JP4429013B2 - ガラスシート基板コーティングをレーザスクライビングするための方法及び装置 - Google Patents
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Description
本発明は、ガラスシート基板上にコーティングされた層のレーザスクライビングのための方法及び装置に関する。
ガラスシート基板上にコーティングされた層のレーザスクライビングは、米国特許第4,292,092号によって開示され、何年も前から行われている。大きくは、レーザスクライビングは、基板のコーティングされた側から差し向けられたレーザビームによって実行されるが、スクライビングは、Caplanによる米国特許第4,568,409号、Carlson等による米国特許第4,854,974号、Dickson等による米国特許第4,892,592号、Praschek等による米国特許第5,296,674号、Oswald等による米国特許第5,593,901号によって開示されているようなスクライブされたコーティング層に対してガラスシート基板を介してレーザビームを差し向けることによって実行されることもある。
伝統的なレーザ処理システムは、２つのタイプがある。一つは、コーティングされたガラスシートがスクライビングのために支持される可動式ＸＹテーブル（２軸）上に取り付けられた固定されたレーザヘッドを含み、他の一方は、一軸可動式テーブル上に取り付けられた一軸可動式レーザスキャンニングヘッドを含むものである。第１のタイプの大きな欠点は、大きなＸＹテーブルの速度制限であり、それは一般的には約３００乃至５００mm／秒のレンジである。かくして、商業的に実用的な出力を達成するためには、複数のレーザノズルを供給する複数のレーザ又はスプリットビームを利用する必要がある。高くつくことに加えて、かかるシステムは、困難な光学アライメントを維持する必要があり、また、各ノズルのパワーを個々に制御する必要がある。更に、スクライブの間の間隔を容易にするためにノズル間の調整及びリアルタイムスペーシングをとらなければならない。レーザヘッドを約７００乃至８００mm／秒より早く移動させることが困難なため、他のシステムもまた同じ問題を有する。
本件出願に関する調査中に気付いた他のレーザスクライビング特許は、ヤマザキによる米国特許第4,603,470号、ニシウラによる米国特許第4,689,874号及びキドグチによる米国特許第5,956,572号を含む。
本件発明の目的は、相対的に高速にガラスシート基板コーティングをレーザスクライビングするための改良された方法を提供することであり、それにより費用対効果の高い製品を提供することができる。
上記目的を達成するために、一方がコーティングされておらず他の一方がコーティングされた対向する表面を備えたガラスシート基板でレーザスクライビングを実行する。コーティングされたガラスシート基板は、レーザソースと近接して、所定の移送方向に沿って移送され、かかるレーザソースは、８乃至７０ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、５０乃至１００キロヘルツのレンジのパルス周波数と、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供する。パルスレーザビームは、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、ＸＹＺガルバノメータ制御ミラーによって反射され、該コーティングされていない表面を通過して、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達し、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも１０００ｍｍ／秒の速度でスクライビングする。
ガラスシート基板は、垂直向きで移送され、パルスレーザビームがガラスシート基板を通る位置から所定の移送方向に沿って上流及び下流に配置された真空ポジショナによって移送される方向に対して側方から位置決めされ、かかる真空ポジショナがガラスシート基板の平面を制御する。真空ポジショナは、ガラスシート基板の非コーティング表面でそのガラスシート基板を位置決めし、コーティングされた表面の劣化を防止する。
スクライビングレーザビームが適当に焦点合わせされるように、レーザ検知器は、コーティングされた表面の正確な位置を検知する。
本発明にかかる方法のある実施形態では、コンベアによってガラスシート基板の移送に関する移送位置情報が提供され、ガラスシート基板はスクライビングする間、静止状態に保持される。
別の実施形態では、レーザスクライビングは、ガラスシート基板を移送しながら実施される。
レーザスクライビング方法を実施するとき、コーティングされたガラスシート基板は、複数の異なるコーティング層を有するように露出され、複数のレーザスクライブが異なるパワーレベルで行われ、その結果、スクライブは異なる層にまで延びる。特に、最も高速なパフォーマンスのレーザスクライビング方法では、複数のレーザソース及びＸＹＺガルバノメータ制御ミラーはそれぞれ、少なくとも１０００ｍｍ／秒のスクライビング速度で、各々８乃至７０ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、５０乃至１００キロヘルツのレンジのパルス周波数と、基本振動数での波長が近赤外線領域にある波長で、異なるパワーレベルで異なるスクライブのパルスレーザスクライビングを提供する。
本発明の異なる目的は、ガラスシート基板のコーティングをレーザスクライビングするための改良された装置を提供することである。
かかる目的を達成するために、本発明にかかる装置は、一方がコーティングされておらず、他の一方がコーティングされた対向する表面を備えたガラスシート基板を所定の移送方向に沿ってガラスシート基板を移送するためのコンベヤを包含する。レーザソースは、８乃至７０ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、５０乃至１００キロヘルツのレンジのパルス周波数と、基本振動数での波長が近赤外線領域にある波長とを備えたパルスレーザビームを提供することである。ＸＹＺガルバノメータ制御ミラーは、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、パルスレーザビームを反射させる。そして、パルスレーザビームをガラスシート基板のコーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させて、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供して、少なくとも１０００ｍｍ／秒の速度でのスクライビングを提供する。
装置は、ガラスシート基板を垂直向きに保持するとともに、パルスレーザビームがガラスシート基板を通る位置に対して移送方向に沿って上流及び下流に配置された真空ポジショナを含み、レーザスクライビング中、真空ポジショナがガラスシート基板の平面を制御する。
装置は、スクライビングレーザビームが適当に焦点合わせされるように、コーティングされたガラスシート基板の正確な位置を検出するレーザ検知器を包含する。
開示された装置は、各々８乃至７０ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、５０乃至１００キロヘルツのレンジのパルス周波数と、基本振動数での波長が近赤外線領域の波長で、異なるパワーレベルで作動する複数のパルスレーザソースを含み、かかる装置の複数のＸＹＺガルバノメータ制御レーザミラーシステムは、少なくとも１０００ｍｍ／秒の速度のスクライビングを提供するために、レーザソースからパルスレーザビームをそれぞれ反射する。
本件発明の１又はそれ以上の実施形態を、添付の図面と図面の説明と併せて詳細に説明する。本件発明の他の特徴、目的、及び利点があることは、詳細な説明、図面及び特許請求の範囲から明らかである。
図１、２及び３を参照すると、システム２０は、光起電性パネル２２の製造に用いられるステーションを含む。光起電性パネル２２は、図３に示した酸化錫層２６でコーティングされた一方の表面を備えたガラスシート基板２４を使用して製造される。酸化錫でコーティングされたガラスシート基板２４の洗浄及び清浄後、第１のステーション３０で硫化カドミウム層２８を約３０００オングストローム厚堆積する。ガラスシート基板２４が第２のステーション３２に矢印Ｃによって示された輸送の方向に沿って移送され、第２のステーション３２で、処理ステーション３６及び３８に移送される前に、テルル化カドミウム層３４を約３ミクロン厚堆積する。第１のスクライビングステーション４０にガラスシート基板２４の移送をした後、酸化錫層２６、硫化カドミウム層２８及びテルル化カドミウム層３４を介して、これより後により詳細に述べる本件発明によって実施される仕方で、パルスレーザスクライビング装置４２aは第１のセットのスクライブ４４のスクライビングを提供する。第１のセットのスクライブ４４のスクライビング後、次いで、ガラスシート基板２４はステーション４６に移送される。そこでは第１のセットのスクライブ４４は、誘電材料４８に満たされ、その後、ガラスシート基板２４は第２のスクライビングステーション５０に移送される。そこでは、本件発明によって構築されたパルスレーザスクライビング装置４２bが、酸化錫層２６をスクライビングすることなく、硫化カドミウム層２８及びテルル化カドミウム層３４に対して第２のセットのスクライブ５２のスクライビングを提供するために、第１のスクライビングステーションより低いパワーレベルで作動する。次いで、ガラスシート基板２４はコーティングステーション５４に移送され、そこでは、処理ステーション５８に移動される前に、導電バック電極層５６（図５）がつけられる。次いで、ガラスシート基板２４は第３のスクライビングステーション６０に移送され、そこで、本件発明によって構築されたスクライビング装置４２cが、電気的に互いに直列に通電する個々のセル６４を提供するために、バック電極層５６に対して第３のセットのスクライブ６２を提供するために、第２のスクライビングステーションよりも低いパワーレベルで作動する。図２に示すような電気的コネクタ６５を、パネルの電気的接続のために設ける。
