JP4429013B2 - ガラスシート基板コーティングをレーザスクライビングするための方法及び装置 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 110
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 109
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 25
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000002679 ablation Methods 0.000 claims description 26
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims description 12
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims 3
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- QWVYNEUUYROOSZ-UHFFFAOYSA-N trioxido(oxo)vanadium;yttrium(3+) Chemical compound [Y+3].[O-][V]([O-])([O-])=O QWVYNEUUYROOSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/083—Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction
- B23K26/0838—Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction by using an endless conveyor belt
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- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/062—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
- B23K26/0622—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/082—Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/362—Laser etching
- B23K26/364—Laser etching for making a groove or trench, e.g. for scribing a break initiation groove
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/40—Removing material taking account of the properties of the material involved
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/0025—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by a laser beam
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/0445—PV modules or arrays of single PV cells including thin film solar cells, e.g. single thin film a-Si, CIS or CdTe solar cells
- H01L31/046—PV modules composed of a plurality of thin film solar cells deposited on the same substrate
- H01L31/0463—PV modules composed of a plurality of thin film solar cells deposited on the same substrate characterised by special patterning methods to connect the PV cells in a module, e.g. laser cutting of the conductive or active layers
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
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- B23K2103/166—Multilayered materials
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- C03C2218/00—Methods for coating glass
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
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- Laser Beam Processing (AREA)
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- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
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Claims (15)
- レーザスクライビング方法であって、
一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされた対向する表面を有するガラスシート基板を提供し、
少なくとも50キロヘルツのパルス周波数と少なくとも8ナノ秒のパルス持続時間を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送し、
パルスレーザビームがガラスシート基板を通る位置に対して前記移送方向に沿って上流及び下流に配置された真空ポジショナによりガラスシート基板を移送方向に対して側方から位置決めし、
レーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、XYZガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、該コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも1000mm/秒の速度でスクライビングし、スクライビングの間、前記真空ポジショナがガラスシート基板の垂直向きを制御する、ことを特徴とする方法。 - 真空ポジショナが、ガラスシート基板のコーティングされていない表面でそのガラスシート基板を位置決めし、コーティングされた表面の劣化を防止することを特徴とする、請求項1に記載のレーザスクライビング方法。
- 前記真空ポジショナに近接した位置に照射されるレーザ検出ビームによってガラスシート基板の位置を検出し、前記検出した位置に基づきパルスレーザビームの焦点を合わせることを特徴とする請求項1に記載のレーザスクライビング方法。
- レーザスクライビング方法であって、
一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされた対向する表面を有するガラスシート基板を提供し、
少なくとも50キロヘルツのパルス周波数と少なくとも8ナノ秒のパルス持続時間を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送し、
コンベアによってガラスシート基板の移送に関する移送位置情報を提供し、
レーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、XYZガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、該コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも1000mm/秒の速度でスクライビングし、スクライビングする間、ガラスシート基板を静止状態に保持する、ことを特徴とする方法。 - レーザスクライビング方法であって、
一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされた対向する表面を有するガラスシート基板を提供し、
少なくとも50キロヘルツのパルス周波数と少なくとも8ナノ秒のパルス持続時間を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送し、
レーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、XYZガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、該コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも1000mm/秒の速度でスクライビングし、ガラスシート基板を移送しながらスクライビングを実施する、ことを特徴とする方法。 - レーザスクライビング方法であって、
