JP2013111537A - 設備洗浄方法及び装置 - Google Patents
設備洗浄方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013111537A JP2013111537A JP2011260554A JP2011260554A JP2013111537A JP 2013111537 A JP2013111537 A JP 2013111537A JP 2011260554 A JP2011260554 A JP 2011260554A JP 2011260554 A JP2011260554 A JP 2011260554A JP 2013111537 A JP2013111537 A JP 2013111537A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- equipment
- water
- pipe
- chemical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
【解決手段】超純水ライン2から超純水を配管3、5,8、半導体洗浄機10、配管15、循環水槽17に流した後、循環水槽17内の水を循環ポンプ20、配管21を介して循環させ、薬液槽11〜13から薬液を添加する。主要な配管や、薬液槽11〜13、循環水槽17、カラム30,33、フィルタ6等はケーシング50内に設置されてユニット化されている。
【選択図】図3
Description
図1〜6に示す手順に従って半導体洗浄機10の洗浄を行った。半導体洗浄機10としては(株)カナメックス社製の枚葉洗浄機を用い、半導体洗浄機10への送水量は3L/minとした。薬液としてはTMAH及び塩酸を用いた。
図1において、半導体洗浄機10に対し配管3、5,8,15を介して超純水を一過式に1時間洗浄した。その後、半導体洗浄機10からの流出水の微粒子数及び金属濃度を測定し、図7及び表1に示した。表1には洗浄前の金属濃度も示してある。
6 フィルタ
10 半導体洗浄機
17 循環水槽
30 H2O2分解カラム
33 イオン交換樹脂カラム
36 水質計
50 ケーシング
Claims (7)
- 超純水によって被洗浄物を洗浄する設備を洗浄する方法において、
該設備に対し洗浄薬品含有水を供給して洗浄することを特徴とする設備洗浄方法。 - 請求項1において、前記設備から流出した洗浄薬品含有水を該設備に循環供給することを特徴とする設備洗浄方法。
- 請求項1又は2において、前記洗浄薬品は、酸、アルカリ、過酸化水素水、オゾン水、キレート剤及び界面活性剤の少なくとも1種であることを特徴とする設備洗浄方法。
- 超純水によって被洗浄物を洗浄する設備を洗浄するための設備洗浄装置において、超純水に洗浄薬品を添加した洗浄薬品含有水を該設備に供給する供給手段を備えたことを特徴とする設備洗浄装置。
- 請求項4において、前記設備から流出する洗浄薬品含有水を該設備に循環させる循環手段をさらに備えたことを特徴とする設備洗浄装置。
- 請求項5において、前記供給手段及び循環手段が1つのケーシング内に設置されてユニットとなっていることを特徴とする設備洗浄装置。
- 請求項4ないし6のいずれか1項において、前記供給手段及び循環手段に対しパージガスを供給して水をパージするパージ手段をさらに備えたことを特徴とする設備洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011260554A JP2013111537A (ja) | 2011-11-29 | 2011-11-29 | 設備洗浄方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011260554A JP2013111537A (ja) | 2011-11-29 | 2011-11-29 | 設備洗浄方法及び装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013111537A true JP2013111537A (ja) | 2013-06-10 |
Family
ID=48707665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011260554A Pending JP2013111537A (ja) | 2011-11-29 | 2011-11-29 | 設備洗浄方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013111537A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014079675A (ja) * | 2012-10-15 | 2014-05-08 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | フラッシング処理方法およびフラッシング水処理システム |
JP2016087546A (ja) * | 2014-11-04 | 2016-05-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給装置の洗浄方法 |
CN106536069A (zh) * | 2014-07-28 | 2017-03-22 | 通用电气公司 | 用于超纯水管道系统的快速清洁方法 |
JP2017199936A (ja) * | 2017-07-31 | 2017-11-02 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理システムおよび配管洗浄方法 |
CN110060922A (zh) * | 2018-01-19 | 2019-07-26 | 东京毅力科创株式会社 | 流路清洗方法和流路清洗装置 |
CN115992032A (zh) * | 2023-01-19 | 2023-04-21 | 通威太阳能(安徽)有限公司 | 制绒清洗设备的槽体清洗剂及槽体清洗方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001129564A (ja) * | 1999-11-04 | 2001-05-15 | Kurita Water Ind Ltd | 過酢酸の分解方法、過酢酸含有水の処理方法及び処理装置 |
JP2001345296A (ja) * | 2000-06-02 | 2001-12-14 | Reiton:Kk | 薬液供給装置 |
JP2003093992A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-02 | Iwai Kikai Kogyo Co Ltd | 流体製品製造装置等被洗浄機器を洗浄する洗浄方法および当該機器の自動洗浄装置 |
JP2006297180A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Japan Organo Co Ltd | 超純水製造供給装置の洗浄方法 |
JP2008251779A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 中和洗浄装置および中和洗浄方法 |