図１に示したステーション３０での硫化カドミウムの堆積、及び、ステーション３２でのテルル化カドミウムの堆積は、Foote等による米国特許第5,248,349号、Foote等による米国特許第5,372,646号、Foote等による米国特許第5,470,397号、Foote等による米国特許第5,536,333号、Powell等による米国特許第5,934,163号、及びPowell等による米国特許第6,037,241号の開示に従って実施され、何れの開示もここにリファレンスとして組み入れる。
図２に示した光起電性パネル２２は、その対辺６６が約６０ｃｍ（６００ｍｍ）の幅を持ち、対辺６８が約１２０ｃｍの長さをもつ細長い形状を有する。更に、上述のスクライビングは、関係するスクライブを含む各セルに関する有用なスペースが１ｃｍよりも僅かに大きい１１５個のセル６４を提供する。かくして、１１５個のセルのパネルを提供するために各セットのスクライブは、全長約６９，０００ｍｍを有する。経済的な製造を実施するために、パネルはすぐに作られ、又は、レーザ装置は約１０００mm／秒以上の速度でスクライビングをしなければならない。実際に、後で詳述する本件発明のスクライビング装置は、ステーション間の移送時間のために、２０００乃至３００mm／秒のスクライブ速度を有する。各セットのスクライブを行うために単一のレーザ装置を使用することができる場合は、図１に示した３つのスクライビングステーションの各々でレーザスクライビング装置４２a、４２b及び４２cの供給は、より高速なオペレーションと、その結果としてより費用対効果的に有効な製品を提供する。
コーティングガラスシート基板をレーザスクライビングするための方法は、本発明の全ての態様の理解を容易にするためにレーザスクライビング装置４２と統合した仕方で説明する。このレーザスクライビング装置４２は、図６乃至１０に図示してあり、右ローディングエンド７０、左アンローディングエンド７２及び中央レーザスクライビングモジュール７４を含む図８は特に詳細に図示してある。スクライブされるコーティングガラスシート基板は、レーザスクライビングのために、ローディングエンド７０からレーザスクライビングモジュール７４に向かって左方向に垂直に延びた方位でコンベヤ送りされ、その後、次のステーションに配送するための準備ができ、アンローディングエンド７２に向かって左方向にコンベヤ移送される。ローディングエンド７０からの移送は、ローディングカート７６で提供され、レーザスクライビングオペレーション中の正確に制御された移送のために、図１０に最も良く表されているレーザスクライビングコンベヤ７８によってガラスシート基板２４を受ける。後で詳述するレーザスクライビング後、スクライブされたガラスシート基板２４は、レーザスクライビングコンベヤ７８から、図８に示したアンローディングステーション７２のアンローディングカート８０に移送される。コンベヤ７８は、酸化錫、硫化カドミウム及びテルル化カドミウム層が位置決めされたコーティング表面８２とコーティングされていない表面８１を有する図６に示したガラスシート基板２４を移送し、これは、前述したバック電極層を付着する前に、図１に示した第１のスクライビングステーション４０でのスクライビングに対応するものである。スクライビングは、そのコーティングされていない表面８１からそのコーティングされた表面８２までガラスシート基板２４を介してレーザビームを差し向けることにより、スクライビングに関する異なる層に対して実行され、スクライブされる層は、各スクライブに関するレーザのパワーレベルによって制御される。
図９に最も良く表されているように、レーザスクライビング装置４２は、８乃至７０ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、５０乃至１００キロヘルツのレンジのパルス周波数を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域の波長を備えたパルスレーザビーム８４を提供するレーザソース８３を含む。利用される特定のレーザソース８３は、８乃至７０ナノ秒のレンジのパルス持続時間を有し、５０乃至１００キロヘルツのレンジのパルス周波数で作動し、１０６４ナノメートルのその基本振動数での波長が近赤外線領域の波長を備えたパルスレーザビームを提供する、ダイオードポンプＱスイッチ・ネオジウムドープのバナジン酸イットリウムレーザソースである。パルスレーザビームは、スクライビングを実行するためにレーザビームを差し向ける符号９０によってまとめて表わされるＸＹＺガルバノメータ制御ミラーシステムにミラー８６及び８８によって反射される。特に、ＸＹＺガルバノメータ制御ミラーシステム９０は、Ｚ方位にビームの焦点距離を制御するためにレンズを水平に移動させるガルバノメータ制御焦点合わせ器９２と、ＸＹ方位にビームを差し向けるガルバノメータ制御デュアルミラーアセンブリ９４とを含み、その結果それによりまとめてＸＹＺ制御をすることができる。
図６に示したようなガラスシート基板２４のコーティングされていない表面８１からのスクライブのレーザスクライビングにより、かかるスクライビングを提供するアブレーションによって形成されるガスプルームはなく、プルームによって、次のレーザパルスが次の各アブレーションを提供するためにコーティングを通過することを阻害されることはない。更に、図１１に示したスクライビングは、互いにオーバーラップするアブレーション９５で実行される。５０％のオーバーラップは、全体的に均一なスクライブ幅と、早いスクライブ速度を提供する。従って、アブレーション９５は、図１１に示したような第１のスクライブ４４のようなスクライブを提供し、第２及び第３のスクライブはまた、同じ方法で提供される。
引き続き図６を参照し、更に図１０を参照すると、レーザスクライビング装置４２は、ガラスシート基板平面をその非コーティング表面８１で維持し、輸送方向に対して側方に基板を位置決めするガスプレッシャ及び真空ポジショナ９６を有し、焦合パルスレーザビームが、スクライブされる層でＺ方向において焦点合わせされる。これらのポジショナ９６は、レーザビーム８４がレーザスクライビングを提供するためにガラスシート基板２４が通過する位置の上流及び下流の両方に垂直に延びるように配置される。図１０に更に示したように、スクライビング位置の上流に５つのポジショナ９６と、スクライビング位置の下流に５つのポジショナ９６がある。図６及び７に示したように、各ポジショナ９６は、真空がコンジット１０２を介して真空ソース１００から適用される中央位置９８を有する。各ポジショナ９６の環状多孔部材１０４は、中央位置９８の周りに延び、コンジット１０８を介してガスソース１０６から圧縮ガスを受ける。ポジショナ９６は、スクライブされる層でのレーザ焦点合わせ及びアブレーションに関する正確な位置を提供するために、約４乃至６ミクロン以内で非コーティングガラスシート表面８１を位置決めする。
図６，８及び１０に示したとおり、スクライビング位置より上流に配置されたレーザ検出器１０９は、ガラスシート基板２４の正確な位置を検出するために非コーティングガラス表面８１から戻るように反射するレーザ検出ビーム１０９a（図６）を提供し、焦点合わせ器との接続を介して、ガルバノメータ制御ミラーシステム９０の焦点合わせ器は、スクライビングレーザビーム８４のスクライビングと移動の範囲の隅から隅まで検出した位置に応じてパルススクライビングレーザビーム８４を焦点合わせする。この検出は、ガラスが製造されるときに形成されたローラー波形のようなガラスシート基板２４のいかなる非平面構造にも適用できる。
レーザスクライビングを実行することができる２つの異なる方法をそれぞれ図１２及び１３に示す。以前に形成された隣接したスクライブの間に適当な間隔を提供するために、第１のものが水平方向に調節された後、レーザビームがスクライビングを実行するために垂直に移動するように、コーティングされたガラスシート基板２４が静止状態で保持されている各レーザスクライブ１１２の間、レーザスクライビングステーションコンベヤは、ガラスシート基板の移送に関するインデックス（移送位置情報）１０１を提供する。図１３に示したように、コーティングされたガラスシート基板２４を運搬Ｃの方向に沿って連続的に移送することも可能であり、その場合、レーザスクライブ１１４のパスは、移送方向に沿った方向と、本当の垂直方向との間に角度を形成しており、各スクライブの完了後、ガルバノメータ制御ミラーシステムのリセットモーション１１５があり、完全なパスは、一般的には蝶ネクタイのような形状に図示される。
図１０を参照すると、第１のスクライビングステーションに移送する前に、コーティングされたガラスシート基板２４の２つの上方の角が、一対のカメラ１１６によって検出される各基準位置でレーザマークされ、その結果、それが基準位置の間の間隔とパネルの正確な位置に関する信号を提供し、スクライビングが正確に位置決めされる。これにより、熱膨張又は収縮、及び、異なるガラスシート基板における基準間の異なる間隔に対して必要な調整をすることができる。