一方がコーティングされておらず、他方が複数の層からなるコーティングがなされた対向する表面を有するガラスシート基板を提供し、
少なくとも50キロヘルツのパルス周波数と少なくとも8ナノ秒のパルス持続時間を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送し、
レーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、XYZガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、該コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも1000mm/秒の速度でスクライビングし、複数のスクライブが異なるパワーレベルで形成され、複数のスクライブが異なる層に延びる、ことを特徴とする方法。 - 複数のレーザソース及び各レーザソースに対応するXYZガルバノメータ制御ミラーが、少なくとも1000mm/秒の速度で、8乃至70ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、50乃至100キロヘルツのレンジのパルス周波数とを持ち、基本振動数での波長が近赤外線領域にある、異なるパワーレベルのパルスレーザビームで、異なるスクライブを形成するスクライビングを行うことを特徴とする請求項6に記載のレーザスクライビング方法。
- レーザスクライビング方法であって、
一方はコーティングされておらず、他方は複数の層からなるコーティングがなされた対向する表面を備えたガラスシート基板を提供し、
少なくとも8ナノ秒のパルス持続時間と少なくとも50キロヘルツのパルス周波数を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあり選択されたパワーのパルスレーザビームを提供するバナジウムレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を垂直向きに保持しながら、所定の移送方向に沿って移送し、
真空ポジショナによって、垂直向きのガラスシート基板を位置決めし、
バナジウムレーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、XYZガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングの所定の層に対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも1000mm/秒の速度でスクライビングする、ことを特徴とする方法。 - レーザスクライビング装置であって、
一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされている対向する表面を備えたガラスシート基板を所定の移送方向に沿って、垂直向きに保持しつつ移送するためのコンベヤと、
少なくとも8ナノ秒のパルス持続時間と少なくとも50キロヘルツのパルス周波数を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するように、コンベヤに近接して位置決めされたレーザソースと、
パルスレーザビームがガラスシート基板を通る位置に対して、前記移送方向に沿って上流と下流に配置され、ガラスシート基板を移送方向に対して側方から位置決めする真空ポジショナと、
ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、パルスレーザビームを反射させるXYZガルバノメータ制御ミラーと、を有し、
パルスレーザビームをガラスシート基板のコーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させて、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供して、少なくとも1000mm/秒の速度でのスクライビングを提供し、スクライビング中、前記真空ポジショナがガラスシート基板の垂直向きを制御することを特徴とする装置。 - スクライビング中、前記真空ポジショナがガラスシート基板の位置を制御する、ことを特徴とする請求項9記載の装置。
- パルスレーザビームを焦点合わせさせるために、真空ポジショナに近接した位置で、ガラスシート基板に対してレーザ検出ビームを送受信することによりガラスシート基板の位置を検出するレーザ検知器を更に含むことを特徴とする、請求項9または10に記載の装置。
- レーザスクライビング装置であって、
一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされている対向する表面を備えたガラスシート基板を所定の移送方向に沿って、垂直向きに保持しつつ移送するためのコンベヤと、
8乃至70ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、50乃至100キロヘルツのレンジのパルス周波数を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあり、コンベヤに近接して位置決めされた異なるパワーレベルのパルスレーザビームを提供する複数のレーザソースと、
少なくとも1000mm/秒の速度でのスクライビングを提供するために、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、レーザソースからのパルスレーザビームをそれぞれ反射する、複数のXYZガルバノメータ制御ミラーと、を有し、
パルスレーザビームをガラスシート基板のコーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させて、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供する、ことを特徴とする装置。 - 一方がコーティングされておらず、他方が複数の層からなるコーティングを有する対向する表面を備えたガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送するコンベヤと、
少なくとも8ナノ秒のパルス持続時間と少なくとも50キロヘルツのパルス周波数を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあり、選択されたパワーのパルスレーザビームを提供し、前記移送方向に沿って互いに間隔が隔てられて配置された複数のバナジウムレーザソースと、
ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、パルスレーザビームをそれぞれ反射する複数のXYZガルバノメータ制御ミラーと、を有し、
パルスレーザビームをガラスシート基板のコーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させて、該コーティングの1又はそれ以上の層に対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも1000mm/秒の速度でのスクライビングを提供することを特徴とするレーザスクライビングのための装置。 - パルス周波数が50乃至100キロヘルツのレンジであり、パルス持続時間が8乃至70ナノ秒のレンジであることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
- パルス周波数が50乃至100キロヘルツのレンジであり、パルス持続時間が8乃至70ナノ秒のレンジであることを特徴とする請求項9〜13のいずれか1項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/928,203 US6559411B2 (en) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | Method and apparatus for laser scribing glass sheet substrate coatings |
PCT/US2002/024925 WO2003013778A1 (en) | 2001-08-10 | 2002-08-07 | Method and apparatus for laser scribing glass sheet substrate coatings |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009204219A Division JP5280978B2 (ja) | 2001-08-10 | 2009-09-04 | ガラスシート基板コーティングをレーザスクライビングするための方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005519762A JP2005519762A (ja) | 2005-07-07 |
JP4429013B2 true JP4429013B2 (ja) | 2010-03-10 |
Family
ID=25455878
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003518767A Expired - Lifetime JP4429013B2 (ja) | 2001-08-10 | 2002-08-07 | ガラスシート基板コーティングをレーザスクライビングするための方法及び装置 |
JP2009204219A Expired - Lifetime JP5280978B2 (ja) | 2001-08-10 | 2009-09-04 | ガラスシート基板コーティングをレーザスクライビングするための方法及び装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009204219A Expired - Lifetime JP5280978B2 (ja) | 2001-08-10 | 2009-09-04 | ガラスシート基板コーティングをレーザスクライビングするための方法及び装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US6559411B2 (ja) |
EP (1) | EP1423229B1 (ja) |
JP (2) | JP4429013B2 (ja) |
TW (1) | TW572804B (ja) |
WO (1) | WO2003013778A1 (ja) |
Families Citing this family (143)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7259321B2 (en) * | 2002-01-07 | 2007-08-21 | Bp Corporation North America Inc. | Method of manufacturing thin film photovoltaic modules |
US20080105303A1 (en) * | 2003-01-03 | 2008-05-08 | Bp Corporation North America Inc. | Method and Manufacturing Thin Film Photovoltaic Modules |
JP2005297012A (ja) * | 2004-04-13 | 2005-10-27 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
KR100626554B1 (ko) * | 2004-05-11 | 2006-09-21 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 비금속재 절단장치 및 비금속재 절단시의 절단깊이 제어방법 |
US20050255238A1 (en) * | 2004-05-12 | 2005-11-17 | Myer Charles N | Pulsed heating process for curing substrates with near infrared radiation |
US20050272175A1 (en) * | 2004-06-02 | 2005-12-08 | Johannes Meier | Laser structuring for manufacture of thin film silicon solar cells |
US7718347B2 (en) * | 2006-03-31 | 2010-05-18 | Applied Materials, Inc. | Method for making an improved thin film solar cell interconnect using etch and deposition process |
US7547570B2 (en) * | 2006-03-31 | 2009-06-16 | Applied Materials, Inc. | Method for forming thin film photovoltaic interconnects using self-aligned process |
US20070227578A1 (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-04 | Applied Materials, Inc. | Method for patterning a photovoltaic device comprising CIGS material using an etch process |
JP2007275962A (ja) * | 2006-04-10 | 2007-10-25 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
GB2439962B (en) * | 2006-06-14 | 2008-09-24 | Exitech Ltd | Process and apparatus for laser scribing |
DE102006033296A1 (de) * | 2006-07-17 | 2008-01-31 | Manz Automation Ag | Anlage zur Strukturierung von Solarmodulen |
CN101134263A (zh) * | 2006-09-01 | 2008-03-05 | 富士迈半导体精密工业(上海)有限公司 | 激光加工方法及相应的激光加工装置 |
GB0622232D0 (en) * | 2006-11-08 | 2006-12-20 | Rumsby Philip T | Method and apparatus for laser beam alignment for solar panel scribing |
CN101646800A (zh) * | 2007-02-01 | 2010-02-10 | 威拉德&凯尔西太阳能集团有限责任公司 | 用于玻璃板半导体涂覆的系统和方法 |
CN101675531B (zh) * | 2007-02-16 | 2013-03-06 | 纳克公司 | 太阳能电池结构、光生伏打模块及对应的工艺 |
DE102007015767A1 (de) * | 2007-03-30 | 2008-10-02 | Oerlikon Optics UK Ltd., Yarnton | Methode zum Laserritzen von Solarzellen |
US20080263877A1 (en) * | 2007-04-24 | 2008-10-30 | Newport Corporation | Laser scribing system and method of use |
GB0802289D0 (en) * | 2008-02-07 | 2008-03-12 | Rumsby Philip T | Method and appartus for making a partially transparent solar panel |
US20090255911A1 (en) * | 2008-04-10 | 2009-10-15 | Applied Materials, Inc. | Laser scribing platform and hybrid writing strategy |
TW201002466A (en) * | 2008-04-10 | 2010-01-16 | Applied Materials Inc | Laser-scribing platform |
CN101999166A (zh) * | 2008-04-11 | 2011-03-30 | 应用材料股份有限公司 | 用于激光刻划、熔接或任何构图系统的动态刻划对准 |
TW201006598A (en) * | 2008-04-11 | 2010-02-16 | Applied Materials Inc | Laser scribe inspection methods and systems |
US20090314752A1 (en) * | 2008-05-14 | 2009-12-24 | Applied Materials, Inc. | In-situ monitoring for laser ablation |
US9782949B2 (en) | 2008-05-30 | 2017-10-10 | Corning Incorporated | Glass laminated articles and layered articles |
US8514476B2 (en) | 2008-06-25 | 2013-08-20 | View, Inc. | Multi-pane dynamic window and method for making same |
DE102008032555B3 (de) * | 2008-07-10 | 2010-01-21 | Innolas Systems Gmbh | Strukturierungsvorrichtung für die Strukturierung von plattenförmigen Elementen, insbesondere von Dünnschicht-Solarmodulen, entsprechendes Strukturierungsverfahren sowie Verwendung derselben |
DE102008059813A1 (de) * | 2008-07-17 | 2010-01-21 | Lss Laser Scribing Systems Ag | Laser-Scribing-System zum Strukturieren von Substraten für Dünnschichtsolarmodule |
US7981778B2 (en) * | 2009-07-22 | 2011-07-19 | Applied Materials, Inc. | Directional solid phase crystallization of thin amorphous silicon for solar cell applications |
CN103537811A (zh) | 2008-08-26 | 2014-01-29 | 应用材料公司 | 激光材料移除方法和设备 |
US7994418B2 (en) * | 2008-09-18 | 2011-08-09 | General Electric Company | Monolithically connected photovoltaic devices on flexible substrates |
JP2010087041A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-15 | Ulvac Japan Ltd | レーザービームによる薄膜の除去方法及び薄膜太陽電池パネルの製造方法 |
CN102245339B (zh) * | 2008-10-10 | 2015-08-26 | Ipg微系统有限公司 | 具有多重细激光束传输系统的激光加工系统和方法 |
WO2010059595A2 (en) * | 2008-11-19 | 2010-05-27 | Applied Materials, Inc. | Laser-scribing tool architecture |
WO2010071201A1 (ja) * | 2008-12-19 | 2010-06-24 | シャープ株式会社 | 膜除去方法、光電変換装置の製造方法、光電変換装置、および膜除去装置 |
US20100212358A1 (en) * | 2009-02-26 | 2010-08-26 | Applied Materials, Inc. | Glass substrate orientation inspection methods and systems for photo voltaics production |
US10852613B2 (en) | 2009-03-31 | 2020-12-01 | View, Inc. | Counter electrode material for electrochromic devices |
US8432603B2 (en) | 2009-03-31 | 2013-04-30 | View, Inc. | Electrochromic devices |
US10591795B2 (en) | 2009-03-31 | 2020-03-17 | View, Inc. | Counter electrode for electrochromic devices |
US10156762B2 (en) | 2009-03-31 | 2018-12-18 | View, Inc. | Counter electrode for electrochromic devices |
US8764951B2 (en) | 2010-04-30 | 2014-07-01 | View, Inc. | Electrochromic devices |
US8764950B2 (en) | 2010-04-30 | 2014-07-01 | View, Inc. | Electrochromic devices |
US8300298B2 (en) | 2010-04-30 | 2012-10-30 | Soladigm, Inc. | Electrochromic devices |
US10261381B2 (en) | 2009-03-31 | 2019-04-16 | View, Inc. | Fabrication of low defectivity electrochromic devices |
US11187954B2 (en) | 2009-03-31 | 2021-11-30 | View, Inc. | Electrochromic cathode materials |
US8582193B2 (en) | 2010-04-30 | 2013-11-12 | View, Inc. | Electrochromic devices |
US9261751B2 (en) | 2010-04-30 | 2016-02-16 | View, Inc. | Electrochromic devices |
US8333843B2 (en) * | 2009-04-16 | 2012-12-18 | Applied Materials, Inc. | Process to remove metal contamination on a glass substrate |
US20100269853A1 (en) * | 2009-04-27 | 2010-10-28 | Applied Materials, Inc. | Debris-extraction exhaust system |
WO2010126699A2 (en) | 2009-04-29 | 2010-11-04 | Hunter Douglas Industries B.V. | Architectural panels with organic photovoltaic interlayers and methods of forming the same |
DE102009020365A1 (de) | 2009-05-07 | 2010-11-11 | Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Dünnschichtsolarzellenmodulen mit einer vorbestimmten Transparenz |
US20100294349A1 (en) * | 2009-05-20 | 2010-11-25 | Uma Srinivasan | Back contact solar cells with effective and efficient designs and corresponding patterning processes |
US20100294352A1 (en) * | 2009-05-20 | 2010-11-25 | Uma Srinivasan | Metal patterning for electrically conductive structures based on alloy formation |
US8706288B2 (en) * | 2009-05-21 | 2014-04-22 | Electro Scientific Industries, Inc. | Apparatus and method for non-contact sensing of transparent articles |
US20100314367A1 (en) * | 2009-06-12 | 2010-12-16 | Applied Materials, Inc. | Methods and systems for laser-scribed line alignment |
DE102009031233A1 (de) | 2009-06-26 | 2010-12-30 | Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh | Vorrichtung zur Strukturierung von Dünnschichtsolarzellenmodulen mittels Laser |
US20100330711A1 (en) * | 2009-06-26 | 2010-12-30 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for inspecting scribes in solar modules |
US20110005458A1 (en) * | 2009-07-13 | 2011-01-13 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for improving scribe accuracy in solar cell modules |
US20110008947A1 (en) * | 2009-07-13 | 2011-01-13 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for performing multifunction laser processes |
DE112010003736T5 (de) * | 2009-08-06 | 2013-02-28 | Applied Materials, Inc. | Ritzen von quer verlaufenden ISO-Linien, verknüpfen, und vereinfachte Laser- und Scannersteuerungen |
