JP4429013B2 - ガラスシート基板コーティングをレーザスクライビングするための方法及び装置 - Google Patents

ガラスシート基板コーティングをレーザスクライビングするための方法及び装置 Download PDF

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Description

本発明は、ガラスシート基板上にコーティングされた層のレーザスクライビングのための方法及び装置に関する。
ガラスシート基板上にコーティングされた層のレーザスクライビングは、米国特許第4,292,092号によって開示され、何年も前から行われている。大きくは、レーザスクライビングは、基板のコーティングされた側から差し向けられたレーザビームによって実行されるが、スクライビングは、Caplanによる米国特許第4,568,409号、Carlson等による米国特許第4,854,974号、Dickson等による米国特許第4,892,592号、Praschek等による米国特許第5,296,674号、Oswald等による米国特許第5,593,901号によって開示されているようなスクライブされたコーティング層に対してガラスシート基板を介してレーザビームを差し向けることによって実行されることもある。
伝統的なレーザ処理システムは、2つのタイプがある。一つは、コーティングされたガラスシートがスクライビングのために支持される可動式XYテーブル(2軸)上に取り付けられた固定されたレーザヘッドを含み、他の一方は、一軸可動式テーブル上に取り付けられた一軸可動式レーザスキャンニングヘッドを含むものである。第1のタイプの大きな欠点は、大きなXYテーブルの速度制限であり、それは一般的には約300乃至500mm/秒のレンジである。かくして、商業的に実用的な出力を達成するためには、複数のレーザノズルを供給する複数のレーザ又はスプリットビームを利用する必要がある。高くつくことに加えて、かかるシステムは、困難な光学アライメントを維持する必要があり、また、各ノズルのパワーを個々に制御する必要がある。更に、スクライブの間の間隔を容易にするためにノズル間の調整及びリアルタイムスペーシングをとらなければならない。レーザヘッドを約700乃至800mm/秒より早く移動させることが困難なため、他のシステムもまた同じ問題を有する。
本件出願に関する調査中に気付いた他のレーザスクライビング特許は、ヤマザキによる米国特許第4,603,470号、ニシウラによる米国特許第4,689,874号及びキドグチによる米国特許第5,956,572号を含む。
本件発明の目的は、相対的に高速にガラスシート基板コーティングをレーザスクライビングするための改良された方法を提供することであり、それにより費用対効果の高い製品を提供することができる。
上記目的を達成するために、一方がコーティングされておらず他の一方がコーティングされた対向する表面を備えたガラスシート基板でレーザスクライビングを実行する。コーティングされたガラスシート基板は、レーザソースと近接して、所定の移送方向に沿って移送され、かかるレーザソースは、8乃至70ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、50乃至100キロヘルツのレンジのパルス周波数と、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供する。パルスレーザビームは、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、XYZガルバノメータ制御ミラーによって反射され、該コーティングされていない表面を通過して、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達し、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも1000mm/秒の速度でスクライビングする
ガラスシート基板は、垂直向きで移送され、パルスレーザビームがガラスシート基板を通る位置から所定の移送方向に沿って上流及び下流に配置された真空ポジショナによって移送される方向に対して側方から位置決めされ、かかる真空ポジショナがガラスシート基板の平面を制御する。真空ポジショナは、ガラスシート基板の非コーティング表面でそのガラスシート基板を位置決めし、コーティングされた表面の劣化を防止する。
スクライビングレーザビームが適当に焦点合わせされるように、レーザ検知は、コーティングされた表面の正確な位置を検知する。
本発明にかかる方法のある実施形態では、コンベアによってガラスシート基板の移送に関する移送位置情報が提供され、ガラスシート基板はスクライビングする間静止状態に保持される。
別の実施形態では、レーザスクライビングは、ガラスシート基板移送しながら実施される。
レーザスクライビング方法を実施するとき、コーティングされたガラスシート基板は、複数の異なるコーティング層を有するように露出され、複数のレーザスクライブが異なるパワーレベルで行われ、その結果、スクライブは異なる層にまで延びる。特に、最も高速なパフォーマンスのレーザスクライビング方法では、複数のレーザソース及びXYZガルバノメータ制御ミラーはそれぞれ、少なくとも1000mm/秒のスクライビング速度で、各々8乃至70ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、50乃至100キロヘルツのレンジのパルス周波数と、基本振動数での波長が近赤外線領域にある波長で、異なるパワーレベルで異なるスクライブのパルスレーザスクライビングを提供する。
