配向膜、封止材、液晶ミクスチャー、偏光板、反射板、オーバーコート剤、スペーサー等）等が含まれる。洗浄水には、半導体基板、液晶用基板の洗浄に用いられる超純水等が含まれる。
本発明のさらに他の例示的側面としての精製装置は、上記のイオン交換樹脂カラムと、被処理液をイオン交換樹脂カラムに向けて導くポンプと、を有することを特徴とする。
含有金属不純物量が低減されたイオン交換樹脂を用いたイオン交換樹脂カラムに被処理液を導いて精製することにより、被処理液中への金属不純物溶出を低減することができる。それにより、含有金属不純物の少ない高純度の被処理液を得ることができる。
この精製装置が、被処理液中に含有される不純物微粒子を除去するためのフィルターをさらに有すると、被処理液中の溶出金属不純物のみならず、不純物微粒子も低減することができ、よりいっそう高純度な被処理液を得ることができる。
イオン交換樹脂カラム及びポンプが被処理液に接する接液部が、フッ素系樹脂、ポリプロピレン樹脂、又はポリエチレン樹脂のうち少なくともいずれか１により構成されていてもよい。これにより、接液部から被処理液への金属不純物溶出等の悪影響を防止することができ、この精製装置を用いた精製により金属不純物含有量の少ない高純度の被処理液を得ることができる。なお、フッ素系樹脂としては、ＰＴＦＥ（四フッ化エチレン樹脂）、ＰＦＡ（四フッ化エチレン・パーフルオロアルコキシエチレン共重合樹脂）、ＥＴＦＥ（四フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂）、ＦＥＰ（四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合樹脂）、ＰＶＤＦ（ビニリデンフロオライド樹脂）、ＥＣＴＦＥ（エチレン−クロロトリフルオエチレン樹脂）、ＰＣＴＦＥ（クロロトリフルオロエチレン樹脂）、ＰＶＦ（ビニルフルオライド樹脂）等が考えられる。
本発明のさらに他の例示的側面としてのイオン交換樹脂の含有金属不純物低減方法は、含有金属不純物量が１ｍｇ／ｌ以下でかつ濃度が５％以上の鉱酸溶液にＨ形陽イオン交換樹脂を接触させることにより、濃度３％の塩酸を体積比２５倍量で通過させたときに溶出する全金属不純物量を５μｇ／ｍｌ−Ｒ以下とすることを特徴とする。
含有金属不純物量が極めて少ない鉱酸溶液に接触させることにより、確実かつ効果的にイオン交換樹脂内の金属不純物量を低減することができ、溶出金属不純物の少ないイオン交換樹脂を得ることができる。したがって、このイオン交換樹脂を用いて製造用液等の被処理液を精製することにより、含有金属不純物の少ない高純度の被処理液を得ることができる。
本発明のさらに他の例示的側面としての精製方法は、被処理液をポンプによってイオン交換樹脂カラムに向けて導き、イオン交換樹脂カラムの収納部材内に収納された上記のイオン交換樹脂に被処理液を通過させ、被処理液内に含有される金属不純物量を低減させることを特徴とする。
含有金属不純物量が低減されたイオン交換樹脂が収納部材内に収納されたイオン交換樹脂カラムに被処理液を導いて精製することにより、被処理液中への金属不純物溶出を低減することができる。それにより、含有金属不純物の少ない高純度の被処理液を得ることができる。
本発明の更なる目的又はその他の特徴は、以下添付図面を参照して説明される好ましい実施例によって明らかにされるであろう。
本発明によれば、イオン交換樹脂内の金属物質等の金属不純物の含有量を確実に低減することができる。したがって、このイオン交換樹脂により精製される製造用液等の被処理液中への金属不純物溶出量を低減することができ、ひいては含有金属不純物量の少ない高純度の被処理液を得ることができる。
［実施の形態］
以下、図面を用いて本発明の実施の形態に係るイオン交換樹脂を用いた精製装置Ｓについて説明する。図１は、この精製装置Ｓの全体構成を示す概略ブロック図である。精製装置Ｓは、ポンプ２、イオン交換樹脂カラム３、フィルター４を有して大略構成され、各々が配管部材６によって略直列状に接続されている。
以下、図面を用いて本発明の実施の形態に係るイオン交換樹脂を用いた精製装置Ｓについて説明する。図１は、この精製装置Ｓの全体構成を示す概略ブロック図である。精製装置Ｓは、ポンプ２、イオン交換樹脂カラム３、フィルター４を有して大略構成され、各々が配管部材６によって略直列状に接続されている。
ポンプ２の上流側には原液タンク１が接続されている。原液タンク１内にはイオン交換樹脂カラム３内のイオン交換樹脂７によって精製処理されるべき被処理液１０が貯留されている。この被処理液１０は、例えば種々の薬液、溶解溶剤、洗浄水等（製造用液）である。
