JP5564817B2 - イオン交換樹脂の再生方法及び超純水製造装置 - Google Patents
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- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 title claims description 50
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 title claims description 50
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 49
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 title claims description 43
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 title claims description 42
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 23
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 title description 37
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 143
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 142
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 117
- 239000012492 regenerant Substances 0.000 claims description 76
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims description 47
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 claims description 43
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 41
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 claims description 29
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 22
- 238000007865 diluting Methods 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 6
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 33
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 11
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 10
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 9
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 7
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- -1 borate ions Chemical class 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 238000009296 electrodeionization Methods 0.000 description 4
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003011 anion exchange membrane Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 3
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MBBZMMPHUWSWHV-BDVNFPICSA-N N-methylglucamine Chemical group CNC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO MBBZMMPHUWSWHV-BDVNFPICSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005349 anion exchange Methods 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229920000557 Nafion® Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003086 Ti–Pt Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 235000013373 food additive Nutrition 0.000 description 1
- 239000002778 food additive Substances 0.000 description 1
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N lithium oxide Chemical compound [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001947 lithium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
Images
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- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
Description
・非再生型イオン交換装置でも除去し得ない不純物が残留し、超純水の要求水質を満たすことができない。
・非再生型イオン交換装置でこのような不純物を高度に除去しようとすると、非再生型イオン交換装置のBTC(Break through capacity:貫流交換容量)が非常に少なくなり、交換頻度が高くなる。
本発明のイオン交換樹脂の再生方法は、イオン交換樹脂を再生剤と接触させて再生するに当たり、再生に用いる再生剤をホウ素除去手段で処理してホウ素を除去することを特徴とするものである。
・カチオン交換膜を用いた電解装置
・連続式電気脱イオン装置
・アニオン交換樹脂
・アニオン交換フィルタ
・アニオン交換膜
アニオン交換樹脂100mLを清浄なポリプロピレン製容器に採取し、これに、高純度硝酸(4重量%)500mLを添加して1時間振とう(5ストローク/秒)させた後、硝酸中のホウ素濃度をICPMSにより測定し、以下の式から、アニオン交換樹脂中のホウ素濃度を算出した。
樹脂のホウ素含有量(μg/L−アニオン交換樹脂)
=[ICPMS分析値(μg/L)×硝酸量(0.5L)]/樹脂量(0.1L)
再生薬剤のNaOHを超純水(ホウ素濃度<1ng/L)で4重量%濃度に希釈して再生剤(以下「再生剤A」と称す。)とした。
再生剤Aのホウ素濃度を測定したところ20μg asB/L−4重量%NaOH水溶液であった。
この再生剤Aをホウ素選択性イオン交換樹脂(三菱化学(株)製ホウ素キレート樹脂「ダイヤイオン(登録商標)CRB03」)を充填したカラムにSV=10hr−1で通液してホウ素の除去処理を行った(ホウ素除去処理した再生剤Aを「再生剤B」と称す。)。
この再生剤Bのホウ素濃度は10μg asB/L−4重量%NaOH水溶液であった。
これらの結果を表1に示した。
実施例1において、再生剤Bの代りに再生剤Aを用いたこと以外は同様に再生後のアニオン交換樹脂の再生を行い、同様にアニオン交換樹脂のホウ素含有量を測定すると共に、アニオン交換樹脂充填カラムに超純水を通水して流出水中のホウ素濃度を測定し、結果を表1に示した。
図2に示すカチオン交換膜を用いた電解装置を用いて再生剤のホウ素除去処理を行った。
用いた電解装置(角型のセル)の各部の仕様は次の通りである。
有効面積:2dm2
陽極:Ti−Ptメッキ板
陰極:SUS316板
カチオン交換膜:ディユポン社製「ナフィオン(登録商標)112」