本発明の異なる目的は、ガラスシート基板のコーティングをレーザスクライビングするための改良された装置を提供することである。
かかる目的を達成するために、本発明にかかる装置は、一方がコーティングされておらず、他の一方がコーティングされた対向する表面を備えたガラスシート基板を所定の移送方向に沿ってガラスシート基板を移送するためのコンベヤを包含する。レーザソースは、8乃至70ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、50乃至100キロヘルツのレンジのパルス周波数と、基本振動数での波長が近赤外線領域にある波長とを備えたパルスレーザビームを提供することである。XYZガルバノメータ制御ミラーは、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向て、パルスレーザビームを反射させるそして、パルスレーザビームをガラスシート基板のコーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させて、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供して、少なくとも1000mm/秒の速度でのスクライビングを提供する。
装置は、ガラスシート基板を垂直向きするとともに、パルスレーザビームがガラスシート基板を通る位置に対して移送方向に沿って上流及び下流に配置された真空ポジショナを含み、レーザスクライビング中、真空ポジショナがガラスシート基板の平面を制御する
装置は、スクライビングレーザビームが適当に焦点合わせされるように、コーティングされたガラスシート基板の正確な位置を検出するレーザ検知を包含する。
開示された装置は、各々8乃至70ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、50乃至100キロヘルツのレンジのパルス周波数と、基本振動数での波長が近赤外線領域の波長で、異なるパワーレベルで作動する複数のパルスレーザソースを含み、かかる装置の複数のXYZガルバノメータ制御レーザミラーシステムは、少なくとも1000mm/秒の速度のスクライビングを提供するために、レーザソースからパルスレーザビームをそれぞれ反射する。
本件発明の1又はそれ以上の実施形態を、添付の図面と図面の説明と併せて詳細に説明する。本件発明の他の特徴、目的、及び利点があることは、詳細な説明、図面及び特許請求の範囲から明らかである。
図1、2及び3を参照すると、システム20は、光起電性パネル22の製造に用いられるステーションを含む。光起電性パネル22は、図3に示した酸化錫層26でコーティングされた一方の表面を備えたガラスシート基板24を使用して製造される。酸化錫でコーティングされたガラスシート基板24の洗浄及び清浄後、第1のステーション30で硫化カドミウム層28を約3000オングストローム厚堆積する。ガラスシート基板24が第2のステーション32に矢印Cによって示された輸送の方向に沿って移送され、第2のステーション32で、処理ステーション36及び38に移される前に、テルル化カドミウム層3を約3ミクロン厚堆積する。第1のスクライビングステーション40にガラスシート基板24の移送をした後、酸化錫層26、硫化カドミウム層28及びテルル化カドミウム層34を介して、これより後により詳細に述べる本件発明によって実施される仕方で、パルスレーザスクライビング装置42aは第1のセットのスクライブ44のスクライビングを提供する。第1のセットのスクライブ44のスクライビング後、次いで、ガラスシート基板24はステーション46に移送される。そこでは第1のセットのスクライブ44は、誘電材料48に満たされ、その後、ガラスシート基板24は第2のスクライビングステーション50に移送される。そこでは、本件発明によって構築されたパルスレーザスクライビング装置42bが、酸化錫層26をスクライビングすることなく、硫化カドミウム層28及びテルル化カドミウム層34に対して第2のセットのスクライブ52のスクライビングを提供するために、第1のスクライビングステーションより低いパワーレベルで作動する。次いで、ガラスシート基板24はコーティングステーション54に移送され、そこでは、処理ステーション58に移動される前に、導電バック電極層56(図5)がつけられる。次いで、ガラスシート基板24は第3のスクライビングステーション60に移送され、そこで、本件発明によって構築されたスクライビング装置42cが、電気的に互いに直列に通電する個々のセル64を提供するために、バック電極層56に対して第3のセットのスクライブ62を提供するために、第2のスクライビングステーションよりも低いパワーレベルで作動する。図2に示すような電気的コネクタ65を、パネルの電気的接続のために設ける。
図1に示したステーション30での硫化カドミウムの堆積、及び、ステーション32でのテルル化カドミウムの堆積は、Foote等による米国特許第5,248,349号、Foote等による米国特許第5,372,646号、Foote等による米国特許第5,470,397号、Foote等による米国特許第5,536,333号、Powell等による米国特許第5,934,163号、及びPowell等による米国特許第6,037,241号の開示に従って実施され、何れの開示もここにリファレンスとして組み入れる。