ポンプ２は配管部材６によって原液タンク１とイオン交換樹脂カラム３の供給口８ａとに接続されている。ポンプ２を駆動すると、原液タンク１内の被処理液１０がイオン交換樹脂カラム３の供給口８ａに向けて導かれるようになっている。もちろん、ポンプ２は、イオン交換樹脂カラム３とフィルター４との間に設けてもよいし、フィルター４と後述する処理液タンク５との間に設けられてもよい。さらに被処理液１０の精製に必要な流量に応じてポンプ２を配管経路内に複数設けてもよい。
図２は、イオン交換樹脂カラム３の概略構成を示す断面図である。イオン交換樹脂カラム３は、収納部材８とイオン交換樹脂７とを有して大略構成される。収納部材８は、例えばフッ素系樹脂等の樹脂材料によって構成され、被処理液１０を内部に供給するための供給口８ａと外部に排出するために排出口８ｂとを有している。供給口８ａと排出口８ｂとの経路間には収納室８ｃが配置され、内部にイオン交換樹脂７が収納されている。すなわち、供給口８ａから供給された処理液１０がイオン交換樹脂７を通過して排出口８ｂから外部に向けて排出されるようになっており、それによって被処理液１０の精製が行えるようになっている。
イオン交換樹脂７としては、強酸性陽イオン交換樹脂（例えば、アンバーライトＩＲ１２４Ｈ，２００ＣＴＨ）、弱酸性陽イオン交換樹脂（例えば、アンバーライトＩＲＣ７６）、強塩基性陰イオン交換樹脂（例えば、アンバーライトＩＲＡ４０２ＢＬ，ＩＲＡ９００）、弱塩基性陰イオン交換樹脂（例えば、アンバーライトＩＲＡ９６ＳＢ，ＩＲＡ６７）等が必要に応じて再生処理等の前処理が行われたうえで用いられる（括弧内は、いずれもローム・アンド・ハース社の商品名）。
このイオン交換樹脂７は、予め内部の含有金属不純物を低減する処理が施されて含有金属不純物量が極めて少ないものとなっている。すなわち、イオン交換樹脂７を所定物性値に規定された鉱酸溶液１１（図３（ａ）参照）に接触させ、その後に超純水１２（図３（ｂ）参照）で洗浄することによりイオン交換樹脂７の含有金属不純物が低減されている。
図３は、このイオン交換樹脂７に対して含有金属不純物低減処理を行う方法を説明する説明図であって、図３（ａ）は、イオン交換樹脂を鉱酸溶液１１に接触させた様子を示し、図３（ｂ）は、その後にイオン交換樹脂７を超純水１２で洗浄する様子を示している。また、図４は、イオン交換樹脂７に対して含有金属不純物低減処理を行う方法を説明するフローチャートである。
収納部材８の収納室８ｃにイオン交換樹脂７を収納し、供給口８ａから鉱酸溶液１１を供給して排出口８ｂから排出することによって、鉱酸溶液１１をイオン交換樹脂７に通過（通液）させる（Ｓ．１）。鉱酸溶液１１としては、塩酸溶液、硫酸溶液、硝酸溶液等が使用可能であるが、その物性値は含有金属不純物量が１ｍｇ／ｌ以下かつ濃度５％以上であることが必要である。含有金属不純物としては、Ｎａ，Ｃａ，Ｍｇ，Ｆｅ等の金属が代表的であり、これらの金属含有量が、各々２００μｇ／ｌ以下であることが望ましい。
このような金属不純物含有量が少なくかつ濃度が高い鉱酸溶液１１を用いて含有金属不純物低減処理を行うことにより、イオン交換樹脂７内の含有金属不純物量も極めて少ないものとすることができる。具体的には、濃度３％の塩酸を体積比２５倍量で通過させたときに溶出する全金属不純物量（特にＮａ，Ｃａ，Ｍｇ，Ｆｅ等の溶出金属量）を５μｇ／ｍｌ−Ｒ以下とすることができる。
なお、本実施の形態においては、精製装置Ｓに用いられる収納部材８内にイオン交換樹脂７を収納して含有金属不純物低減処理を行っているが、もちろん、収納部材８とは別体とされた含有金属不純物低減処理専用の収納部材（図示せず）にイオン交換樹脂７を収納して処理を行ってもよい。また、イオン交換樹脂７と鉱酸溶液１１との接触をイオン交換樹脂７に鉱酸溶液１１を通過させることで実現しているが、もちろん、貯留状態の鉱酸溶液１１中にイオン交換樹脂７を浸漬してもよい。
鉱酸溶液１１を通過させ、含有金属不純物量を低減させた後に、イオン交換樹脂７を超純水１２によって洗浄する（Ｓ．２）。例えば、図３（ｂ）に示すように、供給口８ａから超純水１２を供給し、排出口８ｂから排出することによりイオン交換樹脂７に超純水１２を通過させてもよいし、貯留状態の超純水１２中にイオン交換樹脂７を浸漬してもよい。これにより、含有金属不純物量が極めて少ない高品質のイオン交換樹脂７を得ることができる。
ここで、精製対象としての被処理液１０が有機性溶液や非極性溶液等の微量の水分混入が好ましくない液体である場合（Ｓ．３）、減圧乾燥、棚式乾燥、又は熱風乾燥等によりイオン交換樹脂７の水分含有率を３０％以下に低減させる（Ｓ．４）。これにより、被処理液１０中に水分が溶出することもなく、水分がイオン交換反応の障壁となることもない。