更に、各ガラスシート基板は、図９に示したように、バーコードリーダ１１８によって検知されるバーコードを備えることができ、その結果、スクライブされる各特定のガラスシート基板を識別することができる。更に、装置は、スクライブされるガラスシート基板のコーティング側からの排気を受ける排気フード１２０を含む。スクライビングが適当なパワーレベルで実行されることを保証するために、ガルバノメータ制御ミラー９０は、８４aで示したようにレーザビームをパワーメータ１２２に周期的に反射させ、かかるパワーメータ１２２は、パルスレーザソース８３からのパワーレベルの必要な調整を提供するのに利用される。
上述のように、異なる層を介して第１，第２及び第３のセットのスクライブ４４，５２及び６２を提供するために、レーザの平均パワーレベルはそれぞれ、約２０ワット、８乃至９ワット、及び４乃至５ワットである。
本件発明を実施するための最良の形態を詳細に記載したが、本件発明に関連する当業者は、特許請求の範囲によって定義された発明を実施するために種々の変形実施形態を認識できるであろう。
Claims (15)
- レーザスクライビング方法であって、
一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされた対向する表面を有するガラスシート基板を提供し、
少なくとも５０キロヘルツのパルス周波数と少なくとも８ナノ秒のパルス持続時間を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送し、
パルスレーザビームがガラスシート基板を通る位置に対して前記移送方向に沿って上流及び下流に配置された真空ポジショナによりガラスシート基板を移送方向に対して側方から位置決めし、
レーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、ＸＹＺガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、該コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも１０００ｍｍ／秒の速度でスクライビングし、スクライビングの間、前記真空ポジショナがガラスシート基板の垂直向きを制御する、ことを特徴とする方法。 - 真空ポジショナが、ガラスシート基板のコーティングされていない表面でそのガラスシート基板を位置決めし、コーティングされた表面の劣化を防止することを特徴とする、請求項１に記載のレーザスクライビング方法。
- 前記真空ポジショナに近接した位置に照射されるレーザ検出ビームによってガラスシート基板の位置を検出し、前記検出した位置に基づきパルスレーザビームの焦点を合わせることを特徴とする請求項１に記載のレーザスクライビング方法。
- レーザスクライビング方法であって、
一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされた対向する表面を有するガラスシート基板を提供し、
少なくとも５０キロヘルツのパルス周波数と少なくとも８ナノ秒のパルス持続時間を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送し、
コンベアによってガラスシート基板の移送に関する移送位置情報を提供し、
レーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、ＸＹＺガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、該コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも１０００ｍｍ／秒の速度でスクライビングし、スクライビングする間、ガラスシート基板を静止状態に保持する、ことを特徴とする方法。 - レーザスクライビング方法であって、
一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされた対向する表面を有するガラスシート基板を提供し、
少なくとも５０キロヘルツのパルス周波数と少なくとも８ナノ秒のパルス持続時間を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送し、
レーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、ＸＹＺガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、該コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも１０００ｍｍ／秒の速度でスクライビングし、ガラスシート基板を移送しながらスクライビングを実施する、ことを特徴とする方法。 - レーザスクライビング方法であって、
一方がコーティングされておらず、他方が複数の層からなるコーティングがなされた対向する表面を有するガラスシート基板を提供し、
少なくとも５０キロヘルツのパルス周波数と少なくとも８ナノ秒のパルス持続時間を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送し、
レーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、ＸＹＺガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、該コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも１０００ｍｍ／秒の速度でスクライビングし、複数のスクライブが異なるパワーレベルで形成され、複数のスクライブが異なる層に延びる、ことを特徴とする方法。 - 複数のレーザソース及び各レーザソースに対応するＸＹＺガルバノメータ制御ミラーが、少なくとも１０００ｍｍ／秒の速度で、８乃至７０ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、５０乃至１００キロヘルツのレンジのパルス周波数とを持ち、基本振動数での波長が近赤外線領域にある、異なるパワーレベルのパルスレーザビームで、異なるスクライブを形成するスクライビングを行うことを特徴とする請求項６に記載のレーザスクライビング方法。
- レーザスクライビング方法であって、
一方はコーティングされておらず、他方は複数の層からなるコーティングがなされた対向する表面を備えたガラスシート基板を提供し、
少なくとも８ナノ秒のパルス持続時間と少なくとも５０キロヘルツのパルス周波数を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあり選択されたパワーのパルスレーザビームを提供するバナジウムレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を垂直向きに保持しながら、所定の移送方向に沿って移送し、
真空ポジショナによって、垂直向きのガラスシート基板を位置決めし、
バナジウムレーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、ＸＹＺガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングの所定の層に対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも１０００ｍｍ／秒の速度でスクライビングする、ことを特徴とする方法。 - レーザスクライビング装置であって、
一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされている対向する表面を備えたガラスシート基板を所定の移送方向に沿って、垂直向きに保持しつつ移送するためのコンベヤと、
少なくとも８ナノ秒のパルス持続時間と少なくとも５０キロヘルツのパルス周波数を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するように、コンベヤに近接して位置決めされたレーザソースと、
パルスレーザビームがガラスシート基板を通る位置に対して、前記移送方向に沿って上流と下流に配置され、ガラスシート基板を移送方向に対して側方から位置決めする真空ポジショナと、
ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、パルスレーザビームを反射させるＸＹＺガルバノメータ制御ミラーと、を有し、
パルスレーザビームをガラスシート基板のコーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させて、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供して、少なくとも１０００ｍｍ／秒の速度でのスクライビングを提供し、スクライビング中、前記真空ポジショナがガラスシート基板の垂直向きを制御することを特徴とする装置。 - スクライビング中、前記真空ポジショナがガラスシート基板の位置を制御する、ことを特徴とする請求項９記載の装置。
- パルスレーザビームを焦点合わせさせるために、真空ポジショナに近接した位置で、ガラスシート基板に対してレーザ検出ビームを送受信することによりガラスシート基板の位置を検出するレーザ検知器を更に含むことを特徴とする、請求項９または１０に記載の装置。
- レーザスクライビング装置であって、
一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされている対向する表面を備えたガラスシート基板を所定の移送方向に沿って、垂直向きに保持しつつ移送するためのコンベヤと、
