CN111699040B - 被处理液的精制方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种螯合树脂的制造方法，该螯合树脂可减少含有金属杂质的被处理液的金属杂质含量而得到高纯度的处理液。一种螯合树脂的制造方法，其包括精制工序，上述精制工序使金属杂质含量为1mg/L以下且浓度为5重量％以上的无机酸溶液与作为精制对象的螯合树脂接触而进行精制，将使浓度3重量％的盐酸以体积比25倍量通过精制后的螯合树脂时溶出的总金属杂质溶出量控制在5μg/mL‑R以下。

Description

被处理液的精制方法
技术领域
本发明涉及螯合树脂的制造方法和制造装置、以及使用该螯合树脂的被处理液的精制方法。
背景技术
在半导体集成电路(IC)、液晶显示器(LCD)等平板显示器(FPD)、摄像元件(CCD、CMOS)等电子部件、CD-ROM、DVD-ROM等各种记录介质等(将它们统称为电子工业制品)的制造工序中，使用各种药液、溶解溶剂、电子材料(例如液状的材料)、电子材料的原料或溶解溶剂、清洗水等(将它们统称为制造用液)。随着近年的电子工业制品的高性能化、高品质化，对于这些制造用液、电子材料的原料或其溶解溶剂，高纯度化的要求也提高。
若该制造用液中包含金属(钠(Na)、钙(Ca)、镁(Mg)、铁(Fe)等)的离子性杂质(将它们统称为金属杂质离子)，则对电子工业制品的性能、品质等产生重大的影响。因此，要求制造用液中杂质(特别是金属)的含量非常低，即高纯度。例如，在超纯水中，要求1ppt以下左右的金属含量，在其他药液等中也要求ppt等级程度的金属含量。
例如，专利文献1记载了以下方法：使用与特定的无机酸溶液接触而精制的阳离子交换树脂，对含有金属杂质的制造用液等被处理液进行精制，减少金属杂质含量。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利第4441472号公报
发明内容
(发明要解决的课题)
但是，如专利文献1的方法所示，在将阳离子交换树脂用于酯、酮等的精制的情况下，有时由于阳离子交换树脂，羰基部位与水等亲核试剂反应。特别是在酯的情况下，进行水解反应，生成醇和有机酸，因此有时会作为杂质混入精制后的处理液中。
本发明的目的在于提供螯合树脂的制造方法和制造装置、以及使用该螯合树脂的被处理液的精制方法，其中，可减少含有金属杂质的被处理液的金属杂质含量而得到高纯度的处理液。
(用于解决课题的技术方案)
本发明是一种螯合树脂的制造方法，其包括精制工序，上述精制工序使金属杂质含量为1mg/L以下且浓度为5重量％以上的无机酸溶液与作为精制对象的螯合树脂接触而进行精制，将使浓度3重量％的盐酸以体积比25倍量通过精制后的螯合树脂时溶出的总金属杂质溶出量控制在5μg/mL-R以下。
上述螯合树脂的制造方法中，优选上述精制工序中使用的无机酸溶液中的钠(Na)、钙(Ca)、镁(Mg)和铁(Fe)的各含量分别为200μg/L以下。
上述螯合树脂的制造方法中，优选在上述精制工序的后段包括清洗工序，上述清洗工序利用纯水或超纯水清洗与上述无机酸溶液接触的螯合树脂。
上述螯合树脂的制造方法中，优选上述螯合树脂具有氨甲基磷酸基或亚氨基二乙酸基作为螯合基。
本发明为一种螯合树脂的制造装置，其具备精制单元，上述精制单元使金属杂质含量为1mg/L以下且浓度为5重量％以上的无机酸溶液与作为精制对象的螯合树脂接触而进行精制，将使浓度3重量％的盐酸以体积比25倍量通过精制后的螯合树脂时溶出的总金属杂质溶出量控制在5μg/mL-R以下。
上述螯合树脂的制造装置中，优选上述精制单元使用的无机酸溶液中的钠(Na)、钙(Ca)、镁(Mg)和铁(Fe)的各含量分别为200μg/L以下。