このように、水分含有率を低減させたイオン交換樹脂７を用いることは、被処理液１０中への微量の水分混入が問題となる場合に特に有効である。しかしもちろんそれが問題とならない場合であっても、水分含有率を低減させたイオン交換樹脂７を用いることにより被処理液１０の精製前にイオン交換樹脂７内の水分を中間極性溶媒（アルコール等）に置換する必要がなくなるので、好ましい。
フィルター４は、被処理液１０中の不純物微粒子を除去するためのものであり、配管部材６によってイオン交換樹脂カラム３の排出口８ｂと接続されて、排出口８ｂから排出された精製後の被処理液１０をろ過する。本実施の形態においては、フィルター４はイオン交換樹脂カラム３よりも下流側に設けられているが、もちろん上流側に設けられてもよい。
フィルター４の下流側には、精製及びろ過後の被処理液１０を貯留するための処理液タンク５が配管部材６によって接続されている。この処理液タンク５内に貯留された被処理液１０は、イオン交換樹脂７により金属不純物が除去され、フィルター４によって不純物微粒子が除去されているので、非常に高純度なものとなっている。イオン交換樹脂７は予め含有金属不純物低減処理が施されているので、精製によってイオン交換樹脂７側から被処理液１０へと金属不純物が溶出してしまうこともない。
なお、この精製装置Ｓが被処理液１０と接触する各部（例えば、ポンプ２の内部流路、配管部材６の内壁、収納部材８の内壁等の接液部）はフッ素系樹脂によって形成又はコーティングされている。したがって、接液部は被処理液１０に対して不活性であり、被処理液１０に悪影響を与えることがない。もちろん、フッ素系樹脂のほかにもポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂を適用することも可能である。
以上、本発明の好ましい実施の形態を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、その要旨の範囲内で様々な変形や変更が可能である。
表１に示す含有金属量で濃度１０％の塩酸溶液によって強酸性陽イオン交換樹脂の含有金属不純物低減処理を行った。なお、低減処理条件を表２に示した。
このイオン交換樹脂内の含有金属不純物量の低減処理が有りの場合と無しの場合とで測定した比較結果を表３に示す。なお、測定条件を表４に示した。
含有金属不純物低減処理を行ったイオン交換樹脂を用いて、金属不純物を含有する２-プロパノールを精製処理した。精製前後の２−プロパノール中に含有される金属不純物量の測定結果を表５に示した。低減処理有りのイオン交換樹脂を用いて精製した場合、各金属とも２−プロパノール中の含有量が１０ｐｐｂ以下に低減されている。なお、精製条件を表６に示した。
実施例１と同様の方法にて、多孔質タイプのイオン交換樹脂であるＭＲ形イオン交換樹脂（商品名：アンバーライト２００ＣＴＨ）の含有不純物低減処理を行った。このイオン交換樹脂内の含有不純物量の低減処理が有りの場合と無しの場合とで測定した比較結果を表７に示す。
含有金属不純物低減処理を行ったＭＲ形イオン交換樹脂を１００℃の恒温槽内で１５時間乾燥させ、水分含有率を５％とした。その後、これらのＭＲ形イオン交換樹脂を用いて、金属不純物を含有する酢酸プロピレングリコールメチルエーテル（ＰＧＭＥＡ）を実施例１と同様の方法で精製処理した。精製前後のＰＧＭＥＡ中に含有される金属不純物量の測定結果を表８に示した。低減処理有りのＭＲ形イオン交換樹脂を用いて精製した場合、各金属ともＰＧＭＥＡ中の含有量が１０ｐｐｂ以下に低減されている。
実施例２と同様のＭＲ形イオン交換樹脂（低減処理有りで乾燥処理したものと低減処理無しで乾燥処理したもの）それぞれ４３０ｇを内径４８．５ｍｍ、高さ１０００ｍｍの円筒形ＰＦＡ樹脂製カラム収納部材に収納し、電子工業用ＰＧＭＥＡ（商品名：関東化学製）で膨潤させ、樹脂体積を１０００ｍｌとした。接液部がＰＶＤＦ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂とされた無脈動定量ポンプによって２Ｌ／時の流速で電子工業用ＰＧＭＥＡをＭＲ形イオン交換樹脂に向けて供給し、ＭＲ形イオン交換樹脂を洗浄した。その後、実施例２と同様に金属不純物を含有するＰＧＭＥＡを２Ｌ／時の流速でＭＲ形イオン交換樹脂に向けて供給し、２０ＬのＰＧＭＥＡを精製処理した。
配管部材にはすべてＰＦＡ樹脂チューブを使用し、バルブ、流量計、配管継ぎ手等の接液部はすべてＰＶＤＦ樹脂、ＰＴＦＥ樹脂、ＰＦＡ樹脂等により構成した。精製処理後のＰＧＭＥＡをＰＦＡ樹脂製の処理液タンクに回収し、その液中の含有金属不純物量を測定した。測定結果を表９に示した。低減処理有りのＭＲ形イオン交換樹脂を用いて精製した場合、各金属ともＰＧＭＥＡ中の含有量が１０ｐｐｂ以下に低減されている。
