JP4422203B1 - マグネトロンスパッタリング用ターゲットおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】マグネトロンスパッタリング時の漏洩磁束量を従来よりも増加させる。
【解決手段】 解決手段の第１態様は、Ｃｏを有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、Ｃｏを含む磁性相１２と、Ｃｏを含む非磁性相１６と、酸化物相１４と、を有し、該磁性相１２と該非磁性相１６と該酸化物相１４とが互いに分散しており、該磁性相１２はＣｏおよびＣｒを主成分として含み、該磁性相１２におけるＣｏの含有割合は、７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下である。解決手段の第２態様は、Ｃｏを有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、Ｃｏを含む磁性相１２と、Ｃｏを含む非磁性相１６と、を有し、該磁性相１２と該非磁性相１６とが互いに分散しており、該非磁性相１６はＰｔを主成分として含むＰｔ−Ｃｏ合金相であり、該Ｐｔ−Ｃｏ合金相におけるＣｏの含有割合は、０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下である。
【選択図】図１

Description

本発明は、強磁性金属元素であるＣｏを有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットおよびその製造方法に関する。

マグネトロンスパッタリングでは、ターゲットの裏面に磁石を配置し、ターゲットの表面側に漏れ出る漏洩磁束によりプラズマを高密度に集中させる。これにより、安定した高速スパッタリングを可能としている。

このため、マグネトロンスパッタリングに用いられるターゲットには、ターゲットの表面側に漏れ出る漏洩磁束の量を多くすることが求められる。

例えば、特許文献１では、Ｃｏ−Ｃｒ二元系合金相、Ｐｔ相および非磁性酸化物相を均一分散させて比透磁率を低下させて、漏洩磁束の量を多くしたターゲットが記載されている。

特開２００９−１８６０号公報

しかしながら、マグネトロンスパッタリング時の漏洩磁束量をさらに増加させることが求められている。

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであって、マグネトロンスパッタリング時の漏洩磁束量を従来よりも増加させることができるマグネトロンスパッタリング用ターゲットおよびその製造方法を提供することを課題とする。

本発明の第１態様は、Ｃｏを有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、Ｃｏを含む磁性相と、Ｃｏを含む非磁性相と、酸化物相と、を有し、該磁性相と該非磁性相と該酸化物相とが互いに分散しており、該磁性相はＣｏおよびＣｒを主成分として含み、該磁性相におけるＣｏの含有割合は、７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下であることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットにより、前記課題を解決したものである。

ここで、「磁性相と非磁性相とが互いに分散している」とは、磁性相が分散媒、非磁性相が分散質となっている状態、および非磁性相が分散媒、磁性相が分散質となっている状態を含み、さらに磁性相と非磁性相とが混ざり合っているがどちらが分散媒で、どちらが分散質とは言えない状態も含む概念である。

また、「磁性相」とは、磁性を有している相（通常の磁性体と比べて磁性が十分に小さい相を除く）のことであり、「非磁性相」とは、磁性がゼロの相だけでなく、通常の磁性体と比べて磁性が十分に小さい相も含む概念である。

本発明によれば、Ｃｏを含む非磁性相を設けることにより、ターゲット全体におけるＣｏの量を一定に保ったまま、Ｃｏを含む磁性相に含まれるＣｏの量を減少させることができ、ターゲット全体の磁性を減少させることができる。これにより、ターゲットに含まれるＣｏの含有量を減少させずに、マグネトロンスパッタリング時に、ターゲット表面からの漏洩磁束の量を増加させることができ、マグネトロンスパッタリングを良好に行うことができる。

前記磁性相は、酸化物相を微細に分散させやすくする点で、Ｐｔをさらに含むことが好ましい。

前記非磁性相は、Ｐｔを主成分として含むＰｔ−Ｃｏ合金相であることが好ましく、この場合、該Ｐｔ−Ｃｏ合金相におけるＣｏの含有割合は、０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下であることがより好ましい。

本発明の第２態様は、Ｃｏを有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、Ｃｏを含む磁性相と、Ｃｏを含む非磁性相と、を有し、該磁性相と該非磁性相とが互いに分散しており、該非磁性相はＰｔを主成分として含むＰｔ−Ｃｏ合金相であり、該Ｐｔ−Ｃｏ合金相におけるＣｏの含有割合は、０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下であることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットにより、前記課題を解決したものである。

本発明の第２態様のターゲットが酸化物相をさらに有しており、該酸化物相と前記磁性相と前記非磁性相とが互いに分散している場合、該ターゲットを用いてマグネトロンスパッタリングを行うと、垂直磁気記録媒体を得ることができる場合がある。