８乃至７０ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、５０乃至１００キロヘルツのレンジのパルス周波数を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあり、コンベヤに近接して位置決めされた異なるパワーレベルのパルスレーザビームを提供する複数のレーザソースと、
少なくとも１０００ｍｍ／秒の速度でのスクライビングを提供するために、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、レーザソースからのパルスレーザビームをそれぞれ反射する、複数のＸＹＺガルバノメータ制御ミラーと、を有し、
パルスレーザビームをガラスシート基板のコーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させて、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供する、ことを特徴とする装置。 - 一方がコーティングされておらず、他方が複数の層からなるコーティングを有する対向する表面を備えたガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送するコンベヤと、
少なくとも８ナノ秒のパルス持続時間と少なくとも５０キロヘルツのパルス周波数を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあり、選択されたパワーのパルスレーザビームを提供し、前記移送方向に沿って互いに間隔が隔てられて配置された複数のバナジウムレーザソースと、
ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、パルスレーザビームをそれぞれ反射する複数のＸＹＺガルバノメータ制御ミラーと、を有し、
パルスレーザビームをガラスシート基板のコーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させて、該コーティングの１又はそれ以上の層に対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも１０００ｍｍ／秒の速度でのスクライビングを提供することを特徴とするレーザスクライビングのための装置。 - パルス周波数が５０乃至１００キロヘルツのレンジであり、パルス持続時間が８乃至７０ナノ秒のレンジであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
- パルス周波数が５０乃至１００キロヘルツのレンジであり、パルス持続時間が８乃至７０ナノ秒のレンジであることを特徴とする請求項９〜１３のいずれか１項に記載の装置。
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| CN101134263A (zh) * | 2006-09-01 | 2008-03-05 | 富士迈半导体精密工业（上海）有限公司 | 激光加工方法及相应的激光加工装置 |
| GB0622232D0 (en) * | 2006-11-08 | 2006-12-20 | Rumsby Philip T | Method and apparatus for laser beam alignment for solar panel scribing |
| CN101646800A (zh) * | 2007-02-01 | 2010-02-10 | 威拉德&凯尔西太阳能集团有限责任公司 | 用于玻璃板半导体涂覆的系统和方法 |
| CN101675531B (zh) * | 2007-02-16 | 2013-03-06 | 纳克公司 | 太阳能电池结构、光生伏打模块及对应的工艺 |
| DE102007015767A1 (de) * | 2007-03-30 | 2008-10-02 | Oerlikon Optics UK Ltd., Yarnton | Methode zum Laserritzen von Solarzellen |
| US20080263877A1 (en) * | 2007-04-24 | 2008-10-30 | Newport Corporation | Laser scribing system and method of use |
| GB0802289D0 (en) * | 2008-02-07 | 2008-03-12 | Rumsby Philip T | Method and appartus for making a partially transparent solar panel |
| US20090255911A1 (en) * | 2008-04-10 | 2009-10-15 | Applied Materials, Inc. | Laser scribing platform and hybrid writing strategy |
| TW201002466A (en) * | 2008-04-10 | 2010-01-16 | Applied Materials Inc | Laser-scribing platform |
| CN101999166A (zh) * | 2008-04-11 | 2011-03-30 | 应用材料股份有限公司 | 用于激光刻划、熔接或任何构图系统的动态刻划对准 |
| TW201006598A (en) * | 2008-04-11 | 2010-02-16 | Applied Materials Inc | Laser scribe inspection methods and systems |
| US20090314752A1 (en) * | 2008-05-14 | 2009-12-24 | Applied Materials, Inc. | In-situ monitoring for laser ablation |
| US9782949B2 (en) | 2008-05-30 | 2017-10-10 | Corning Incorporated | Glass laminated articles and layered articles |
| US8514476B2 (en) | 2008-06-25 | 2013-08-20 | View, Inc. | Multi-pane dynamic window and method for making same |
| DE102008032555B3 (de) * | 2008-07-10 | 2010-01-21 | Innolas Systems Gmbh | Strukturierungsvorrichtung für die Strukturierung von plattenförmigen Elementen, insbesondere von Dünnschicht-Solarmodulen, entsprechendes Strukturierungsverfahren sowie Verwendung derselben |
| DE102008059813A1 (de) * | 2008-07-17 | 2010-01-21 | Lss Laser Scribing Systems Ag | Laser-Scribing-System zum Strukturieren von Substraten für Dünnschichtsolarmodule |
| US7981778B2 (en) * | 2009-07-22 | 2011-07-19 | Applied Materials, Inc. | Directional solid phase crystallization of thin amorphous silicon for solar cell applications |
| CN103537811A (zh) | 2008-08-26 | 2014-01-29 | 应用材料公司 | 激光材料移除方法和设备 |
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| JP2010087041A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-15 | Ulvac Japan Ltd | レーザービームによる薄膜の除去方法及び薄膜太陽電池パネルの製造方法 |
| CN102245339B (zh) * | 2008-10-10 | 2015-08-26 | Ipg微系统有限公司 | 具有多重细激光束传输系统的激光加工系统和方法 |
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| WO2010071201A1 (ja) * | 2008-12-19 | 2010-06-24 | シャープ株式会社 | 膜除去方法、光電変換装置の製造方法、光電変換装置、および膜除去装置 |
| US20100212358A1 (en) * | 2009-02-26 | 2010-08-26 | Applied Materials, Inc. | Glass substrate orientation inspection methods and systems for photo voltaics production |
| US10852613B2 (en) | 2009-03-31 | 2020-12-01 | View, Inc. | Counter electrode material for electrochromic devices |