上述螯合树脂的制造装置中，优选具备清洗单元，上述清洗单元利用纯水或超纯水清洗与上述无机酸溶液接触的螯合树脂。
上述螯合树脂的制造装置中，优选上述螯合树脂具有氨甲基磷酸基或亚氨基二乙酸基作为螯合基。
本发明为一种被处理液的精制方法，其使用通过上述螯合树脂的制造方法得到的螯合树脂，对含有金属杂质的被处理液进行精制而减少金属杂质含量。
(发明效果)
根据本发明，可提供螯合树脂的制造方法和制造装置、以及使用该螯合树脂的被处理液的精制方法，其中，可减少含有金属杂质的被处理液的金属杂质含量而得到高纯度的处理液。
附图说明
图1是表示本发明的实施方式涉及的制造装置的一例的示意结构图。
图2是表示本发明的实施方式涉及的制造装置中的螯合树脂柱的示意结构的截面图，是说明对螯合树脂进行精制处理(含金属杂质减少处理)的方法的图。
图3是说明对螯合树脂进行清洗处理的方法的图。
图4是表示本发明的实施方式涉及的精制装置的一例的示意结构图。
图5是表示本发明的实施方式涉及的精制装置中的螯合树脂柱的示意结构的截面图，是说明使用螯合树脂对被处理液进行精制处理的方法的图。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行说明。本实施方式是实施本发明的一例，本发明并不限定于本实施方式。
＜螯合树脂的制造方法＞
本实施方式涉及的螯合树脂的制造方法为以下方法，其包括使金属杂质含量为1mg/L以下且浓度为5重量％以上的无机酸溶液与作为精制对象的螯合树脂接触而进行精制的精制工序，将使浓度3重量％的盐酸以体积比25倍量通过精制后的螯合树脂时溶出的总金属杂质溶出量控制在5μg/mL-R以下。
本发明人等在含有金属杂质的制造用液等被处理液的精制中，着眼于使用螯合树脂来代替阳离子交换树脂等离子交换树脂。为了使用螯合树脂，对使螯合树脂与无机酸溶液接触而进行精制进行了研究，但若与螯合树脂接触的无机酸溶液本身含有金属杂质，则不仅无法减少螯合树脂内的金属杂质，反而有时会使无机酸水溶液中的金属杂质吸附于螯合树脂而使金属杂质增多。由此，通过使用无机酸溶液接触后的螯合树脂，反而会使大量的金属物质等溶出到被处理液中。特别是，在金属中钠(Na)、钙(Ca)、镁(Mg)、铁(Fe)与其他金属相比，螯合树脂内的含量多，即使通过无机酸溶液的接触也难以减少含量。
因此，本发明人等发现，通过以下螯合树脂的制造方法，可得到能够减少含有金属杂质的被处理液的金属杂质含量而得到高纯度的处理液的螯合树脂，螯合树脂的制造方法通过使金属杂质含量为1mg/L以下且浓度为5重量％以上的无机酸溶液与作为精制对象的螯合树脂接触，并将使浓度3重量％的盐酸以体积比25倍量通过精制后的螯合树脂时溶出的全部金属杂质量控制在5μg/mL-R以下。
通过与金属杂质含量少且酸浓度高的无机酸溶液接触，可可靠且有效地减少螯合树脂内的金属杂质量，可得到溶出金属杂质少的螯合树脂。具体而言，可将使浓度3重量％的盐酸以体积比25倍量通过时溶出的全部金属杂质量(特别是Na、Ca、Mg、Fe等溶出金属量)控制在5μg/mL-R以下。通过使用该螯合树脂对制造用液等被处理液进行精制，可得到含金属杂质少的高纯度的处理液。此外，在使用阳离子交换树脂的情况下，有时被处理液中含有的水分或阳离子交换树脂中含有的水分等与来自阳离子交换树脂的质子反应，生成乙酸等酸，以杂质的形式混入精制后的处理液中，但通过使用以上述制造方法得到的螯合树脂，可减少金属杂质含量而得到高纯度的处理液。