表１０に示す含有金属量で濃度１０％の塩酸溶液によって実施例１と同様にイオン交換樹脂の含有金属不純物低減処理を行った。なお、低減処理条件は実施例１と同様である。
このイオン交換樹脂内の含有金属不純物量の低減処理が有りの場合と無しの場合とで測定した比較結果を表１１に示す。なお、測定条件は実施例１と同様である。
含有金属不純物低減処理を行ったイオン交換樹脂を用いて、実施例１と同様の２-プロパノールを精製処理した。精製前後の２−プロパノール中に含有される金属不純物量の測定結果を表１２に示した。なお、精製条件は実施例１と同様である。
比較例２と同様の塩酸溶液によって実施例２と同様にＭＲ形イオン交換樹脂の含有金属不純物低減処理を行った。このイオン交換樹脂内の含有金属不純物量の低減処理が有りの場合と無しの場合とで測定した比較結果を表１３に示す。
含有金属不純物低減処理を行ったＭＲ形イオン交換樹脂を実施例２と同様に乾燥させ、水分含有率を５％とした。その後、これらのＭＲ形イオン交換樹脂を用いて、金属不純物を含有する酢酸プロピレングリコールメチルエーテル（ＰＧＭＥＡ）を実施例２と同様の方法で精製処理した。精製前後のＰＧＭＥＡ中に含有される金属不純物量の測定結果を表１４に示した。
以上の実施例及び比較例より、金属不純物含有量の少ない塩酸を用いて含有金属不純物低減処理を行うことにより、イオン交換樹脂内の含有金属不純物量を効果的に低減することができ、そのイオン交換樹脂を用いた精製によって被処理液中の含有金属不純物量を効果的に低減することができることがわかった。
Ｓ：精製装置
１：原液タンク
２：ポンプ
３：イオン交換樹脂カラム
４：フィルター
５：処理液タンク
６：配管部材
７：イオン交換樹脂
８：収納部材
８ａ：供給口
８ｂ：排出口
８ｃ：収納室
１０：被処理液
１１：鉱酸溶液
１２：超純水
１：原液タンク
２：ポンプ
３：イオン交換樹脂カラム
４：フィルター
５：処理液タンク
６：配管部材
７：イオン交換樹脂
８：収納部材
８ａ：供給口
８ｂ：排出口
８ｃ：収納室
１０：被処理液
１１：鉱酸溶液
１２：超純水
Claims (4)
- 含有金属不純物量が１ｍｇ／ｌ以下でかつ濃度が５％以上の鉱酸溶液にＨ形陽イオン交換樹脂を接触させることにより、濃度３％の塩酸を体積比２５倍量で通過させたときに溶出する全金属不純物量を５μｇ／ｍｌ−Ｒ以下とすることを特徴とする陽イオン交換樹脂の含有金属不純物量低減方法。
- 前記鉱酸溶液におけるナトリウム（Ｎａ），カルシウム（Ｃａ），マグネシウム（Ｍｇ），及び鉄（Ｆｅ）の各含有量がそれぞれ２００μｇ／ｌ以下であることを特徴とする請求項１に記載の陽イオン交換樹脂の含有金属不純物量低減方法。
- 前記鉱酸溶液に接触させた後に前記Ｈ形陽イオン交換樹脂を純水又は超純水で洗浄することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の陽イオン交換樹脂の含有金属不純物量低減方法。
- 前記鉱酸溶液に接触させた後または前記純水又は超純水で洗浄した後に、前記Ｈ形陽イオン交換樹脂の水分含有率を３０％以下に低減させることを特徴とする請求項１から請求項３のうちいずれか１項に記載の陽イオン交換樹脂の含有金属不純物量低減方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005309122A JP4441472B2 (ja) | 2005-10-24 | 2005-10-24 | 陽イオン交換樹脂の含有金属不純物量低減方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005309122A JP4441472B2 (ja) | 2005-10-24 | 2005-10-24 | 陽イオン交換樹脂の含有金属不純物量低減方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007117781A JP2007117781A (ja) | 2007-05-17 |
| JP4441472B2 true JP4441472B2 (ja) | 2010-03-31 |
Family
ID=38142208