本発明の第２態様のターゲットにおいて、前記磁性相は、例えばＣｏおよびＣｒを主成分として含むことができ、この場合、該磁性相におけるＣｏの含有割合は、７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下であることが好ましい。また、該磁性相は、酸化物相を微細に分散させやすくする点で、Ｐｔをさらに含むことも好ましい。
本発明に係るターゲットにおいて、前記酸化物相は、例えば、ＳｉＯ ₂ 、ＴｉＯ ₂ 、Ｔｉ ₂ Ｏ ₃ 、Ｔａ ₂ Ｏ ₅ 、Ｃｒ ₂ Ｏ ₃ 、ＣｏＯ、Ｃｏ ₃ Ｏ ₄ 、Ｂ ₂ Ｏ ₅ 、Ｆｅ ₂ Ｏ ₃ 、ＣｕＯ、Ｙ ₂ Ｏ ₃ 、ＭｇＯ、Ａｌ ₂ Ｏ ₃ 、ＺｒＯ ₂ 、Ｎｂ ₂ Ｏ ₅ 、ＭｏＯ ₃ 、ＣｅＯ ₂ 、Ｓｍ ₂ Ｏ ₃ 、Ｇｄ ₂ Ｏ ₃ 、ＷＯ ₂ 、ＷＯ ₃ 、ＨｆＯ ₂ 、ＮｉＯ ₂ のうちの少なくとも１種を含む。
前記ターゲットの中には、磁気記録層の形成に好適に用いることができるものがある。

本発明の第１態様に係るターゲットは、例えば、ＣｏおよびＣｒを主成分として含み、Ｃｏの含有割合が７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下である磁性金属粉末と、微細な１次粒子が凝集して２次粒子を形成している酸化物粉末とを、該酸化物粉末の２次粒子の粒径が所定の粒径以下になるまで混合分散して第１の混合粉末を得る工程と、前記第１の混合粉末と、Ｃｏを含む非磁性金属粉末とを、該非磁性金属粉末が均一となるように混合分散して第２の混合粉末を得る工程と、を有することを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法により製造することができる。
また、本発明の第１態様に係るターゲットは、例えば、Ｃｏを含む非磁性金属粉末と、微細な１次粒子が凝集して２次粒子を形成している酸化物粉末とを、該酸化物粉末の２次粒子の粒径が所定の粒径以下になるまで混合分散して第１の混合粉末を得る工程と、前記第１の混合粉末と、ＣｏおよびＣｒを主成分として含み、Ｃｏの含有割合が７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下である磁性金属粉末とを、該磁性金属粉末が均一となるように混合分散して第２の混合粉末を得る工程と、を有することを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法により製造することができる。

本発明の第２態様に係るターゲットに含まれるターゲットは、例えば、Ｃｏを含む磁性金属粉末と、微細な１次粒子が凝集して２次粒子を形成している酸化物粉末とを、該酸化物粉末の２次粒子の粒径が所定の粒径以下になるまで混合分散して第１の混合粉末を得る工程と、前記第１の混合粉末と、Ｐｔを主成分として含むＰｔ−Ｃｏ合金からなりＣｏの含有割合が０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下である非磁性金属粉末とを、該非磁性金属粉末が均一となるように混合分散して第２の混合粉末を得る工程と、を有することを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法により製造することができる。
また、本発明の第２態様に係るターゲットに含まれるターゲットは、例えば、Ｐｔを主成分として含むＰｔ−Ｃｏ合金からなりＣｏの含有割合が０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下である非磁性金属粉末と、微細な１次粒子が凝集して２次粒子を形成している酸化物粉末とを、該酸化物粉末の２次粒子の粒径が所定の粒径以下になるまで混合分散して第１の混合粉末を得る工程と、前記第１の混合粉末と、Ｃｏを含む磁性金属粉末とを、該磁性金属粉末が均一となるように混合分散して第２の混合粉末を得る工程と、を有することを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法により製造することができる。

ここで、磁性金属粉末とは、磁性を有している粉末（通常の磁性体と比べて磁性が十分に小さい粉末を除く）のことであり、非磁性金属粉末とは、磁性がゼロの粉末だけでなく、通常の磁性体と比べて磁性が十分に小さい粉末も含む概念である。

本発明によれば、ターゲットに含まれる強磁性金属元素であるＣｏの含有量を減少させずに、マグネトロンスパッタリング時に、ターゲット表面からの漏洩磁束の量を増加させることができ、マグネトロンスパッタリングを良好に行うことができる。

本実施形態に係るターゲットのミクロ構造を示す一例の金属顕微鏡写真 Ｃｏ−Ｃｒ合金において、Ｃｏの含有割合と磁性との関係を示すグラフ図 Ｐｔ−Ｃｏ合金において、Ｃｏの含有割合と磁性との関係を示すグラフ図 実施例１の小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（低倍率） 実施例１の小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（高倍率） 比較例１の小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（低倍率） 比較例１の小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（高倍率） 比較例２の小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（低倍率） 比較例２の小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（高倍率） 実施例２の小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（低倍率） 実施例２の小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（高倍率） 実施例３の小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（低倍率） 実施例３の小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（高倍率） 実施例４の小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（低倍率） 実施例４の小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（高倍率） 比較例３の小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（低倍率） 比較例３の小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真（高倍率）

本発明に係るマグネトロンスパッタリング用ターゲットは、Ｃｏを有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、Ｃｏを含む磁性相と、Ｃｏを含む非磁性相と、を有しており、前記磁性相と前記非磁性相とが互いに分散したミクロ構造を有することを特徴とする。