螯合树脂是具有可与金属离子形成螯合物(络合物)的官能团的树脂。作为该官能团，只要是可与金属离子形成螯合物(络合物)的官能团即可，没有特别限制，例如，可举出氨甲基磷酸基、亚氨基二乙酸基、硫醇基、多胺基等。作为螯合树脂，从对多个金属种的选择性等观点出发，优选具有氨甲基磷酸基或亚氨基二乙酸基作为螯合基。
作为螯合树脂，例如可使用AMBERSEP IRC747UPS(螯合基：氨甲基磷酸基)、AMBERSEP IRC748(螯合基：亚氨基二乙酸基)(均为陶氏化学公司的商品名)等。螯合树脂可以根据需要进行再生处理等前处理后使用。
AMBERSEP IRC747UPS、AMBERSEP IRC748的离子形式以Na型为基准，通过以上述的方法接触无机酸溶液，离子形式从Na型转换为H型。
螯合树脂的精制中使用的无机酸溶液为无机酸的溶液。作为无机酸，例如可举出盐酸、硫酸、硝酸等。作为构成溶液的溶剂，例如为纯水(电阻率：约10MΩ·cm)、超纯水(电阻率：约18MΩ·cm)等水。
精制工序中使用的无机酸溶液中的金属杂质含量为1mg/L以下，越少越好，优选为0.5mg/L以下，进一步优选为0.2mg/L以下。在无机酸溶液中的金属杂质含量超过1mg/L的情况下，无法得到充分的螯合树脂内的金属杂质量减少效果。
无机酸溶液的无机酸的浓度为5重量％以上，优选为10重量％以上。在无机酸溶液的无机酸的浓度小于5重量％的情况下，无法得到充分的螯合树脂内的金属杂质量减少效果。无机酸溶液的无机酸的浓度的上限例如为37重量％。
在此，金属杂质是除了金属以外还包含金属杂质离子的概念，作为代表性的例子，例如可举出钠(Na)、钙(Ca)、镁(Mg)和铁(Fe)等。
精制工序中使用的无机酸溶液中的钠(Na)、钙(Ca)、镁(Mg)和铁(Fe)的各含量越少越好，优选分别为200μg/L以下，更优选分别为100μg/L以下。通过使这些金属杂质含量少的无机酸溶液与螯合树脂接触，能够可靠且有效地减少螯合树脂内的钠(Na)、钙(Ca)、镁(Mg)和铁(Fe)等金属杂质的含量。
在精制工序中与螯合树脂接触的无机酸溶液的温度例如为0～30℃的范围。
本实施方式涉及的螯合树脂的制造方法中，通过上述精制工序，将使浓度3重量％的盐酸以体积比25倍量通过精制后的螯合树脂时溶出的总金属杂质溶出量控制在5μg/mL-R以下，越少越好，优选控制在1μg/mL-R以下。通过将该总金属杂质溶出量控制在5μg/mL-R以下，可减少这些金属杂质从被处理液的精制中使用该螯合树脂时的螯合树脂向处理液中的溶出量。
溶出的金属杂质可以包含钠(Na)、钙(Ca)、镁(Mg)或铁(Fe)中的至少任一种金属。
精制工序之后，优选包括清洗工序，上述清洗工序利用纯水、超纯水等清洗液对接触了无机酸溶液的螯合树脂进行清洗。通过在使螯合树脂与无机酸溶液接触后利用纯水、超纯水等清洗液进行清洗，从而可在从精制后的螯合树脂除去无机酸溶液时抑制金属杂质的再污染等。
作为在清洗工序中与螯合树脂接触的清洗液，可举出纯水、超纯水等，从抑制精制后的污染等方面考虑，优选超纯水。
在清洗工序中与螯合树脂接触的清洗液的温度例如为0～30℃的范围。
对于上述螯合树脂的制造方法的具体例，在后面进行叙述。
＜被处理液的精制方法＞
本实施方式涉及的被处理液的精制方法是以下方法，即，使用上述螯合树脂的制造方法中得到的螯合树脂，对含有金属杂质的被处理液进行精制而减少金属杂质含量。
精制对象的被处理液是利用螯合树脂进行精制而成的液体，例如是制造用液等液体，包含在半导体集成电路(IC)、液晶显示器(LCD)等平板显示器(FPD)，摄像元件(CCD、CMOS)等电子部件，CD-ROM、DVD-ROM等各种记录介质等(将它们统称为电子工业制品)的制造中使用的药液、溶解溶剂等溶剂，电子材料等(除了电子材料本身以外还包含电子材料的原料、它们的溶解溶剂)，清洗水等。