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005309122A Active JP4441472B2 (ja) | 2005-10-24 | 2005-10-24 | 陽イオン交換樹脂の含有金属不純物量低減方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4441472B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200118132A (ko) | 2018-02-22 | 2020-10-14 | 오르가노 가부시키가이샤 | 킬레이트 수지의 제조 방법 및 제조 장치, 그리고 피처리액의 정제 방법 |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5499433B2 (ja) * | 2007-11-06 | 2014-05-21 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置 |
| JP5564817B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2014-08-06 | 栗田工業株式会社 | イオン交換樹脂の再生方法及び超純水製造装置 |
| JP5556046B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2014-07-23 | 栗田工業株式会社 | 粗イオン交換樹脂の精製用の処理液 |
| JP5391965B2 (ja) * | 2009-09-28 | 2014-01-15 | 栗田工業株式会社 | イオン交換装置 |
| JP6207445B2 (ja) * | 2014-03-28 | 2017-10-04 | オルガノ株式会社 | 浄水器用カートリッジおよび浄水器 |
| JP5895962B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2016-03-30 | 栗田工業株式会社 | イオン交換樹脂のホウ素汚染防止方法 |
| KR101600184B1 (ko) * | 2014-07-18 | 2016-03-07 | 오씨아이 주식회사 | 인산 용액 내 금속이온의 제거방법 |
| US20180273465A1 (en) * | 2015-10-02 | 2018-09-27 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | High-purity carboxylic acid ester and method for producing same |
| KR102346812B1 (ko) * | 2019-10-30 | 2022-01-04 | 주식회사 삼양사 | 금속 불순물 함량이 감소된 이온 교환수지의 제조방법 |
| KR102499164B1 (ko) * | 2020-10-27 | 2023-02-14 | 주식회사 삼양사 | 금속 불순물의 함량이 감소된 이온 교환수지의 제조방법 |
| JP2022120535A (ja) * | 2021-02-05 | 2022-08-18 | オルガノ株式会社 | イオン交換装置および超純水製造装置 |
| JPWO2022209233A1 (ja) * | 2021-03-31 | 2022-10-06 | ||
| WO2022209392A1 (ja) * | 2021-03-31 | 2022-10-06 | オルガノ株式会社 | 加水分解性有機溶媒の精製方法および加水分解性有機溶媒精製用の樹脂の製造方法 |
| JP2023059066A (ja) * | 2021-10-14 | 2023-04-26 | オルガノ株式会社 | 酸性溶液の精製方法 |
| CN113992895A (zh) * | 2021-10-27 | 2022-01-28 | 西安热工研究院有限公司 | 一种凝结水精处理系统的树脂输送远程监控系统及方法 |
| JP7421019B1 (ja) | 2022-10-06 | 2024-01-23 | オルガノ株式会社 | カチオン交換樹脂の製造方法および有機酸溶液の精製方法 |
-
2005
- 2005-10-24 JP JP2005309122A patent/JP4441472B2/ja active Active
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200118132A (ko) | 2018-02-22 | 2020-10-14 | 오르가노 가부시키가이샤 | 킬레이트 수지의 제조 방법 및 제조 장치, 그리고 피처리액의 정제 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2007117781A (ja) | 2007-05-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4441472B2 (ja) | 陽イオン交換樹脂の含有金属不純物量低減方法 | |
