JP4422540B2 - 温度応答性表面及びその利用法 - Google Patents
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Description
また、本発明は、その温度応答性表面の利用法を提供する。
ジメチルビニルシラノールの合成
還流管をつけた1Lの三口フラスコを窒素置換した後、氷浴中でエチルエーテル700mlを入れ、アニリン8.38g(0.09mol)、水1.48g(0.087mol)を加え攪拌した。50mlのエチルエーテルにあらかじめ溶解しておいたビニルジメチルクロロシラン10g(0.082mol)をゆっくりと滴下し、室温で15分攪拌した。反応は化6に示すとおりである。生成する塩を濾過により除去後、無水硫酸マグネシウムで脱水を行い、溶媒を減圧留去し、目的物を得た。収率は70%であった。
ビス(ジメチルビニルシロキシ)メチルシランの合成
還流管をつけた1Lの三口フラスコを窒素置換した後、氷浴中でエチルエーテル500ml、トリエチルアミン8.21g(0.081mol)を入れ、7.54g(0.074mol)のジメチルビニルシラノールを加え攪拌した。これへ、50mlのエチルエーテルに溶解したジメチルシラン4.24g(0.037mol)をゆっくりと滴下し、室温で20分間攪拌した。反応は化7に示すとおりである。生成する塩を濾過により除去後、エバポレーターで低沸点溶媒等を除去した。蒸留により、無色透明のビス(ジメチルビニルシロキシ)メチルシランを得た。収率は69%であった。沸点(bp)は65〜68℃(0.5torr)であった。
デンドリティックポリマーポリマーの合成
還流管をつけた100mlの三口フラスコを窒素置換した後、このフラスコ中でビス(ジメチルビニルシロキシ)メチルシラン2.49g(0.01mol)を50mlのTHFに溶解した。Karstedt触媒(platinum(0)−1,3−divinyl−1,1,3,3−tetramethyldisiloxane complex 0.1M in xylene)を数滴加え、IRスペクトルで完全にSi−H基が消失するまで加熱還流し、室温まで冷却した。エバポレーターで低沸点溶媒等を除去後、アセトニトリルに生成物を滴下して無色粘性液状のポリマーを得た。収率は93%であった。ポリスチレンを標準とし、THFを展開溶媒とするGPC分量測定の結果、重量平均分子量は6000であった。
参考例3のデンドリティックポリマー5gとスライドグラス1枚をアセトン・ヘキサン混合液(1:1)200mlに加え、24時間加熱還流した。これによりスライドグラス表面にデンドリティックポリマーを共有結合させた。室温まで冷却した。得られたスライドグラスをアセトン100mlで十分に洗浄し、室温で一晩減圧乾燥した。得られたデンドリティックポリマーが固定化されたスライドガラス上に0.5mm厚の流路を設けたスペーサー、並びに別のスライドガラスを挟み、デンドリティックポリマーが固定化されたスライドガラス平面上で溶質の分離を行う装置を組み上げ、以下の評価を行った。
試料A
1.ヒドロコルチゾン 0.03mg/ml
2.テストステロン 0.02mg/ml
デンドリティックポリマーを固定したプレート表面上で試料Aの2種のステロイドが分離することを確認した。プレートに試料A、移動相に66.7mMリン酸緩衝液、流速0.5ml/min.UV(紫外可視吸光度検出器)により254nmの波長で検出を行った。プレートを恒温槽に設置し、表面温度を変化させてステロイドの分離を行った。得られた結果を図1に示す。温度変化によってステロイドの保持時間を制御できることが確認できた。
Claims (12)
- シロキサン骨格のデンドリティックポリマー、或いはそれに別のポリマーがグラフト化されたポリマーが基材表面に薄層状に固定化されていることを特徴とする温度応答性表面。
- デンドリティックポリマーが、ビス(ジメチルビニルシロキサン)メチルシラン、トリス(ジメルビニルシロキサン)シラン、ビス(ジメチルアリルシロキサン)メチルシラン、トリス(ジメチルアリルシロキサン)シランを単独、もしくは2種以上を混合して重合したものである、請求項1記載の温度応答性表面。
- 別のポリマーが温度応答性を有するポリマー、親水性ポリマーのいずれか一つ、もしくは双方からなる、請求項1、2いずれか1項記載の温度応答性表面。
- 温度応答性を有するポリマーが、ポリ−N−置換アクリルアミド誘導体、ポリ−N−置換メタアクリルアミド誘導体、これらの共重合体、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルアルコール部分酢化物のいずれか一つ、もしくは二つ以上からなる、請求項3記載の温度応答性表面。
- 温度応答性を有するポリマーがポリ−N−イソプロピルアクリルアミドである、請求項3、4いずれか1項記載の温度応答性表面。
- ポリマーの炭素原子濃度が0.5〜45%である、請求項1〜5いずれか1項記載の温度応答性表面。
- 基材上へのポリマーの被覆量が0.05〜8.0mg/m 2 である、請求項1〜6いずれか1項記載の温度応答性表面。
- シロキサン骨格を有するデンドリティックポリマー、或いはそれに別のポリマーがグラフト化されたポリマーの溶液に、基材を浸すことを特徴とする温度応答性表面の製造方法。
- ポリマーが、ビス(ジメチルビニルシロキサン)メチルシラン、トリス(ジメルビニルシロキサン)シラン、ビス(ジメチルアリルシロキサン)メチルシラン、トリス(ジメチルアリルシロキサン)シランを単独、もしくは2種以上を混合して重合したものである、請求項8記載の温度応答性表面の製造方法。
- 別のポリマーが温度応答性を有するポリマー、親水性ポリマーのいずれか一つ、もしくは双方からなる、請求項8記載の温度応答性表面の製造方法。
- 基材上へのポリマーの被覆量が0.05〜8.0mg/m 2 である、請求項8〜10いずれか1項記載の温度応答性表面の製造方法。
- 基材が、シリカ、ガラス、酸化チタン、チタン酸バリウム、酸化アルミニウム、酸化ニッケルの単独、もしくは2種以上を組み合わせたものである、請求項8〜11いずれか1項記載の温度応答性表面の製造方法。
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