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| US8706288B2 (en) * | 2009-05-21 | 2014-04-22 | Electro Scientific Industries, Inc. | Apparatus and method for non-contact sensing of transparent articles |
| US20100314367A1 (en) * | 2009-06-12 | 2010-12-16 | Applied Materials, Inc. | Methods and systems for laser-scribed line alignment |
| DE102009031233A1 (de) | 2009-06-26 | 2010-12-30 | Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh | Vorrichtung zur Strukturierung von Dünnschichtsolarzellenmodulen mittels Laser |
| US20100330711A1 (en) * | 2009-06-26 | 2010-12-30 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for inspecting scribes in solar modules |
| US20110005458A1 (en) * | 2009-07-13 | 2011-01-13 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for improving scribe accuracy in solar cell modules |
| US20110008947A1 (en) * | 2009-07-13 | 2011-01-13 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for performing multifunction laser processes |
| DE112010003736T5 (de) * | 2009-08-06 | 2013-02-28 | Applied Materials, Inc. | Ritzen von quer verlaufenden ISO-Linien, verknüpfen, und vereinfachte Laser- und Scannersteuerungen |
| WO2011017569A2 (en) * | 2009-08-06 | 2011-02-10 | Applied Materials, Inc. | Methods and related systems for thin-film laser scribing with enhanced throughput |
| WO2011017570A2 (en) * | 2009-08-06 | 2011-02-10 | Applied Materials, Inc. | In-line metrology methods and systems for solar cell fabrication |
| WO2011017572A2 (en) * | 2009-08-06 | 2011-02-10 | Applied Materials, Inc. | Laser modules and processes for thin film solar panel laser scribing |
| US8932510B2 (en) * | 2009-08-28 | 2015-01-13 | Corning Incorporated | Methods for laser cutting glass substrates |
| KR101094284B1 (ko) * | 2009-09-02 | 2011-12-19 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 기판 절단 장치 및 이를 이용한 기판 절단 방법 |
| US20110065227A1 (en) * | 2009-09-15 | 2011-03-17 | Applied Materials, Inc. | Common laser module for a photovoltaic production line |
| MY160582A (en) * | 2009-09-22 | 2017-03-15 | First Solar Inc | System and method for tracking and removing coating from an edge of a substrate |
| IN2012DN02442A (ja) * | 2009-09-22 | 2015-08-21 | First Solar Inc | |
| KR101144570B1 (ko) * | 2009-09-30 | 2012-05-11 | 엘지이노텍 주식회사 | 태양전지 및 이의 제조방법 |
| WO2011043734A1 (en) * | 2009-10-07 | 2011-04-14 | Manufacturing Integration Technology Ltd | Laser scribing of thin-film solar cell panel |
| US8865569B2 (en) | 2009-10-22 | 2014-10-21 | M-Solv Ltd. | Method and apparatus for dividing thin film device into separate cells |
| GB2474665B (en) | 2009-10-22 | 2011-10-12 | M Solv Ltd | Method and apparatus for dividing thin film device into separate cells |
| US20110139755A1 (en) * | 2009-11-03 | 2011-06-16 | Applied Materials, Inc. | Multi-wavelength laser-scribing tool |
| US8946590B2 (en) * | 2009-11-30 | 2015-02-03 | Corning Incorporated | Methods for laser scribing and separating glass substrates |
| US11314139B2 (en) | 2009-12-22 | 2022-04-26 | View, Inc. | Self-contained EC IGU |
| US10303035B2 (en) | 2009-12-22 | 2019-05-28 | View, Inc. | Self-contained EC IGU |
| US20110155707A1 (en) * | 2009-12-31 | 2011-06-30 | Du Pont Apollo Limited | Laser scribing apparatus and process for solar panel |
| US9759975B2 (en) | 2010-04-30 | 2017-09-12 | View, Inc. | Electrochromic devices |
| EP3557624A1 (en) | 2010-05-28 | 2019-10-23 | Flisom AG | Method and apparatus for integrated optoelectronic modules with busbar and with via holes interconnects |
| US8247682B2 (en) * | 2010-06-29 | 2012-08-21 | Primestar Solar, Inc. | Metallic gridlines as front contacts of a cadmium telluride based thin film photovoltaic device |
| DE202010013161U1 (de) | 2010-07-08 | 2011-03-31 | Oerlikon Solar Ag, Trübbach | Laserbearbeitung mit mehreren Strahlen und dafür geeigneter Laseroptikkopf |
| US20120021536A1 (en) * | 2010-07-23 | 2012-01-26 | Primestar Solar, Inc. | Method and system for application of an insulating dielectric material to photovoltaic module substrates |
| US8720228B2 (en) | 2010-08-31 | 2014-05-13 | Corning Incorporated | Methods of separating strengthened glass substrates |