WO2011017569A2 (en) * | 2009-08-06 | 2011-02-10 | Applied Materials, Inc. | Methods and related systems for thin-film laser scribing with enhanced throughput |
WO2011017570A2 (en) * | 2009-08-06 | 2011-02-10 | Applied Materials, Inc. | In-line metrology methods and systems for solar cell fabrication |
WO2011017572A2 (en) * | 2009-08-06 | 2011-02-10 | Applied Materials, Inc. | Laser modules and processes for thin film solar panel laser scribing |
US8932510B2 (en) * | 2009-08-28 | 2015-01-13 | Corning Incorporated | Methods for laser cutting glass substrates |
KR101094284B1 (ko) * | 2009-09-02 | 2011-12-19 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 기판 절단 장치 및 이를 이용한 기판 절단 방법 |
US20110065227A1 (en) * | 2009-09-15 | 2011-03-17 | Applied Materials, Inc. | Common laser module for a photovoltaic production line |
MY160582A (en) * | 2009-09-22 | 2017-03-15 | First Solar Inc | System and method for tracking and removing coating from an edge of a substrate |
IN2012DN02442A (ja) * | 2009-09-22 | 2015-08-21 | First Solar Inc | |
KR101144570B1 (ko) * | 2009-09-30 | 2012-05-11 | 엘지이노텍 주식회사 | 태양전지 및 이의 제조방법 |
WO2011043734A1 (en) * | 2009-10-07 | 2011-04-14 | Manufacturing Integration Technology Ltd | Laser scribing of thin-film solar cell panel |
US8865569B2 (en) | 2009-10-22 | 2014-10-21 | M-Solv Ltd. | Method and apparatus for dividing thin film device into separate cells |
GB2474665B (en) | 2009-10-22 | 2011-10-12 | M Solv Ltd | Method and apparatus for dividing thin film device into separate cells |
US20110139755A1 (en) * | 2009-11-03 | 2011-06-16 | Applied Materials, Inc. | Multi-wavelength laser-scribing tool |
US8946590B2 (en) * | 2009-11-30 | 2015-02-03 | Corning Incorporated | Methods for laser scribing and separating glass substrates |
US11314139B2 (en) | 2009-12-22 | 2022-04-26 | View, Inc. | Self-contained EC IGU |
US10303035B2 (en) | 2009-12-22 | 2019-05-28 | View, Inc. | Self-contained EC IGU |
US20110155707A1 (en) * | 2009-12-31 | 2011-06-30 | Du Pont Apollo Limited | Laser scribing apparatus and process for solar panel |
US9759975B2 (en) | 2010-04-30 | 2017-09-12 | View, Inc. | Electrochromic devices |
EP3557624A1 (en) | 2010-05-28 | 2019-10-23 | Flisom AG | Method and apparatus for integrated optoelectronic modules with busbar and with via holes interconnects |
US8247682B2 (en) * | 2010-06-29 | 2012-08-21 | Primestar Solar, Inc. | Metallic gridlines as front contacts of a cadmium telluride based thin film photovoltaic device |
DE202010013161U1 (de) | 2010-07-08 | 2011-03-31 | Oerlikon Solar Ag, Trübbach | Laserbearbeitung mit mehreren Strahlen und dafür geeigneter Laseroptikkopf |
US20120021536A1 (en) * | 2010-07-23 | 2012-01-26 | Primestar Solar, Inc. | Method and system for application of an insulating dielectric material to photovoltaic module substrates |
US8720228B2 (en) | 2010-08-31 | 2014-05-13 | Corning Incorporated | Methods of separating strengthened glass substrates |
GB2483922B (en) | 2010-09-25 | 2013-11-20 | M Solv Ltd | Method and apparatus for dividing thin film device into separate cells |
US20120074109A1 (en) * | 2010-09-29 | 2012-03-29 | General Electric Company | Method and system for scribing a multilayer panel |
CN102593238A (zh) * | 2010-10-12 | 2012-07-18 | 上方能源技术(杭州)有限公司 | 用于薄膜太阳能电池的激光划线方法及其设备 |
US8164818B2 (en) | 2010-11-08 | 2012-04-24 | Soladigm, Inc. | Electrochromic window fabrication methods |
US9958750B2 (en) | 2010-11-08 | 2018-05-01 | View, Inc. | Electrochromic window fabrication methods |
US10180606B2 (en) | 2010-12-08 | 2019-01-15 | View, Inc. | Connectors for smart windows |
US8643933B2 (en) | 2011-12-14 | 2014-02-04 | View, Inc. | Connectors for smart windows |
WO2012078634A2 (en) | 2010-12-08 | 2012-06-14 | Soladigm, Inc. | Improved spacers for insulated glass units |
US9442339B2 (en) | 2010-12-08 | 2016-09-13 | View, Inc. | Spacers and connectors for insulated glass units |
US8912083B2 (en) | 2011-01-31 | 2014-12-16 | Nanogram Corporation | Silicon substrates with doped surface contacts formed from doped silicon inks and corresponding processes |