JP2011177708A (ja) * | 2011-03-29 | 2011-09-15 | Nippon Rensui Co Ltd | リンサー排水の処理装置、およびリンサー排水処理装置の殺菌方法 |
-
2011
- 2011-11-29 JP JP2011260554A patent/JP2013111537A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001129564A (ja) * | 1999-11-04 | 2001-05-15 | Kurita Water Ind Ltd | 過酢酸の分解方法、過酢酸含有水の処理方法及び処理装置 |
JP2001345296A (ja) * | 2000-06-02 | 2001-12-14 | Reiton:Kk | 薬液供給装置 |
JP2003093992A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-02 | Iwai Kikai Kogyo Co Ltd | 流体製品製造装置等被洗浄機器を洗浄する洗浄方法および当該機器の自動洗浄装置 |
JP2006297180A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Japan Organo Co Ltd | 超純水製造供給装置の洗浄方法 |
JP2008251779A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 中和洗浄装置および中和洗浄方法 |
JP2011177708A (ja) * | 2011-03-29 | 2011-09-15 | Nippon Rensui Co Ltd | リンサー排水の処理装置、およびリンサー排水処理装置の殺菌方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014079675A (ja) * | 2012-10-15 | 2014-05-08 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | フラッシング処理方法およびフラッシング水処理システム |
CN106536069A (zh) * | 2014-07-28 | 2017-03-22 | 通用电气公司 | 用于超纯水管道系统的快速清洁方法 |
TWI694874B (zh) * | 2014-07-28 | 2020-06-01 | 美商Bl科技公司 | 超純水管路系統之快速清洗方法 |
JP2016087546A (ja) * | 2014-11-04 | 2016-05-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給装置の洗浄方法 |
JP2017199936A (ja) * | 2017-07-31 | 2017-11-02 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理システムおよび配管洗浄方法 |
CN110060922A (zh) * | 2018-01-19 | 2019-07-26 | 东京毅力科创株式会社 | 流路清洗方法和流路清洗装置 |
CN110060922B (zh) * | 2018-01-19 | 2024-05-17 | 东京毅力科创株式会社 | 流路清洗方法和流路清洗装置 |
CN115992032A (zh) * | 2023-01-19 | 2023-04-21 | 通威太阳能(安徽)有限公司 | 制绒清洗设备的槽体清洗剂及槽体清洗方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2013111537A (ja) | 設備洗浄方法及び装置 | |
JP5757089B2 (ja) | 有機物含有水の処理方法及び処理装置 | |
US9136104B2 (en) | Method for cleaning silicon wafer and apparatus for cleaning silicon wafer | |
TWI736672B (zh) | pH-氧化還原電位調整水的製造裝置 | |
KR19980070977A (ko) | 메가소닉스 보조 세정의 효율 제어 방법 | |
JP2003205299A (ja) | 水素溶解水製造装置 | |
TWI774733B (zh) | 中空纖維薄膜裝置之清洗方法、超過濾透膜裝置、超純水製造裝置及中空纖維薄膜裝置之清洗裝置 | |
JP2009260020A (ja) | 電子材料用洗浄水、電子材料の洗浄方法及びガス溶解水の供給システム | |
JP4449080B2 (ja) | 超純水製造供給装置の洗浄方法 | |
JP2004122020A (ja) | 超純水製造装置及び該装置における超純水製造供給システムの洗浄方法 | |
JP5527502B2 (ja) | 温超純水供給ユースポイント配管の立ち上げ洗浄方法 | |
KR102433204B1 (ko) | 반도체 기판의 세정 장치 및 반도체 기판의 세정 방법 | |
JP2017200683A (ja) | 超純水製造装置の立ち上げ方法 | |
JP2011161418A (ja) | 超純水製造システムの洗浄方法 | |
JP4747659B2 (ja) | 超純水製造供給装置の洗浄方法 | |
JP2009131841A (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
JP3620577B2 (ja) | 超純水製造システムの洗浄方法 | |
US4935064A (en) | Iodine sterilization of deionized water in semiconductor processing | |
CN1292822C (zh) | 应用在清洗液循环系统中可延长过滤器寿命的清洗装置 | |
TWI699245B (zh) | 超純水製造系統的洗淨方法 | |
JP2001157879A5 (ja) | ||
KR20110082730A (ko) | 웨이퍼 세정장치 및 세정방법 | |
TWI694874B (zh) | 超純水管路系統之快速清洗方法 | |
CN113767071B (zh) | 半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理装置以及半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理方法 | |
WO2022102252A1 (ja) | pH・酸化還元電位調整水の製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141120 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150825 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150826 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151016 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160308 |