電流は2.0A、電圧は5Vで操作した。その結果、陰極室からはNaOH濃度24重量%、ホウ素濃度12μg asB/L(2μg asB/L−4重量%NaOH水溶液)のホウ素除去NaOH水溶液を得ることができ、陽極室からはNaOH24重量%、ホウ素濃度860μg asB/Lのホウ素が濃縮されたNaOH水溶液が得られた。
このアニオン交換樹脂を超純水(ホウ素濃度<1ng/L)で洗浄した後、500mLを秤り取り、H形転換率が99.95%以上のカチオン交換樹脂(ダウケミカル社製「モノスフィアCUPW(H)」)500mLと混合して、アクリル製カラム(直径40mm、高さ800mm)に充填して混床式イオン交換装置を作製した。
2 再生剤貯槽
4 ホウ素除去手段
5 再生薬剤貯槽
8 希釈水槽
10 電解セル
11 カチオン交換膜
12 陽極室
13 陰極室
Claims (3)
- イオン交換樹脂を、再生薬剤を水で希釈した再生剤と接触させて再生する方法において、該イオン交換樹脂がアニオン交換樹脂であり、該再生剤が水酸化ナトリウム水溶液であり、再生に先立ち、該再生剤をホウ素除去手段で処理してホウ素を除去することにより、該再生剤のホウ素濃度を10μg asB/L−4重量%NaOH水溶液以下とすることを特徴とするイオン交換樹脂の再生方法。
- 再生型イオン交換装置と、該再生型イオン交換装置に、再生薬剤を水で希釈した再生剤を供給する再生剤供給ラインとを有する超純水製造装置において、該イオン交換樹脂がアニオン交換樹脂であり、該再生剤が水酸化ナトリウム水溶液であり、該再生剤供給ラインにホウ素除去手段が設けられており、該ホウ素除去手段で、該再生剤が、ホウ素濃度10μg asB/L−4重量%NaOH水溶液以下に処理されることを特徴とする超純水製造装置。
- 請求項2において、前記再生剤供給ラインは、再生剤の希釈手段を有し、前記ホウ素除去手段は該希釈手段の下流側に設けられていることを特徴とする超純水製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009086342A JP5564817B2 (ja) | 2009-03-31 | 2009-03-31 | イオン交換樹脂の再生方法及び超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009086342A JP5564817B2 (ja) | 2009-03-31 | 2009-03-31 | イオン交換樹脂の再生方法及び超純水製造装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014071318A Division JP5895962B2 (ja) | 2014-03-31 | 2014-03-31 | イオン交換樹脂のホウ素汚染防止方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010234297A JP2010234297A (ja) | 2010-10-21 |
JP5564817B2 true JP5564817B2 (ja) | 2014-08-06 |
Family
ID=43089171
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009086342A Active JP5564817B2 (ja) | 2009-03-31 | 2009-03-31 | イオン交換樹脂の再生方法及び超純水製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5564817B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5617231B2 (ja) * | 2009-11-27 | 2014-11-05 | 栗田工業株式会社 | イオン交換樹脂の精製方法及び精製装置 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3200301B2 (ja) * | 1994-07-22 | 2001-08-20 | オルガノ株式会社 | 純水又は超純水の製造方法及び製造装置 |
JP3992299B2 (ja) * | 1994-09-20 | 2007-10-17 | ダイキン工業株式会社 | 超純水製造装置 |
JP3380658B2 (ja) * | 1995-09-19 | 2003-02-24 | 鶴見曹達株式会社 | アルカリ溶液の精製方法 |
JPH1128482A (ja) * | 1997-07-11 | 1999-02-02 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造方法 |
JP4045658B2 (ja) * | 1998-08-06 | 2008-02-13 | 栗田工業株式会社 | 純水製造方法 |
JP4411678B2 (ja) * | 1999-03-05 | 2010-02-10 | 栗田工業株式会社 | イオン交換樹脂の再生方法 |
JP2001017866A (ja) * | 1999-07-07 | 2001-01-23 | Kurita Water Ind Ltd | ホウ素選択吸着樹脂の調整方法 |
JP2001219163A (ja) * | 2000-02-07 | 2001-08-14 | Kurita Water Ind Ltd | ホウ素含有水の処理方法 |
JP4599803B2 (ja) * | 2002-04-05 | 2010-12-15 | 栗田工業株式会社 | 脱塩水製造装置 |
JP2003315496A (ja) * | 2002-04-25 | 2003-11-06 | Japan Organo Co Ltd | イオン交換樹脂の再生方法及びそれに用いる再生剤の精製方法 |
JP2005177564A (ja) * | 2003-12-17 | 2005-07-07 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 超純水の製造方法及び装置 |
JP2005246126A (ja) * | 2004-03-01 | 2005-09-15 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 純水又は超純水の製造装置及び製造方法 |
JP4441472B2 (ja) * | 2005-10-24 | 2010-03-31 | オルガノ株式会社 | 陽イオン交換樹脂の含有金属不純物量低減方法 |
JP5053587B2 (ja) * | 2006-07-31 | 2012-10-17 | 東亞合成株式会社 | 水酸化アルカリ金属の高純度製造方法 |
WO2009060827A1 (ja) * | 2007-11-06 | 2009-05-14 | Kurita Water Industries Ltd. | 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置 |
JP5499433B2 (ja) * | 2007-11-06 | 2014-05-21 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置 |
JP5320723B2 (ja) * | 2007-11-06 | 2013-10-23 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置 |
JP5081690B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2012-11-28 | オルガノ株式会社 | 超純水の製造方法 |
JP5556046B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2014-07-23 | 栗田工業株式会社 | 粗イオン交換樹脂の精製用の処理液 |
-
2009
- 2009-03-31 JP JP2009086342A patent/JP5564817B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010234297A (ja) | 2010-10-21 |
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Date | Code | Title | Description |
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|
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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