図2に示した光起電性パネル22は、その対辺66が約60cm(600mm)の幅を持ち、対辺68が約120cmの長さをもつ細長い形状を有する。更に、上述のスクライビングは、関係するスクライブを含む各セルに関する有用なスペースが1cmよりも僅かに大きい115個のセル64を提供する。かくして、115個のセルのパネルを提供するために各セットのスクライブは、全長約69,000mmを有する。経済的な製造を実施するために、パネルはすぐに作られ、又は、レーザ装置は約1000mm/秒以上の速度でスクライビングをしなければならない。実際に、後で詳述する本件発明のスクライビング装置は、ステーション間の移送時間のために、2000乃至300mm/秒のスクライブ速度を有する。各セットのスクライブを行うために単一のレーザ装置を使用することができる場合は、図1に示した3つのスクライビングステーションの各々でレーザスクライビング装置42a、42b及び42cの供給は、より高速なオペレーションと、その結果としてより費用対効果的に有効な製品を提供する。
コーティングガラスシート基板をレーザスクライビングするための方法は、本発明の全ての態様の理解を容易にするためにレーザスクライビング装置42と統合した仕方で説明する。このレーザスクライビング装置42は、図6乃至10に図示してあり、右ローディングエンド70、左アンローディングエンド72及び中央レーザスクライビングモジュール74を含む図8は特に詳細に図示してある。スクライブされるコーティングガラスシート基板は、レーザスクライビングのために、ローディングエンド70からレーザスクライビングモジュール74に向かって左方向に垂直に延びた方位でコンベヤ送りされ、その後、次のステーションに配送するための準備ができ、アンローディングエンド72に向かって左方向にコンベヤ移送される。ローディングエンド70からの移送は、ローディングカート76で提供され、レーザスクライビングオペレーション中の正確に制御された移送のために、図10に最も良く表されているレーザスクライビングコンベヤ78によってガラスシート基板24を受ける。後で詳述するレーザスクライビング後、スクライブされたガラスシート基板24は、レーザスクライビングコンベヤ78から、図8に示したアンローディングステーション72のアンローディングカート80に移送される。コンベヤ78は、酸化錫、硫化カドミウム及びテルル化カドミウム層が位置決めされたコーティング表面82とコーティングされていない表面81を有する図6に示したガラスシート基板24を移送し、これは、前述したバック電極層を付着する前に、図1に示した第1のスクライビングステーション40でのスクライビングに対応するものである。スクライビングは、そのコーティングされていない表面81からそのコーティングされた表面82までガラスシート基板24を介してレーザビームを差し向けることによ、スクライビングに関する異なる層に対して実行され、スクライブされる層は、各スクライブに関するレーザのパワーレベルによって制御される。
図9に最も良く表されているように、レーザスクライビング装置42は、8乃至70ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、50乃至100キロヘルツのレンジのパルス周波数を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域の波長を備えたパルスレーザビーム84を提供するレーザソース83を含む。利用される特定のレーザソース83は、8乃至70ナノ秒のレンジのパルス持続時間を有し、50乃至100キロヘルツのレンジのパルス周波数で作動し、1064ナノメートルのその基本振動数での波長が近赤外線領域の波長を備えたパルスレーザビームを提供する、ダイオードポンプQスイッチ・ネオジウムドープのバナジン酸イットリウムレーザソースである。パルスレーザビームは、スクライビングを実行するためにレーザビームを差し向ける符号90によってまとめて表わされるXYZガルバノメータ制御ミラーシステムにミラー86及び88によって反射される。特に、XYZガルバノメータ制御ミラーシステム90は、Z方位にビームの焦点距離を制御するためにレンズを水平に移動させるガルバノメータ制御焦点合わせ器92と、XY方位にビームを差し向けるガルバノメータ制御デュアルミラーアセンブリ94とを含み、その結果それによりまとめてXYZ制御をすることができる。
図6に示したようなガラスシート基板24のコーティングされていない表面81からのスクライブのレーザスクライビングにより、かかるスクライビングを提供するアブレーションによって形成されるガスプルームはなく、プルームによって、次のレーザパルスが次の各アブレーションを提供するためにコーティングを通過することを阻害されることはない。更に、図11に示したスクライビングは、互いにオーバーラップするアブレーション95で実行される。50%のオーバーラップは、全体的に均一なスクライブ幅と、早いスクライブ速度を提供する。従って、アブレーション95は、図11に示したような第1のスクライブ44のようなスクライブを提供し、第2及び第3のスクライブはまた、同じ方法で提供される。
引き続き図6を参照し、更に図10を参照すると、レーザスクライビング装置42は、ガラスシート基板平面をその非コーティング表面81で維持し、輸送方向に対して側方に基板を位置決めするガスプレッシャ及び真空ポジショナ96を有し、焦合パルスレーザビームが、スクライブされる層でZ方向において焦点合わせされる。これらのポジショナ96は、レーザビーム84がレーザスクライビングを提供するためにガラスシート基板24が通過する位置の上流及び下流の両方に垂直に延びるように配置される。図10に更に示したように、スクライビング位置の上流に5つのポジショナ96と、スクライビング位置の下流に5つのポジショナ96がある。図6及び7に示したように、各ポジショナ96は、真空がコンジット102を介して真空ソース100から適用される中央位置98を有する。各ポジショナ96の環状多孔部材104は、中央位置98の周りに延び、コンジット108を介してガスソース106から圧縮ガスを受ける。ポジショナ96は、スクライブされる層でのレーザ焦点合わせ及びアブレーションに関する正確な位置を提供するために、約4乃至6ミクロン以内で非コーティングガラスシート表面81を位置決めする。
図6,8及び10に示したとおり、スクライビング位置より上流に配置されたレーザ検出器109は、ガラスシート基板24の正確な位置を検出するために非コーティングガラス表面81から戻るように反射するレーザ検出ビーム109a(図6)を提供し、焦点合わせ器との接続を介して、ガルバノメータ制御ミラーシステム90の焦点合わせ器は、スクライビングレーザビーム84のスクライビングと移動の範囲の隅から隅まで検出した位置に応じてパルススクライビングレーザビーム84を焦点合わせする。この検出は、ガラスが製造されるときに形成されたローラー波形のようなガラスシート基板24のいかなる非平面構造にも適用できる。
レーザスクライビングを実行することができる2つの異なる方法をそれぞれ図12及び13に示す。以前に形成された隣接したスクライブの間に適当な間隔を提供するために、第1のものが水平方向に調節された後、レーザビームがスクライビングを実行するために垂直に移動するように、コーティングされたガラスシート基板24静止状態で保持されている各レーザスクライブ112の間、レーザスクライビングステーションコンベヤは、ガラスシート基板の移送に関するインデックス(移送位置情報)101を提供する。図13に示したように、コーティングされたガラスシート基板24を運搬Cの方向に沿って連続的に送することも可能であり、その場合、レーザスクライブ114のパスは、送方向に沿った方向と、本当の垂直方向との間に角度を形成しており、各スクライブの完了後、ガルバノメータ制御ミラーシステムのリセットモーション115があり、完全なパスは、一般的には蝶ネクタイのような形状に図示される。
図10を参照すると、第1のスクライビングステーションに移送する前に、コーティングされたガラスシート基板24の2つの上方の角が、一対のカメラ116によって検出される各基準位置でレーザマークされ、その結果、それが基準位置の間の間隔とパネルの正確な位置に関する信号を提供し、スクライビングが正確に位置決めされる。これにより、熱膨張又は収縮、及び、異なるガラスシート基板における基準間の異なる間隔に対して必要な調整をすることができる。
更に、各ガラスシート基板は、図9に示したように、バーコードリーダ118によって検知されるバーコードを備えることができ、その結果、スクライブされる各特定のガラスシート基板を識別することができる。更に、装置は、スクライブされるガラスシート基板のコーティング側からの排気を受ける排気フード120を含む。スクライビングが適当なパワーレベルで実行されることを保証するために、ガルバノメータ制御ミラー90は、84aで示したようにレーザビームをパワーメータ122に周期的に反射させ、かかるパワーメータ122は、パルスレーザソース83からのパワーレベルの必要な調整を提供するのに利用される。
上述のように、異なる層を介して第1,第2及び第3のセットのスクライブ44,52及び62を提供するために、レーザの平均パワーレベルはそれぞれ、約20ワット、8乃至9ワット、及び4乃至5ワットである。
本件発明を実施するための最良の形態を詳細に記載したが、本件発明に関連する当業者は、特許請求の範囲によって定義された発明を実施するために種々の変形実施形態を認識できるであろう。
本発明にかかる方法を実施するために本件発明により構築されたレーザスクライビング装置を含む光起電性パネル製造システムの各ステーションの概略図である。 別々のセルを提供するためにスクライブされた光起電性パネルの平面図である。 ガラスシート基板上に得られる光起電性パネルを提供するためにスクライブされるコーティング層を含む断面図である。 第1及び第2のスクライブがなされた後の図3と同様のパネルの断面図である。 第3のスクライブがなされた後のステージのパネルを示す図4と同様の断面図である。 スクライビングが実施される仕方を図示した概略図である。 スクライビング中にガラスシート基板を位置決めするために利用されるポジショナの構成を図示すべく、図6の7−7線から見た図である。 右ローディングエンドと、中央レーザスクライビングモジュールと、左アンローディングエンドとを各々有するレーザスクライビングステーションを示した断面図である。 レーザスクライビングモジュールを示すために、図8中の線9−9の方向に沿って拡大して示した平面図である。 図8に示したものから拡大したレーザスクライビングモジュールを示した図9中の線10−10の方向に沿って示した正面断面図である。 基板上のコーティングにおけるオーバーラップアブレーションがレーザスクライビングを実行する仕方を図示した概略図である。 コーティングされたガラスシート基板が定常に保持されながら、レーザスクライビングが、実施されるレーザスクライビング・インデックスをコンベヤ送りすることによって進行する方法を示す。 コーティングされたガラスシート基板を連続的に移動させ、角度的に運搬の方向に沿ってレーザビームを移動させることによってレーザスクライビングが行われる別の方法を示す。

Claims (15)

  1. レーザスクライビング方法であって、
    一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされた対向する表面を有するガラスシート基板を提供し、
    少なくとも50キロヘルツのパルス周波数と少なくとも8ナノ秒のパルス持続時間を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送し、