| CN111699040B (zh) | 被处理液的精制方法 | |
| KR100361799B1 (ko) | 포토레지스트현상폐액의재생처리방법및장치 | |
| JP5081690B2 (ja) | 超純水の製造方法 | |
| CA3009750C (en) | Purification process for hydrolysable organic solvent | |
| JP4385407B2 (ja) | テトラアルキルアンモニウムイオン含有液の処理方法 | |
| JP5717997B2 (ja) | テトラアルキルアンモニウム塩水溶液の製造方法 | |
| JP2002052322A (ja) | 洗浄方法 | |
| JP2004181351A (ja) | 非水液状物の精製方法 | |
| JP2013095673A (ja) | テトラアルキルアンモニウム塩溶液の製造方法 | |
| JP2010234339A (ja) | 粗イオン交換樹脂の精製用の処理液 | |
| WO2022209233A1 (ja) | 乾燥イオン交換樹脂の製造方法および製造装置、ならびに被処理液の精製方法および精製装置 | |
| WO2011074495A1 (ja) | テトラアルキルアンモニウムイオン除去廃液の再利用方法 | |
| JP2000126766A (ja) | テトラアルキルアンモニウムイオン含有液の処理方法 | |
| WO2015016230A1 (ja) | テトラアルキルアンモニウム塩水溶液の製造方法 | |
| JP2888957B2 (ja) | 水評価方法、純水製造方法及びその装置 | |
| TW202402370A (zh) | 有機溶劑之精製方法及精製裝置 | |
| JP4561967B2 (ja) | テトラアルキルアンモニウムイオン含有排水から水を回収する方法及び装置 | |
| JPH11128691A (ja) | フォトレジスト現像液再生回収装置 | |
| JP2023002284A (ja) | 溶液精製装置の運転管理方法、運転管理装置、溶液精製方法、および溶液精製装置 | |
| JP2023137717A (ja) | 過酸化水素水精製用混合床イオン交換体の調製方法および過酸化水素水の精製方法 | |
| TW202302499A (zh) | 水解性有機溶劑之精製方法及水解性有機溶劑精製用之樹脂之製造方法 | |
| TW202216295A (zh) | 純水製造方法及製造裝置 | |
| WO2020031616A1 (ja) | 水中微粒子の除去方法 | |
| JP2001017965A (ja) | フォトレジスト現像廃液の処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080428 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20080910 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080911 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090805 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090811 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091001 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091027 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091130 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100105 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100108 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4441472 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140115 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |