JP4436271B2 - 基板露光方法および基板加熱装置ならびに基板露光装置 - Google Patents
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Description
従来の露光方法では、ソルダーレジストインクがその両面に塗布された基板の表面を露光した後に、表裏反転して、その基板の裏面を露光しているが、当該基板の表面を露光するときに、マスクと基板の真空密着による圧力あるいは基板を載置するテーブルからの圧力により当該基板は、強い力で押圧される。
すなわち、基板露光方法は、表面および裏面にソルダーレジストインクが設けられた基板に対して、はじめに露光される前記表面である当初表面を露光した後、前記裏面である当初裏面を露光する基板露光方法において、前記基板の当初表面を露光する表面露光工程と、この表面露光工程により前記当初表面を露光した前記基板の表裏を反転する反転工程と、この反転工程により反転した前記基板の当初裏面に熱風を予め設定した温度において吹きつけて加熱する加熱工程と、この加熱工程により加熱した前記基板の当初裏面を露光する裏面露光工程と、を含むこととした。
このような基板露光方法では、次工程に搬送する搬送工程において、基板の裏面に対して200℃以内の熱風を吹きつけることで、基板の当初裏面を例えば、90℃から110℃となるように加熱して、ソルダーレジストインクに対して白濁および変形した状態を是正している。
このような基板露光方法では、例えば、基板の上方にファンを設け、そのファンにより作業室内のエアを強制的に基板の裏面に吹付けて、加熱工程で加熱された基板の裏面を冷却する。なお、作業室は、通常クリーンルームでありフィルタを介してそのクリーンルーム内の大気を冷却のための送風として用いるため、塵埃の影響はほとんどない。
このように構成した基板加熱装置は、基板に吹き付けた熱風を熱風排出機構により装置外に排出しているので、基板の当初表面に熱風が回りこんでその基板の当初表面を加熱することを防ぐと共に、基板に吹き付けた熱風を排出することで塵埃の影響を抑制している。
このように構成した基板加熱装置は、熱風吹付け機構により加熱された基板の当初裏面に対して、強制的に作業室内のエアを、フィルタを介して送風して吹きつけることで冷却して、基板の当初裏面におけるソルダーレジストインクの軟化あるいはレジスト樹脂の重合を適切な状態として確定させることができる。
このように構成した基板加熱装置は、作業室内のエアを基板の当初裏面に吹付けた後に、その吹付けたエアを送風排出機構により装置外あるいは作業室外に排出している。
(1)基板露光方法は、基板の当初表面を露光するときに、その基板の当初裏面に大きな圧力がかかり、すでに形成されたパターンの有る無しにより白濁したり、あるいは、基板の当初裏面に対面するテーブルの凹凸による変形を生じたりすることで、ソルダーレジストインクが本来の状態から変化しても、基板の当初裏面に対して予め設定された温度により熱風を吹付けることで、変化したソルダーレジストインクを正常な状態に戻すことができる。基板の当初裏面を加熱するときには、熱風により行うことで、基板の当初表面におけるソルダーレジストインクに対する影響を小さくし、基板の当初表面のすでに露光した状態を確保できる。また、基板露光方法を用いることで、基板の当初裏面を露光するときに正確な露光作業を行うことが可能となり、両面を露光した基板の品質が格段に向上する。
図1は基板露光装置の全体を側面から模式的に示す模式図である。
図1に示すように、基板露光装置1は、基板Wの表裏を露光するためのものであり、基板Wを予備位置決めする投入機構2と、この投入機構2に隣接して配置され、基板Wの表面Waを露光する表面露光機構3と、この表面露光機構3に隣接して配置され、基板Wの表裏を反転する反転機構4と、この反転機構4に隣接して配置され、基板Wの裏面Wbを加熱して冷却する基板加熱装置5と、この基板加熱装置5に隣接して配置され、基板Wの裏面Wbを露光する裏面露光機構11とを備えている。なお、投入機構2と表面露光機構3との間、表面露光機構3と反転機構4との間、および、基板加熱装置5と裏面露光機構11との間には、基板Wを搬送する搬送機構21,22,23とを有しており、ここでは、さらに、裏面露光機構11の後段側に、搬送機構24を有している。また、基板Wの表面Waおよび裏面Wbは、当初表面および当初裏面とする。
基板加熱装置5は、ここでは、基板Wの裏面Wbを加熱し、かつ、送風により冷却するものである。なお、基板加熱装置5は、基板Wの表面Waを加熱するのみの構成であっても構わない。基板加熱装置5は、基板Wを載置して搬送する(搬送工程)搬送ローラ(基板搬送機構)6と、この搬送ローラ6に載置して搬送する(移動させる)基板Wの裏面Wbに対して熱風を吹付ける熱風吹付け機構7と、この熱風吹付け機構7の下方で、かつ、搬送ローラ6の下方に配置した熱風を排出するための熱風排出機構9と、熱風を吹付けられた後に基板Wの裏面Wbに当該装置が設置される作業室のエアを吹付ける送風機構8と、この送風機構8により吹付けたエアを排出する送風排出機構10とを備えている。
なお、この熱風吹付け機構7は、例えば、基板Wの送り方向における先端位置をセンサ等により検知することで、電熱線7aおよびファン7bをオンさせ、また、基板Wの後端位置をセンサ等により検知することで電熱線7aおよびファン7bをオフさせるようすると、常に連続的に熱風を吹付ける場合に比較して消費電力を抑えることができる。