| GB2483922B (en) | 2010-09-25 | 2013-11-20 | M Solv Ltd | Method and apparatus for dividing thin film device into separate cells |
| US20120074109A1 (en) * | 2010-09-29 | 2012-03-29 | General Electric Company | Method and system for scribing a multilayer panel |
| CN102593238A (zh) * | 2010-10-12 | 2012-07-18 | 上方能源技术(杭州)有限公司 | 用于薄膜太阳能电池的激光划线方法及其设备 |
| US8164818B2 (en) | 2010-11-08 | 2012-04-24 | Soladigm, Inc. | Electrochromic window fabrication methods |
| US9958750B2 (en) | 2010-11-08 | 2018-05-01 | View, Inc. | Electrochromic window fabrication methods |
| US10180606B2 (en) | 2010-12-08 | 2019-01-15 | View, Inc. | Connectors for smart windows |
| US8643933B2 (en) | 2011-12-14 | 2014-02-04 | View, Inc. | Connectors for smart windows |
| WO2012078634A2 (en) | 2010-12-08 | 2012-06-14 | Soladigm, Inc. | Improved spacers for insulated glass units |
| US9442339B2 (en) | 2010-12-08 | 2016-09-13 | View, Inc. | Spacers and connectors for insulated glass units |
| US8912083B2 (en) | 2011-01-31 | 2014-12-16 | Nanogram Corporation | Silicon substrates with doped surface contacts formed from doped silicon inks and corresponding processes |
| DE102011000673A1 (de) | 2011-02-11 | 2012-08-16 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Einbringen von Ausnehmungen in ein Substrat mittels Laserstrahlen |
| US9454055B2 (en) | 2011-03-16 | 2016-09-27 | View, Inc. | Multipurpose controller for multistate windows |
| US10429712B2 (en) | 2012-04-20 | 2019-10-01 | View, Inc. | Angled bus bar |
| US10175549B2 (en) | 2011-03-16 | 2019-01-08 | View, Inc. | Connectors for smart windows |
| US8207009B2 (en) * | 2011-04-19 | 2012-06-26 | Primestar Solar, Inc. | Methods of temporally varying the laser intensity during scribing a photovoltaic device |
| GB2492971B (en) | 2011-07-15 | 2013-09-18 | M Solv Ltd | Method and apparatus for dividing thin film device into separate cells |
| CN102299209B (zh) * | 2011-09-13 | 2013-04-10 | 上海太阳能电池研究与发展中心 | 集成薄膜太阳能电池组件的制备方法 |
| US20130122687A1 (en) * | 2011-11-16 | 2013-05-16 | Applied Materials, Inc. | Laser scribing systems, apparatus, and methods |
| US8677783B2 (en) | 2011-11-28 | 2014-03-25 | Corning Incorporated | Method for low energy separation of a glass ribbon |
| US8377737B1 (en) | 2011-11-30 | 2013-02-19 | Primestar Solar, Inc. | Methods of short wavelength laser scribing of a thin film photovoltaic device |
| US11048137B2 (en) | 2011-12-12 | 2021-06-29 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| CA2859023C (en) | 2011-12-12 | 2023-08-22 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| US10739658B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-08-11 | View, Inc. | Electrochromic laminates |
| US10606142B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-03-31 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| US11719039B2 (en) | 2011-12-14 | 2023-08-08 | View, Inc. | Connectors for smart windows |
| JP2013143563A (ja) | 2012-01-10 | 2013-07-22 | Hzo Inc | 内部耐水性被覆を備える電子デバイスを組み立てるためのシステム |
| US11635666B2 (en) | 2012-03-13 | 2023-04-25 | View, Inc | Methods of controlling multi-zone tintable windows |
| US9341912B2 (en) | 2012-03-13 | 2016-05-17 | View, Inc. | Multi-zone EC windows |
| HUE047861T2 (hu) * | 2012-03-23 | 2020-05-28 | Hzo Inc | Berendezések, rendszerek és eljárások védõbevonatoknak elektronikus eszközök részegységeire történõ felviteléhez |
| US11255120B2 (en) | 2012-05-25 | 2022-02-22 | View, Inc. | Tester and electrical connectors for insulated glass units |
| US9938180B2 (en) | 2012-06-05 | 2018-04-10 | Corning Incorporated | Methods of cutting glass using a laser |
| US10288971B2 (en) | 2012-08-23 | 2019-05-14 | View, Inc. | Photonic-powered EC devices |
| US9610653B2 (en) | 2012-09-21 | 2017-04-04 | Electro Scientific Industries, Inc. | Method and apparatus for separation of workpieces and articles produced thereby |
| CN103121365B (zh) * | 2012-12-20 | 2014-02-12 | 苏州菱欧自动化设备有限公司 | 激光刻印装置 |
| TWI555599B (zh) * | 2013-02-25 | 2016-11-01 | 先進科技新加坡有限公司 | 在雷射劃刻裝置中執行光束特徵化之方法，及可執行此方法之雷射劃刻裝置 |
| RU2678028C2 (ru) | 2013-06-18 | 2019-01-22 | Вью, Инк. | Электрохромные устройства непрямоугольных форм |
| CN106258012B (zh) | 2014-01-31 | 2018-07-17 | 弗里索姆股份公司 | 用于光伏器件中的薄膜通孔段的方法 |
| US11891327B2 (en) | 2014-05-02 | 2024-02-06 | View, Inc. | Fabrication of low defectivity electrochromic devices |
| GB2527553B (en) | 2014-06-25 | 2017-08-23 | Fianium Ltd | Laser processing |
| CN112327556A (zh) | 2014-09-05 | 2021-02-05 | 唯景公司 | 用于电致变色装置的反电极 |
| EP4220291A3 (en) | 2014-11-26 | 2023-10-04 | View, Inc. | Counter electrode for electrochromic devices |
| US9899546B2 (en) | 2014-12-05 | 2018-02-20 | Tesla, Inc. | Photovoltaic cells with electrodes adapted to house conductive paste |
| US20160172243A1 (en) * | 2014-12-11 | 2016-06-16 | Nxp B.V. | Wafer material removal |
| WO2016100075A1 (en) | 2014-12-15 | 2016-06-23 | View, Inc. | Seals for electrochromic windows |
| CA2969290C (en) * | 2014-12-18 | 2020-02-25 | Saint-Gobain Glass France | Method for producing a composite pane with a corrosion-protected functional coating |
| NL2014040B1 (en) * | 2014-12-23 | 2016-10-12 | Stichting Energieonderzoek Centrum Nederland | Method of making a curent collecting grid for solar cells. |
| ITUB20152328A1 (it) * | 2015-07-20 | 2017-01-20 | Tapematic Spa | Metodo e macchina per la decorazione di oggetti di piccole dimensioni e prodotto ottenibile |
| WO2018152249A1 (en) | 2017-02-16 | 2018-08-23 | View, Inc. | Solar power dynamic glass for heating and cooling buildings |
| FR3070977B1 (fr) * | 2017-09-14 | 2020-05-22 | Dalloz Creations | Nouveau procede de miroitage partiel de verres de lunettes, et verres obtenus grace audit procede |
| FR3105044B1 (fr) * | 2019-12-20 | 2022-08-12 | Saint Gobain | Dispositif de traitement d’un substrat |
| US20230083188A1 (en) | 2020-02-18 | 2023-03-16 | Agc Glass Europe | Apparatus for removing at least one portion of at least one coating system presenting a multi-glazed window and associated method |
| JP7425966B2 (ja) * | 2020-03-12 | 2024-02-01 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス板の製造方法及びその製造装置 |
| WO2021239603A1 (en) | 2020-05-26 | 2021-12-02 | Agc Glass Europe | Apparatus and method for removing at least one portion of at least one coating system present in a multi-glazed window mounted on a stationary or mobile object |
| WO2021239597A1 (en) | 2020-05-26 | 2021-12-02 | Agc Glass Europe | Apparatus and method for removing at least one portion of at least one coating system present in a multi-glazed window mounted on a stationary or mobile object |
| EP4251363A2 (en) | 2020-11-30 | 2023-10-04 | AGC Glass Europe | Laser apparatus for mounting on a window mounted in situ comprising a skirt and associated method and use |
| EP4251362A2 (en) | 2020-11-30 | 2023-10-04 | AGC Glass Europe | Laser apparatus comprising a closing means and associated method and use |
| US20230415275A1 (en) | 2020-11-30 | 2023-12-28 | Agc Glass Europe | Decoating apparatus and associated method to decoat at least partially a portion of a coating system presents on a surface of a window mounted in situ |
| WO2022112530A2 (en) | 2020-11-30 | 2022-06-02 | Agc Glass Europe | Method of calibrating a focal point of a laser apparatus mounted on a window mounted in situ |
| CN112768556A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-05-07 | 中国建材国际工程集团有限公司 | 一种CdTe太阳电池的制作工艺 |
| WO2024115699A1 (en) | 2022-12-02 | 2024-06-06 | Agc Glass Europe | Apparatus and associated methods for removing at least one portion of at least one coating system present in a multi-glazed window mounted on a stationary or mobile object |
Family Cites Families (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4292092A (en) | 1980-06-02 | 1981-09-29 | Rca Corporation | Laser processing technique for fabricating series-connected and tandem junction series-connected solar cells into a solar battery |
| US4535218A (en) * | 1982-10-20 | 1985-08-13 | Westinghouse Electric Corp. | Laser scribing apparatus and process for using |
| US4645547A (en) * | 1982-10-20 | 1987-02-24 | Westinghouse Electric Corp. | Loss ferromagnetic materials and methods of improvement |
| JPS59107579A (ja) * | 1982-12-11 | 1984-06-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換装置の作製方法 |
| JPS6018973A (ja) * | 1983-07-13 | 1985-01-31 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換半導体装置 |
| US4594471A (en) | 1983-07-13 | 1986-06-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Photoelectric conversion device |