药液包含过氧化氢、盐酸、氢氟酸、磷酸、乙酸、四甲基氢氧化铵、氟化铵水溶液等。
溶剂包含丙酮、2-丁酮、乙酸正丁酯、乙醇、甲醇、2-丙醇、甲苯、二甲苯、乙酸丙二醇甲醚、N-甲基-2-吡咯烷酮、乳酸乙酯、酚化合物、二甲基亚砜、四氢呋喃、γ-丁内酯等、聚乙二醇单甲醚(PGMEA)等有机溶剂。
作为电子材料等，可举出半导体相关材料(抗蚀剂、剥离剂、防反射膜、层间绝缘膜涂布剂、缓冲涂膜用涂布剂等)、平板显示器(FPD)材料(液晶用光致抗蚀剂、滤色器用材料、取向膜、密封材料、液晶混合物、偏振片、反射片、外涂层剂(overcoat agent)、衬垫等)等。
清洗水包含半导体基板、液晶用基板等的清洗所使用的纯水、超纯水等。
作为被处理液在进行酯系、酮系有机溶剂，特别是与阳离子交换树脂接触时容易发生水解的酯系有机溶剂，例如聚乙二醇单甲醚(PGMEA)的精制的情况下，可适当地使用以上述螯合树脂的制造方法精制后的螯合树脂。
对于使用上述螯合树脂的制造方法中得到的螯合树脂的被处理液的精制方法的具体例，在后面叙述。
＜螯合树脂的制造方法和制造装置的示例＞
以下，使用附图对本实施方式涉及的螯合树脂的制造方法(精制方法)和制造装置(精制装置)进行说明。图1是表示该制造装置1的整体结构的示意结构图。
图1的制造装置1备螯合树脂柱12作为使金属杂质含量为1mg/L以下且浓度为5重量％以上的无机酸溶液与作为精制对象的螯合树脂接触而进行精制的精制单元。制造装置1可以具备贮存无机酸溶液等的原液罐10和贮存排出液等的排出液罐14。
在制造装置1中，原液罐10的出口和螯合树脂柱12的供给口介由泵16通过配管18连接，螯合树脂柱12的排出口和排出液罐14的入口通过配管20连接。
原液罐10内贮存有无机酸溶液。该无机酸溶液是金属杂质含量为1mg/L以下且浓度为5重量％以上的无机酸溶液。
图2是表示螯合树脂柱12的示意结构的截面图。螯合树脂柱12具有收纳部件22和螯合树脂24而构成。收纳部件22例如由氟系树脂等树脂材料等构成，具有用于对内部供给无机酸溶液的供给口26和用于向外部排出的排出口28。在供给口26与排出口28的路径间配置有收纳室30，在收纳室30的内部收纳有螯合树脂24。即，从供给口26供给的无机酸溶液通过螯合树脂24而从排出口28向外部排出，由此可进行螯合树脂24的精制。
在制造装置1中驱动泵16时，原液罐10内的无机酸溶液通过配管18向螯合树脂柱12的供给口26供给。也可以根据精制所需的无机酸溶液的流量在配管路径内设置多个泵16。
从供给口26供给无机酸溶液，无机酸溶液通过(通液)螯合树脂24而从排出口28排出，由此使无机酸溶液与作为精制对象的螯合树脂24接触而进行精制(精制工序)。从排出口28排出的排出液通过配管20根据需要贮存在排出液罐14中。
通过该精制处理(含金属杂质减少处理)，使浓度3重量％的盐酸以体积比25倍量通过精制后的螯合树脂时溶出的总金属杂质溶出量为5μg/mL-R以下。由此，可得到金属杂质含量少的高品质的螯合树脂。
另外，在本实施方式中，在制造装置1中使用的螯合树脂柱12的收纳部件22的收纳室30内收纳螯合树脂24而进行精制处理(含金属杂质减少处理)，当然也可以在与收纳部件22分体的含金属杂质减少处理专用收纳部件中收纳螯合树脂24而进行精制处理。此外，通过使无机酸溶液通过螯合树脂24来实现螯合树脂24与无机酸溶液的接触，当然也可以在贮存状态的无机酸溶液中浸渍螯合树脂24而进行精制处理。
在使无机酸溶液通过、使金属杂质含量减少后，利用超纯水清洗螯合树脂24。例如，在原液罐10内或另外设置的罐内贮存纯水、超纯水等清洗液并驱动泵16时，原液罐10内的清洗液通过配管18向螯合树脂柱12的供给口26供给。如图3所示，由供给口26供给清洗液，清洗液通过(通液)螯合树脂24而从排出口28排出，由此使清洗液与作为清洗对象的螯合树脂24接触而进行清洗(清洗工序)。清洗工序中，螯合树脂柱12作为清洗单元发挥功能。从排出口28排出的清洗排出液通过配管20根据需要被贮存在排出液罐14中。
通过该清洗处理，可得到金属杂质含量极少的高品质的螯合树脂。
另外，本实施方式中，在制造装置1中使用的螯合树脂柱12的收纳部件22的收纳室30内收纳螯合树脂24而进行清洗处理，当然也可以在与收纳部件22分体的清洗处理专用收纳部件中收纳螯合树脂24而进行清洗处理。此外，通过使清洗液通过螯合树脂24来实现螯合树脂24与清洗液的接触，当然也可以在贮存状态的清洗液中浸渍螯合树脂24而进行清洗。
制造装置1与无机酸溶液接触的接液部(例如，泵16的内部流路、配管18、20的内壁、收纳部件22的内壁等的接液部、原液罐10和排出液罐14的内部等)优选由对无机酸溶液不活泼的材料形成或涂敷。由此，接液部对无机酸溶液为不活泼的，可减少金属杂质从接液部向螯合树脂溶出等的影响。
作为接液部中使用的对无机酸溶液为不活泼的材料，可举出氟系树脂、聚丙烯树脂、聚乙烯树脂等，从金属溶出等方面出发，优选为氟系树脂。作为氟系树脂，可举出PTFE(四氟乙烯树脂)、PFA(四氟乙烯·全氟烷氧基乙烯共聚树脂)、ETFE(四氟乙烯·乙烯共聚树脂)、FEP(四氟乙烯·六氟丙烯共聚树脂)、PVDF(偏二氟乙烯树脂)、ECTFE(乙烯-三氟氯乙烯树脂)、PCTFEP(三氟氯乙烯树脂)、PVF(氟乙烯树脂)等。
＜被处理液的精制方法和精制装置的例子＞
以下，使用附图对本实施方式涉及的被处理液的精制方法和精制装置进行说明。图4是表示该精制装置3的整体结构的示意结构图。
图4的精制装置3具备螯合树脂柱52作为使精制对象的被处理液与螯合树脂接触而进行精制的被处理液精制单元。精制装置3可以具备贮存被处理液的原液罐50和贮存处理液的排出液罐54。
在精制装置3中，原液罐50的出口和螯合树脂柱52的供给口介由泵56通过配管58连接，螯合树脂柱52的排出口和排出液罐54的入口通过配管60连接。
在原液罐50内贮存有作为精制对象的被处理液。
图5是表示螯合树脂柱52的示意结构的截面图。螯合树脂柱52具有收纳部件62和螯合树脂64而构成。收纳部件62例如由氟系树脂等树脂材料等构成，具有用于向内部供给被处理液的供给口66和用于向外部排出被处理液的排出口68。在供给口66与排出口68的路径间配置有收纳室70，在收纳室70的内部收纳有螯合树脂64。即，从供给口66供给的被处理液通过螯合树脂64从排出口68向外部排出，由此进行被处理液的精制。该螯合树脂64是利用上述螯合树脂的制造方法和制造装置得到的，是将使浓度3重量％的盐酸以体积比25倍量通过时溶出的总金属杂质溶出量控制在5μg/mL-R以下的螯合树脂，是预先实施减少内部的含金属杂质的处理而使金属杂质含量非常少的螯合树脂。
在精制装置3中驱动泵56时，原液罐50内的被处理液通过配管58向螯合树脂柱52的供给口66供给。也可以根据精制需要的被处理液的流量在配管路径内设置多个泵56。
从供给口66供给被处理液，被处理液通过(通液)螯合树脂64而从排出口68排出，由此使作为精制对象的被处理液与螯合树脂64接触而进行精制(被处理液精制工序)。从排出口68排出的处理液通过配管60根据需要贮存在排出液罐54中。
通过该精制处理(含金属杂质减少处理)，处理液(例如各金属元素含量为1000μg/L以下)中的金属杂质含量为10μg/L以下。由此，可得到金属杂质含量少的高品质的处理液。
使用通过与金属杂质含量非常少的无机酸溶液接触而使内部的金属杂质量减少的螯合树脂来构成螯合树脂柱，由此在使用了该螯合树脂柱的被处理液的精制处理(含金属杂质减少处理)中，可减少金属杂质向处理液中的溶出。由此，可得到金属杂质含量少的高纯度的处理液。
另外，本实施方式中，在精制装置3中使用的螯合树脂柱52的收纳部件62的收纳室70内收纳螯合树脂64而进行精制处理(含金属杂质减少处理)，当然也可以在与收纳部件62分体的含金属杂质减少处理专用收纳部件中收纳螯合树脂64而进行精制处理。此外，通过使被处理液通过螯合树脂64来实现螯合树脂64与被处理液的接触，当然也可以在贮存状态的被处理液中浸渍螯合树脂64进行精制处理。
在此，在作为精制对象的被处理液为有机性溶液、非极性溶液等不优选混入微量的水分的液体的情况下，也可以事先通过减压干燥、盘架式干燥或热风干燥等干燥处理使螯合树脂64的水分含有率减少至例如30重量％以下、优选减少至10重量％以下。由此，抑制水分向处理液中溶出。
如此，使用减少了水分含有率的螯合树脂64在处理液中混入微量的水分成为问题的情况下是特别有效的。但是，当然即使在该情况不成为问题的情况下，通过使用减少了水分含有率的螯合树脂64，也可以在被处理液的精制前不将螯合树脂64内的水分置换为中间极性溶剂(醇等)等，故优选。
精制装置3与被处理液接触的接液部(例如，泵56的内部流路、配管58、60的内壁、收纳部件62的内壁等接液部、原液罐50和排出液罐54的内部等)优选由对被处理液为不活泼的材料形成或涂敷。由此，接液部对被处理液为不活泼的，可减少金属杂质从接液部向被处理液溶出等的影响。
作为接液部中使用的对被处理液为不活泼的材料，可举出氟系树脂、聚丙烯树脂、聚乙烯树脂等，从金属溶出等方面出发，优选为氟系树脂。作为氟系树脂，可举出PTFE(四氟乙烯树脂)、PFA(四氟乙烯·全氟烷氧基乙烯共聚树脂)、ETFE(四氟乙烯·乙烯共聚树脂)、FEP(四氟乙烯·六氟丙烯共聚树脂)、PVDF(偏二氟乙烯树脂)、ECTFE(乙烯-三氟氯乙烯树脂)、PCTFEP(三氟氯乙烯树脂)、PVF(氟乙烯树脂)等。
精制装置3在螯合树脂柱52的后段还具有用于除去处理液中含有的杂质微粒的过滤器等过滤单元时，不仅可减少处理液中的溶出金属杂质，还可减少杂质微粒，可得到更高纯度的处理液。
实施例
以下，举出实施例和比较例更具体详细地说明本发明，但本发明并不限定于以下实施例。
＜实施例1＞
利用酸浓度10重量％的盐酸溶液，进行作为螯合树脂的AMBERSEP IRC747UPS(螯合基：氨甲基磷酸基)和AMBERSEP IRC748(螯合基：亚氨基二乙酸基)的精制处理(含金属杂质减少处理)。另外，将精制处理条件示于表1，将使用的酸浓度10重量％的盐酸溶液中的金属杂质含量示于表2。
[表1]
精制处理条件
[表2]
10重量％浓度盐酸溶液中的含金属杂质量[μg/L]
金属 含量
Li ＜0.1
Na 1.0
Mg 0.8
Al 2.0
K 0.8
Ca 15.3
Cr ＜0.1
Mn ＜0.1
Fe 0.9
Co ＜0.1
Ni ＜0.1
Cu ＜0.1
Zn 0.5
Cd ＜0.1
Pb ＜0.1
合计 21
将该螯合树脂内的金属杂质含量的精制处理后测定的金属杂质含量示于表3。另外，将金属杂质含量的测定条件示于表4。作为ICP-MS(电感耦合等离子体质量分析装置)，使用安捷伦科技株式会社制的8900型。
[表3]
螫合树脂内的金属杂质含量测定结果[μg/mL-R]
[表4]
金属杂质含量的测定条件
<实施例2>
使用实施例1中进行了精制处理的螯合树脂，进行作为被处理液的含有金属杂质的聚乙二醇单甲醚(PGMEA)的精制处理。将使用AMBERSEP IRC747UPS H型进行精制时的精制处理前后的PGMEA的金属杂质含量的值示于表5，将使用AMBERSEP IRC748 H型进行精制时的精制处理前后的PGMEA的金属杂质含量的值示于表6，将金属杂质含量的测定条件示于表7。
[表5]
利用IRC747UPS H型进行精制的PGMEA的会属杂质含量[ng/L]
[表6]
利用IRC748 H型进行精制的PGMEA的金属杂质含量[ng/L]
[表7]
金属杂质含量的测定条件
测定树脂体积 36mL
测定柱的收纳部件 圆筒形PFA树脂制(内径16mm，高度300mm)
处理速度 SV5
测定方法 利用ICP-MS(电感耦合等离子体质量分析装置)进行分析
通液量 720mL
使用进行了精制处理的螯合树脂进行精制时，各金属在PGMEA中的含量均减少至10ppt以下。
<比较例1>
使用进行了与实施例1相同的精制处理(含金属杂质减少处理)的阳离子交换树脂(Amberite 200CT H)进行PGMEA的精制处理。
将使用这样精制的阳离子交换树脂来精制PGMEA时的乙酸生成量的变化与使用实施例1中精制的螯合树脂来精制PGMEA时的乙酸生成量的变化的比较结果示于表8。乙酸的量使用离子色谱装置(Thermo Fisher Scientific公司制，DX-600)进行测定。
[表8]
乙酸生成量的变化[mg/L]
在使用精制后的阳离子交换树脂精制PGMEA的情况下，与精制前相比，精制后乙酸的量增加。另一方面，在使用实施例1中精制的螯合树脂精制PGMEA的情况下，在精制前后，乙酸量的值几乎看不到变化。认为这是因为PGMEA含有的水分或树脂含有的水分与来自阳离子交换树脂的质子发生反应，或者因PGMEA与阳离子交换树脂的接触而分解，生成了乙酸。
由以上的实施例可知：通过使用金属杂质含量少的盐酸溶液进行精制处理(含金属杂质减少处理)，可有效地减少螯合树脂内的金属杂质含量，通过使用了该螯合树脂的精制，可有效地减少被处理液中的金属杂质含量。另外，即使是在阳离子交换树脂中液体性状会发生变化的有机溶剂，通过使用本方法中使用的螯合树脂，也几乎不改变液体性状，可减少金属杂质含量。
如此，可得到以下螯合树脂，其可减少含金属杂质的被处理液的金属杂质含量而得到高纯度的处理液。
符号说明
1制造装置，3精制装置，10、50原液罐，12、52螯合树脂柱，14、54排出液罐，16、56泵，18、20、58、60配管，22、62收纳部件，24、64螯合树脂，26、66供给口，28、68排出口，30、70收纳室

Claims (3)

1.一种被处理液的精制方法，其特征在于，使用通过如下螯合树脂的制造方法得到的螯合树脂对含有金属杂质以及酯类有机溶剂或酮类有机溶剂的被处理液进行精制而减少金属杂质含量，
所述螯合树脂的制造方法包括精制工序，所述精制工序使金属杂质含量为1mg/L以下且浓度为5重量％以上的无机酸溶液与作为精制对象的具有氨甲基磷酸基或亚氨基二乙酸基作为螯合基的螯合树脂接触而进行精制，
将使浓度3重量％的盐酸以体积比25倍量通过精制后的螯合树脂时溶出的总金属杂质溶出量控制在5μg/mL-R以下。
2.根据权利要求1所述的被处理液的精制方法，其特征在于，所述精制工序中使用的无机酸溶液中的钠(Na)、钙(Ca)、镁(Mg)和铁(Fe)的各含量分别为200μg/L以下。
3.根据权利要求1或2所述的被处理液的精制方法，其特征在于，在所述精制工序的后段，包括清洗工序，所述清洗工序利用纯水或超纯水清洗与所述无机酸溶液接触的螯合树脂。
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