JP2005292104A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. シロキサン骨格のデンドリティックポリマー、或いはそれに別のポリマーがグラフト化されたポリマーが基材表面に薄層状に固定化されていることを特徴とする温度応答性表面。
2. デンドリティックポリマーが、ビス（ジメチルビニルシロキサン）メチルシラン、トリス（ジメルビニルシロキサン）シラン、ビス（ジメチルアリルシロキサン）メチルシラン、トリス（ジメチルアリルシロキサン）シランを単独、もしくは２種以上を混合して重合したものである、請求項１記載の温度応答性表面。
3. 別のポリマーが温度応答性を有するポリマー、親水性ポリマーのいずれか一つ、もしくは双方からなる、請求項１、２いずれか１項記載の温度応答性表面。
4. 温度応答性を有するポリマーが、ポリ−Ｎ−置換アクリルアミド誘導体、ポリ−Ｎ−置換メタアクリルアミド誘導体、これらの共重合体、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルアルコール部分酢化物のいずれか一つ、もしくは二つ以上からなる、請求項３記載の温度応答性表面。
5. 温度応答性を有するポリマーがポリ−Ｎ−イソプロピルアクリルアミドである、請求項３、４いずれか１項記載の温度応答性表面。
6. ポリマーの炭素原子濃度が０．５〜４５％である、請求項１〜５いずれか１項記載の温度応答性表面。
7. 基材上へのポリマーの被覆量が０．０５〜８．０μｇ／ｃｍ ^２ である、請求項１〜６いずれか１項記載の温度応答性表面。
8. シロキサン骨格を有するデンドリティックポリマー、或いはそれに別のポリマーがグラフト化されたポリマーの溶液に、基材を浸すことを特徴とする温度応答性表面の製造方法。
9. ポリマーが、ビス（ジメチルビニルシロキサン）メチルシラン、トリス（ジメルビニルシロキサン）シラン、ビス（ジメチルアリルシロキサン）メチルシラン、トリス（ジメチルアリルシロキサン）シランを単独、もしくは２種以上を混合して重合したものである、請求項８記載の温度応答性表面の製造方法。
10. 別のポリマーが温度応答性を有するポリマー、親水性ポリマーのいずれか一つ、もしくは双方からなる、請求項８記載の温度応答性表面の製造方法。
11. 基材上へのポリマーの被覆量が０．０５〜８．０μｇ／ｃｍ ^２ である、請求項８〜１０いずれか１項記載の温度応答性表面の製造方法。
12. 基材が、シリカ、ガラス、酸化チタン、チタン酸バリウム、酸化アルミニウム、酸化ニッケルの単独、もしくは２種以上を組み合わせたものである、請求項８〜１１いずれか１項記載の温度応答性表面の製造方法。