| US4568409A (en) | 1983-11-17 | 1986-02-04 | Chronar Corp. | Precision marking of layers |
| US4598039A (en) * | 1984-07-02 | 1986-07-01 | At&T Bell Laboratories | Formation of features in optical material |
| JPS61263172A (ja) | 1985-05-16 | 1986-11-21 | Fuji Electric Co Ltd | 薄膜太陽電池の製造方法 |
| JPS6240986A (ja) * | 1985-08-20 | 1987-02-21 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | レ−ザ−加工方法 |
| US4752455A (en) * | 1986-05-27 | 1988-06-21 | Kms Fusion, Inc. | Pulsed laser microfabrication |
| US4705698A (en) * | 1986-10-27 | 1987-11-10 | Chronar Corporation | Isolation of semiconductor contacts |
| US4892592A (en) | 1987-03-26 | 1990-01-09 | Solarex Corporation | Thin film semiconductor solar cell array and method of making |
| US4929092A (en) * | 1987-06-12 | 1990-05-29 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Resistance temperature detector |
| US4854974A (en) | 1987-06-29 | 1989-08-08 | Solarex Corporation | Electrical contacts for a thin-film semiconductor device |
| JP2587972B2 (ja) * | 1988-01-06 | 1997-03-05 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 薄膜構造 |
| CA2024662A1 (en) | 1989-09-08 | 1991-03-09 | Robert Oswald | Monolithic series and parallel connected photovoltaic module |
| DE59100570D1 (de) * | 1990-04-23 | 1993-12-16 | Bystronic Laser Ag Niederoenz | Verfahren und Anlage zum Schneiden von Flachmaterial. |
| DE4034089A1 (de) * | 1990-10-26 | 1992-04-30 | Pierburg Gmbh | Verfahren zur steuerung eines elektropneumatischen stellers |
| EP0536431B1 (de) | 1991-10-07 | 1994-11-30 | Siemens Aktiengesellschaft | Laserbearbeitungsverfahren für einen Dünnschichtaufbau |
| US5248349A (en) | 1992-05-12 | 1993-09-28 | Solar Cells, Inc. | Process for making photovoltaic devices and resultant product |
| JP3165304B2 (ja) * | 1992-12-04 | 2001-05-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法及び半導体処理装置 |
| CN100367461C (zh) * | 1993-11-05 | 2008-02-06 | 株式会社半导体能源研究所 | 一种制造薄膜晶体管和电子器件的方法 |
| US5658474A (en) * | 1994-12-16 | 1997-08-19 | Alza Corporation | Method and apparatus for forming dispenser delivery ports |
| JP3510740B2 (ja) | 1996-08-26 | 2004-03-29 | シャープ株式会社 | 集積型薄膜太陽電池の製造方法 |
| US5934163A (en) | 1997-01-14 | 1999-08-10 | Vorum Research Corporation | Carving blank and mandrel for mounting same in a carving machine |
| US6037241A (en) | 1998-02-19 | 2000-03-14 | First Solar, Llc | Apparatus and method for depositing a semiconductor material |
| JP2000052071A (ja) * | 1998-08-04 | 2000-02-22 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ光を用いた薄膜除去方法 |
| JP2000208798A (ja) * | 1999-01-13 | 2000-07-28 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 薄膜構成体の加工方法 |
| US6420675B1 (en) * | 1999-10-08 | 2002-07-16 | Nanovia, Lp | Control system for ablating high-density array of vias or indentation in surface of object |
| US6300593B1 (en) * | 1999-12-07 | 2001-10-09 | First Solar, Llc | Apparatus and method for laser scribing a coated substrate |
| US7157038B2 (en) * | 2000-09-20 | 2007-01-02 | Electro Scientific Industries, Inc. | Ultraviolet laser ablative patterning of microstructures in semiconductors |
-
2001
- 2001-08-10 US US09/928,203 patent/US6559411B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-08-07 WO PCT/US2002/024925 patent/WO2003013778A1/en active Application Filing
- 2002-08-07 EP EP02768438.0A patent/EP1423229B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-07 JP JP2003518767A patent/JP4429013B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-09 TW TW91117978A patent/TW572804B/zh not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-04-30 US US10/425,704 patent/US6919530B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-08-11 US US10/915,736 patent/US9457429B2/en active Active
-
2009
- 2009-09-04 JP JP2009204219A patent/JP5280978B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US9457429B2 (en) | 2016-10-04 |
| JP2010012519A (ja) | 2010-01-21 |
| WO2003013778A1 (en) | 2003-02-20 |
| US6559411B2 (en) | 2003-05-06 |
| US20030209527A1 (en) | 2003-11-13 |
| JP5280978B2 (ja) | 2013-09-04 |
| WO2003013778B1 (en) | 2003-08-14 |
| US6919530B2 (en) | 2005-07-19 |
| EP1423229B1 (en) | 2016-02-24 |
| JP2005519762A (ja) | 2005-07-07 |
| EP1423229A1 (en) | 2004-06-02 |
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