DE102011000673A1 (de) | 2011-02-11 | 2012-08-16 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Einbringen von Ausnehmungen in ein Substrat mittels Laserstrahlen |
US9454055B2 (en) | 2011-03-16 | 2016-09-27 | View, Inc. | Multipurpose controller for multistate windows |
US10429712B2 (en) | 2012-04-20 | 2019-10-01 | View, Inc. | Angled bus bar |
US10175549B2 (en) | 2011-03-16 | 2019-01-08 | View, Inc. | Connectors for smart windows |
US8207009B2 (en) * | 2011-04-19 | 2012-06-26 | Primestar Solar, Inc. | Methods of temporally varying the laser intensity during scribing a photovoltaic device |
GB2492971B (en) | 2011-07-15 | 2013-09-18 | M Solv Ltd | Method and apparatus for dividing thin film device into separate cells |
CN102299209B (zh) * | 2011-09-13 | 2013-04-10 | 上海太阳能电池研究与发展中心 | 集成薄膜太阳能电池组件的制备方法 |
US20130122687A1 (en) * | 2011-11-16 | 2013-05-16 | Applied Materials, Inc. | Laser scribing systems, apparatus, and methods |
US8677783B2 (en) | 2011-11-28 | 2014-03-25 | Corning Incorporated | Method for low energy separation of a glass ribbon |
US8377737B1 (en) | 2011-11-30 | 2013-02-19 | Primestar Solar, Inc. | Methods of short wavelength laser scribing of a thin film photovoltaic device |
US11048137B2 (en) | 2011-12-12 | 2021-06-29 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
CA2859023C (en) | 2011-12-12 | 2023-08-22 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
US10739658B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-08-11 | View, Inc. | Electrochromic laminates |
US10606142B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-03-31 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
US11719039B2 (en) | 2011-12-14 | 2023-08-08 | View, Inc. | Connectors for smart windows |
JP2013143563A (ja) | 2012-01-10 | 2013-07-22 | Hzo Inc | 内部耐水性被覆を備える電子デバイスを組み立てるためのシステム |
US11635666B2 (en) | 2012-03-13 | 2023-04-25 | View, Inc | Methods of controlling multi-zone tintable windows |
US9341912B2 (en) | 2012-03-13 | 2016-05-17 | View, Inc. | Multi-zone EC windows |
HUE047861T2 (hu) * | 2012-03-23 | 2020-05-28 | Hzo Inc | Berendezések, rendszerek és eljárások védõbevonatoknak elektronikus eszközök részegységeire történõ felviteléhez |
US11255120B2 (en) | 2012-05-25 | 2022-02-22 | View, Inc. | Tester and electrical connectors for insulated glass units |
US9938180B2 (en) | 2012-06-05 | 2018-04-10 | Corning Incorporated | Methods of cutting glass using a laser |
US10288971B2 (en) | 2012-08-23 | 2019-05-14 | View, Inc. | Photonic-powered EC devices |
US9610653B2 (en) | 2012-09-21 | 2017-04-04 | Electro Scientific Industries, Inc. | Method and apparatus for separation of workpieces and articles produced thereby |
CN103121365B (zh) * | 2012-12-20 | 2014-02-12 | 苏州菱欧自动化设备有限公司 | 激光刻印装置 |
TWI555599B (zh) * | 2013-02-25 | 2016-11-01 | 先進科技新加坡有限公司 | 在雷射劃刻裝置中執行光束特徵化之方法,及可執行此方法之雷射劃刻裝置 |
RU2678028C2 (ru) | 2013-06-18 | 2019-01-22 | Вью, Инк. | Электрохромные устройства непрямоугольных форм |
CN106258012B (zh) | 2014-01-31 | 2018-07-17 | 弗里索姆股份公司 | 用于光伏器件中的薄膜通孔段的方法 |
US11891327B2 (en) | 2014-05-02 | 2024-02-06 | View, Inc. | Fabrication of low defectivity electrochromic devices |
GB2527553B (en) | 2014-06-25 | 2017-08-23 | Fianium Ltd | Laser processing |
CN112327556A (zh) | 2014-09-05 | 2021-02-05 | 唯景公司 | 用于电致变色装置的反电极 |
EP4220291A3 (en) | 2014-11-26 | 2023-10-04 | View, Inc. | Counter electrode for electrochromic devices |
US9899546B2 (en) | 2014-12-05 | 2018-02-20 | Tesla, Inc. | Photovoltaic cells with electrodes adapted to house conductive paste |
US20160172243A1 (en) * | 2014-12-11 | 2016-06-16 | Nxp B.V. | Wafer material removal |
WO2016100075A1 (en) | 2014-12-15 | 2016-06-23 | View, Inc. | Seals for electrochromic windows |
CA2969290C (en) * | 2014-12-18 | 2020-02-25 | Saint-Gobain Glass France | Method for producing a composite pane with a corrosion-protected functional coating |
NL2014040B1 (en) * | 2014-12-23 | 2016-10-12 | Stichting Energieonderzoek Centrum Nederland | Method of making a curent collecting grid for solar cells. |
ITUB20152328A1 (it) * | 2015-07-20 | 2017-01-20 | Tapematic Spa | Metodo e macchina per la decorazione di oggetti di piccole dimensioni e prodotto ottenibile |