    パルスレーザビームがガラスシート基板を通る位置に対して前記移送方向に沿って上流及び下流に配置された真空ポジショナによりガラスシート基板を移送方向に対して側方から位置決めし、
    レーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、XYZガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、該コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも1000mm/秒の速度でスクライビングし、スクライビングの間、前記真空ポジショナがガラスシート基板の垂直向きを制御する、ことを特徴とする方法。
  2. 真空ポジショナが、ガラスシート基板のコーティングされていない表面でそのガラスシート基板を位置決めし、コーティングされた表面の劣化を防止することを特徴とする、請求項1に記載のレーザスクライビング方法。
  3. 前記真空ポジショナに近接した位置に照射されるレーザ検出ビームによってガラスシート基板の位置を検出し、前記検出した位置に基づきパルスレーザビームの焦点を合わせることを特徴とする請求項1に記載のレーザスクライビング方法。
  4. レーザスクライビング方法であって、
    一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされた対向する表面を有するガラスシート基板を提供し、
    少なくとも50キロヘルツのパルス周波数と少なくとも8ナノ秒のパルス持続時間を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送し、
    コンベアによってガラスシート基板の移送に関する移送位置情報を提供し、
    レーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、XYZガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、該コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも1000mm/秒の速度でスクライビングし、スクライビングする間、ガラスシート基板を静止状態に保持する、ことを特徴とする方法。
  5. レーザスクライビング方法であって、
    一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされた対向する表面を有するガラスシート基板を提供し、
    少なくとも50キロヘルツのパルス周波数と少なくとも8ナノ秒のパルス持続時間を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送し、
    レーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、XYZガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、該コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも1000mm/秒の速度でスクライビングし、ガラスシート基板を移送しながらスクライビングを実施する、ことを特徴とする方法。
  6. レーザスクライビング方法であって、
    一方がコーティングされておらず、他方が複数の層からなるコーティングがなされた対向する表面を有するガラスシート基板を提供し、
    少なくとも50キロヘルツのパルス周波数と少なくとも8ナノ秒のパルス持続時間を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送し、
    レーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、XYZガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、該コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも1000mm/秒の速度でスクライビングし、複数のスクライブが異なるパワーレベルで形成され、複数のスクライブが異なる層に延びる、ことを特徴とする方法。
  7. 複数のレーザソース及び各レーザソースに対応するXYZガルバノメータ制御ミラーが、少なくとも1000mm/秒の速度で、8乃至70ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、50乃至100キロヘルツのレンジのパルス周波数とを持ち、基本振動数での波長が近赤外線領域にある、異なるパワーレベルのパルスレーザビームで、異なるスクライブを形成するスクライビングを行うことを特徴とする請求項6に記載のレーザスクライビング方法。
  8. レーザスクライビング方法であって、
    一方はコーティングされておらず、他方は複数の層からなるコーティングがなされた対向する表面を備えたガラスシート基板を提供し、
    少なくとも8ナノ秒のパルス持続時間と少なくとも50キロヘルツのパルス周波数を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあり選択されたパワーのパルスレーザビームを提供するバナジウムレーザソースに近接して、前記ガラスシート基板を垂直向きに保持しながら、所定の移送方向に沿って移送し、