図2に示すように、送風機構8は、加熱された基板Wの裏面Wbを、クリーンルーム内の大気(エア)を送風して冷却するものであり、クリーンルーム室内のエアを供給する供給部8aと、この供給部8aから供給するエアをさらに浄化するためのフィルタとしてのエアフィルタ(ヘパフィルタ)8bと、このエアフィルタ8bで浄化したエアを送風する送風ファン8cと、を備えており、ここでは、送風ファン8cからのエアが効率よく基板Wの裏面Wbに送風できるようにガイド8dを備えている。
搬出機構24は、ここでは、ハンドラあるいは搬送ローラを備えており、基板Wを装置外に送り出すものであり、特にその構成を限定されるものではない。
図1に示すように、基板加熱装置5において裏面Wbが加熱および冷却された基板Wは、基板加熱装置5から搬送機構23を介して裏面露光機構11のテーブル11aに搬送されて載置される。なお、基板加熱装置5から搬送機構23に受け渡すときに載置ローラを一旦介して搬送機構23が基板Wを保持して搬送する構成としても構わない。
2 投入機構
2a 投入口
2b 搬送ローラ
2c 機構
3 表面露光機構
3a テーブル
3b マスク保持部
3c 光源
4 反転機構
4a ローラ
5 基板加熱装置
6 搬送ローラ(基板搬送機構)
6a 回転ローラ
6b 回転軸
6c 駆動機構
6d カバー体
7 熱風吹付け機構
7a 電熱線
7b ファン
7c 供給部
7d ガイド
8 送風機構
8a 供給部
8b エアフィルタ
8c 送風ファン
8d ガイド
9 熱風排出機構
9a 排出用ファン
9b 排気路
9c ガイド
10 送風排出機構
10a 排出用ファン
10b 排気路
10c ガイド
11 裏面露光機構
11a テーブル
11b マスク保持部
11c 光源
21 搬送機構
22 搬送機構
23 搬送機構
24 搬出機構
24 搬送機構
M マスク
W 基板
Wb 裏面(当初裏面)
Wa 表面(当初表面)
Claims (9)
- 表面および裏面にソルダーレジストインクが設けられた基板に対して、はじめに露光される前記表面である当初表面を露光した後、前記裏面である当初裏面を露光する基板露光方法において、
前記基板の当初表面を露光する表面露光工程と、この表面露光工程により前記当初表面を露光した前記基板の表裏を反転する反転工程と、この反転工程により反転した前記基板の当初裏面に熱風を予め設定した温度において吹きつけて加熱する加熱工程と、この加熱工程により加熱した前記基板の当初裏面を露光する裏面露光工程とを含むことを特徴とする基板露光方法。 - 前記加熱工程と前記裏面露光工程との間に、前記基板の当初裏面を送風により予め設定した温度において強制的に冷却する冷却工程を含むことを特徴とすることを特徴とする請求項1に記載の基板露光方法。
- 前記加熱工程は、前記基板を載置して次工程に搬送する搬送工程において、前記基板の当初裏面に対して200℃以下の熱風を吹きつけて行うことを特徴とする請求項1に記載の基板露光方法。
- 前記冷却工程は、各工程を行う作業室内のエアを前記基板の当初裏面に対してフィルタを介して送風することを特徴とする請求項1に記載の基板露光方法。
- 表面および裏面にソルダーレジストインクが設けられた基板に対して、はじめに露光される前記表面である当初表面を露光した後、前記裏面である当初裏面を露光する基板露光装置において使用される基板加熱装置であって、
前記当初表面を露光した基板の表裏を反転する反転機構と、この反転機構により反転した前記基板の当初裏面を露光する裏面露光機構との間に配置され、前記基板を反転機構から前記裏面露光機構の間で当該基板を載置して搬送する基板搬送機構と、この基板搬送機構の上方に配置され、前記基板の当初裏面に熱風を吹付ける熱風吹付け機構と、を備えることを特徴とする基板加熱装置。 - 前記熱風吹付け機構の下方で、かつ、前記基板搬送機構の下方に、前記基板に吹付けた熱風を当該装置外に排出する熱風排出機構を備えることを特徴とする請求項5に記載の基板加熱装置。
- 前記基板搬送機構の上方で、かつ、前記熱風吹付け機構より裏面露光機構側に配置され、当該装置が設置されている作業室内のエアを、前記基板の当初裏面に対してフィルタを介して吹付ける送風機構を備えることを特徴とする請求項5に記載の基板加熱装置。
- 前記送風機構の下方で、かつ、前記基板搬送機構の下方に、前記基板に吹付けたエアを当該装置外に排出する送風排出機構を備える請求項7に記載の基板加熱装置。
- 表面および裏面にソルダーレジストインクが設けられた基板に対して、はじめに露光される前記表面である当初表面を露光した後、前記裏面である当初裏面を露光する基板露光装置において、
前記基板を当該装置に投入する投入機構と、この投入機構に隣接して配置され、前記基板の当初表面を露光する表面露光機構と、この表面露光機構に隣接して配置され、前記基板の表裏を反転する反転機構と、この反転機構に隣接して配置され、前記基板の当初裏面に対して熱風を予め設定された温度により吹付け、その後当該装置が設置される作業室内のエアを前記基板の当初裏面に対して吹付ける基板加熱装置と、この基板加熱装置に隣接して配置され、前記基板の当初裏面を露光する裏面露光機構と、を備え、かつ、前記投入機構と前記表面露光機構との間、前記表面露光機構と前記反転機構との間、前記基板加熱装置と前記裏面露光機構との間に、それぞれ配置され前記基板を搬送する搬送機構を有することを特徴とする基板露光装置。
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