WO2018152249A1 (en) | 2017-02-16 | 2018-08-23 | View, Inc. | Solar power dynamic glass for heating and cooling buildings |
FR3070977B1 (fr) * | 2017-09-14 | 2020-05-22 | Dalloz Creations | Nouveau procede de miroitage partiel de verres de lunettes, et verres obtenus grace audit procede |
FR3105044B1 (fr) * | 2019-12-20 | 2022-08-12 | Saint Gobain | Dispositif de traitement d’un substrat |
US20230083188A1 (en) | 2020-02-18 | 2023-03-16 | Agc Glass Europe | Apparatus for removing at least one portion of at least one coating system presenting a multi-glazed window and associated method |
JP7425966B2 (ja) * | 2020-03-12 | 2024-02-01 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス板の製造方法及びその製造装置 |
WO2021239603A1 (en) | 2020-05-26 | 2021-12-02 | Agc Glass Europe | Apparatus and method for removing at least one portion of at least one coating system present in a multi-glazed window mounted on a stationary or mobile object |
WO2021239597A1 (en) | 2020-05-26 | 2021-12-02 | Agc Glass Europe | Apparatus and method for removing at least one portion of at least one coating system present in a multi-glazed window mounted on a stationary or mobile object |
EP4251363A2 (en) | 2020-11-30 | 2023-10-04 | AGC Glass Europe | Laser apparatus for mounting on a window mounted in situ comprising a skirt and associated method and use |
EP4251362A2 (en) | 2020-11-30 | 2023-10-04 | AGC Glass Europe | Laser apparatus comprising a closing means and associated method and use |
US20230415275A1 (en) | 2020-11-30 | 2023-12-28 | Agc Glass Europe | Decoating apparatus and associated method to decoat at least partially a portion of a coating system presents on a surface of a window mounted in situ |
WO2022112530A2 (en) | 2020-11-30 | 2022-06-02 | Agc Glass Europe | Method of calibrating a focal point of a laser apparatus mounted on a window mounted in situ |
CN112768556A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-05-07 | 中国建材国际工程集团有限公司 | 一种CdTe太阳电池的制作工艺 |
WO2024115699A1 (en) | 2022-12-02 | 2024-06-06 | Agc Glass Europe | Apparatus and associated methods for removing at least one portion of at least one coating system present in a multi-glazed window mounted on a stationary or mobile object |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4292092A (en) | 1980-06-02 | 1981-09-29 | Rca Corporation | Laser processing technique for fabricating series-connected and tandem junction series-connected solar cells into a solar battery |
US4535218A (en) * | 1982-10-20 | 1985-08-13 | Westinghouse Electric Corp. | Laser scribing apparatus and process for using |
US4645547A (en) * | 1982-10-20 | 1987-02-24 | Westinghouse Electric Corp. | Loss ferromagnetic materials and methods of improvement |
JPS59107579A (ja) * | 1982-12-11 | 1984-06-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換装置の作製方法 |
JPS6018973A (ja) * | 1983-07-13 | 1985-01-31 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換半導体装置 |
US4594471A (en) | 1983-07-13 | 1986-06-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Photoelectric conversion device |
US4568409A (en) | 1983-11-17 | 1986-02-04 | Chronar Corp. | Precision marking of layers |
US4598039A (en) * | 1984-07-02 | 1986-07-01 | At&T Bell Laboratories | Formation of features in optical material |
JPS61263172A (ja) | 1985-05-16 | 1986-11-21 | Fuji Electric Co Ltd | 薄膜太陽電池の製造方法 |
JPS6240986A (ja) * | 1985-08-20 | 1987-02-21 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | レ−ザ−加工方法 |
US4752455A (en) * | 1986-05-27 | 1988-06-21 | Kms Fusion, Inc. | Pulsed laser microfabrication |
US4705698A (en) * | 1986-10-27 | 1987-11-10 | Chronar Corporation | Isolation of semiconductor contacts |
US4892592A (en) | 1987-03-26 | 1990-01-09 | Solarex Corporation | Thin film semiconductor solar cell array and method of making |
US4929092A (en) * | 1987-06-12 | 1990-05-29 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Resistance temperature detector |
US4854974A (en) | 1987-06-29 | 1989-08-08 | Solarex Corporation | Electrical contacts for a thin-film semiconductor device |
JP2587972B2 (ja) * | 1988-01-06 | 1997-03-05 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 薄膜構造 |
CA2024662A1 (en) | 1989-09-08 | 1991-03-09 | Robert Oswald | Monolithic series and parallel connected photovoltaic module |
DE59100570D1 (de) * | 1990-04-23 | 1993-12-16 | Bystronic Laser Ag Niederoenz | Verfahren und Anlage zum Schneiden von Flachmaterial. |
DE4034089A1 (de) * | 1990-10-26 | 1992-04-30 | Pierburg Gmbh | Verfahren zur steuerung eines elektropneumatischen stellers |
EP0536431B1 (de) | 1991-10-07 | 1994-11-30 | Siemens Aktiengesellschaft | Laserbearbeitungsverfahren für einen Dünnschichtaufbau |
US5248349A (en) | 1992-05-12 | 1993-09-28 | Solar Cells, Inc. | Process for making photovoltaic devices and resultant product |
JP3165304B2 (ja) * | 1992-12-04 | 2001-05-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法及び半導体処理装置 |
CN100367461C (zh) * | 1993-11-05 | 2008-02-06 | 株式会社半导体能源研究所 | 一种制造薄膜晶体管和电子器件的方法 |
US5658474A (en) * | 1994-12-16 | 1997-08-19 | Alza Corporation | Method and apparatus for forming dispenser delivery ports |
JP3510740B2 (ja) | 1996-08-26 | 2004-03-29 | シャープ株式会社 | 集積型薄膜太陽電池の製造方法 |
US5934163A (en) | 1997-01-14 | 1999-08-10 | Vorum Research Corporation | Carving blank and mandrel for mounting same in a carving machine |
US6037241A (en) | 1998-02-19 | 2000-03-14 | First Solar, Llc | Apparatus and method for depositing a semiconductor material |
JP2000052071A (ja) * | 1998-08-04 | 2000-02-22 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ光を用いた薄膜除去方法 |
JP2000208798A (ja) * | 1999-01-13 | 2000-07-28 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 薄膜構成体の加工方法 |
US6420675B1 (en) * | 1999-10-08 | 2002-07-16 | Nanovia, Lp | Control system for ablating high-density array of vias or indentation in surface of object |
US6300593B1 (en) * | 1999-12-07 | 2001-10-09 | First Solar, Llc | Apparatus and method for laser scribing a coated substrate |
US7157038B2 (en) * | 2000-09-20 | 2007-01-02 | Electro Scientific Industries, Inc. | Ultraviolet laser ablative patterning of microstructures in semiconductors |
-
2001
- 2001-08-10 US US09/928,203 patent/US6559411B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-08-07 WO PCT/US2002/024925 patent/WO2003013778A1/en active Application Filing
- 2002-08-07 EP EP02768438.0A patent/EP1423229B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-07 JP JP2003518767A patent/JP4429013B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-09 TW TW91117978A patent/TW572804B/zh not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-04-30 US US10/425,704 patent/US6919530B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-08-11 US US10/915,736 patent/US9457429B2/en active Active
-
2009
- 2009-09-04 JP JP2009204219A patent/JP5280978B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9457429B2 (en) | 2016-10-04 |
JP2010012519A (ja) | 2010-01-21 |
WO2003013778A1 (en) | 2003-02-20 |
US6559411B2 (en) | 2003-05-06 |
US20030209527A1 (en) | 2003-11-13 |
JP5280978B2 (ja) | 2013-09-04 |
WO2003013778B1 (en) | 2003-08-14 |
US6919530B2 (en) | 2005-07-19 |
EP1423229B1 (en) | 2016-02-24 |
JP2005519762A (ja) | 2005-07-07 |
EP1423229A1 (en) | 2004-06-02 |
US20050016972A1 (en) | 2005-01-27 |
TW572804B (en) | 2004-01-21 |
US20030029848A1 (en) | 2003-02-13 |
EP1423229A4 (en) | 2009-11-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050729 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071004 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071022 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20080110 |
|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080125 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080115 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080213 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090109 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091124 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091215 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121225 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4429013 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121225 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131225 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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