    真空ポジショナによって、垂直向きのガラスシート基板を位置決めし、
    バナジウムレーザソースからのパルスレーザビームを、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、XYZガルバノメータ制御ミラーによって反射させ、コーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させ、該コーティングの所定の層に対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも1000mm/秒の速度でスクライビングする、ことを特徴とする方法。
  9. レーザスクライビング装置であって、
    一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされている対向する表面を備えたガラスシート基板を所定の移送方向に沿って、垂直向きに保持しつつ移送するためのコンベヤと、
    少なくとも8ナノ秒のパルス持続時間と少なくとも50キロヘルツのパルス周波数を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあるパルスレーザビームを提供するように、コンベヤに近接して位置決めされたレーザソースと、
    パルスレーザビームがガラスシート基板を通る位置に対して、前記移送方向に沿って上流と下流に配置され、ガラスシート基板を移送方向に対して側方から位置決めする真空ポジショナと、
    ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、パルスレーザビームを反射させるXYZガルバノメータ制御ミラーと、を有し、
    パルスレーザビームをガラスシート基板のコーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させて、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供して、少なくとも1000mm/秒の速度でのスクライビングを提供し、スクライビング中、前記真空ポジショナがガラスシート基板の垂直向きを制御することを特徴とする装置。
  10. スクライビング中、前記真空ポジショナがガラスシート基板の位置を制御する、ことを特徴とする請求項9記載の装置。
  11. パルスレーザビームを焦点合わせさせるために、真空ポジショナに近接した位置で、ガラスシート基板に対してレーザ検出ビームを送受信することによりガラスシート基板の位置を検出するレーザ検知器を更に含むことを特徴とする、請求項9または10に記載の装置。
  12. レーザスクライビング装置であって、
    一方がコーティングされておらず、他方がコーティングされている対向する表面を備えたガラスシート基板を所定の移送方向に沿って、垂直向きに保持しつつ移送するためのコンベヤと、
    8乃至70ナノ秒のレンジのパルス持続時間と、50乃至100キロヘルツのレンジのパルス周波数を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあり、コンベヤに近接して位置決めされた異なるパワーレベルのパルスレーザビームを提供する複数のレーザソースと、
    少なくとも1000mm/秒の速度でのスクライビングを提供するために、ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、レーザソースからのパルスレーザビームをそれぞれ反射する、複数のXYZガルバノメータ制御ミラーと、を有し、
    パルスレーザビームをガラスシート基板のコーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させて、該コーティングに対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供する、ことを特徴とする装置。
  13. 一方がコーティングされておらず、他方が複数の層からなるコーティングを有する対向する表面を備えたガラスシート基板を所定の移送方向に沿って垂直向きに保持しつつ移送するコンベヤと、
    少なくとも8ナノ秒のパルス持続時間と少なくとも50キロヘルツのパルス周波数を有し、基本振動数での波長が近赤外線領域にあり、選択されたパワーのパルスレーザビームを提供し、前記移送方向に沿って互いに間隔が隔てられて配置された複数のバナジウムレーザソースと、
    ガラスシート基板のコーティングされていない表面に向けて、パルスレーザビームをそれぞれ反射する複数のXYZガルバノメータ制御ミラーと、を有し、
    パルスレーザビームをガラスシート基板のコーティングされていない表面を通過させて、ガラスシート基板の他方の表面のコーティングに到達させて、該コーティングの1又はそれ以上の層に対して、他のアブレーションの少なくとも一部とオーバーラップするオーバーラップアブレーションを提供し、少なくとも1000mm/秒の速度でのスクライビングを提供することを特徴とするレーザスクライビングのための装置。
  14. パルス周波数が50乃至100キロヘルツのレンジであり、パルス持続時間が8乃至70ナノ秒のレンジであることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
  15. パルス周波数が50乃至100キロヘルツのレンジであり、パルス持続時間が8乃至70ナノ秒のレンジであることを特徴とする請求項9〜13のいずれか1項に記載の装置。
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