本発明では、Ｃｏを含む非磁性相を設けることにより、ターゲット全体におけるＣｏの量を一定に保ったまま、磁性相に含まれるＣｏの量を減少させることができる。これにより磁性相の磁性を弱めることができ、マグネトロンスパッタリング時に、ターゲット表面からの漏洩磁束の量を増加させることができ、マグネトロンスパッタリングを良好に行うことができる。

また、本発明に係るマグネトロンスパッタリング用ターゲットは、強磁性金属元素であるＣｏを有するので、磁気記録媒体の作製に用いることができる。強磁性金属元素としてＣｏを用いるので、保磁力の大きい記録層（磁性層）を形成することができ、ハードディスクの作製に好適なターゲットとすることができる。

以下では、磁気記録層の作製に好適に用いることができるＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−ＳｉＯ₂ターゲットを本発明の実施形態として取り上げ、具体的に説明する。

１．ターゲットの構成成分
本実施形態に係るターゲットの構成成分は、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−ＳｉＯ₂である。Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔは、スパッタリングによって形成される磁気記録層のグラニュラ構造において、磁性粒子（微小な磁石）となる。ＳｉＯ₂は、グラニュラ構造において、磁性粒子（微小な磁石）を仕切る非磁性マトリックスとなる。

ターゲット全体に対する金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）の含有割合およびＳｉＯ₂の含有割合は、目的とする磁気記録層の成分組成によって決まり、ターゲット全体に対する金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）の含有割合は９０〜９４モル％、ターゲット全体に対するＳｉＯ₂の含有割合は６〜１０モル％である。

Ｃｏは強磁性金属元素であり、磁気記録層のグラニュラ構造の磁性粒子（微小な磁石）の形成において中心的な役割を果たす。Ｃｏの含有割合は金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）全体に対して６０〜７０ａｔ％である。

Ｃｒは、所定の組成範囲でＣｏと合金化することによりＣｏの磁気モーメントを低下させる機能を有し、磁性粒子の磁性の強さを調整する役割を有する。Ｃｒの含有割合は金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）全体に対して１８〜２４ａｔ％である。

Ｐｔは、所定の組成範囲でＣｏと合金化することによりＣｏの磁気モーメントを増加させる機能を有し、磁性粒子の磁性の強さを調整する役割を有する。Ｐｔの含有割合は金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）全体に対して１〜６ａｔ％である。

なお、本実施形態では酸化物としてＳｉＯ₂を用いたが、用いる酸化物はＳｉＯ₂に限定されず、例えば、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔｉ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｃｒ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、Ｃｏ₃Ｏ₄、Ｂ₂Ｏ₅、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｕＯ、Ｙ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＭｏＯ₃、ＣｅＯ₂、Ｓｍ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃、ＷＯ₂、ＷＯ₃、ＨｆＯ₂、ＮｉＯ₂のうちの少なくとも１種を含む酸化物を用いることもできる。

２．ターゲットのミクロ構造
本実施形態に係るターゲットのミクロ構造は、図１（実施例１のターゲットの厚さ方向断面の高倍率の金属顕微鏡写真）を例にとって示すように、マトリックスであるＣｏ−Ｃｒ合金相（Ｃｏの含有割合は７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下）中にＳｉＯ₂相およびＰｔ−Ｃｏ合金相（Ｃｏの含有割合は０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下）が分散した構造である。図１において、符号１０は本実施形態に係るターゲット、符号１２はマトリックス合金相（Ｃｏ−Ｃｒ合金相（Ｃｏの含有割合は７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下））、符号１４は酸化物相（ＳｉＯ₂相）、符号１６は分散合金相（Ｐｔ−Ｃｏ合金相（Ｃｏの含有割合は０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下））である。

Ｃｏ−Ｃｒ合金相（Ｃｏの含有割合は７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下）は磁性相、Ｐｔ−Ｃｏ合金相（Ｃｏの含有割合は０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下）およびＳｉＯ₂相は非磁性相である。

ここで、Ｃｏ−Ｃｒ合金相において、Ｃｏの含有割合を７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下としている理由について説明する。

下記の表１は、Ｃｏ−Ｃｒ合金において、Ｃｏの含有割合を振って測定した磁性の評価尺度の引張応力（後述するように引張応力の値が大きいほど磁性が強くなる）についての実験結果であり、図２は、下記の表１をグラフにしたもので、Ｃｏ−Ｃｒ合金において、Ｃｏの含有割合と磁性との関係を示すグラフ図であり、横軸がＣｏの含有割合、縦軸が磁性の評価尺度の引張応力である。

表１、図２に示すように、Ｃｏ−Ｃｒ合金において、ＣｏとＣｒの合計に対するＣｏの含有割合を８０ａｔ％以下とすることによりＣｏ−Ｃｒ合金の磁性を大きく減少させることができる。ただし、Ｃｏの含有割合が７６ａｔ％を下回ると、ターゲット全体としてのＣｏ量が少なくなってしまい、スパッタリングによって得られる層を磁気記録層として使用することはできなくなる。このため、本実施形態においては、Ｃｏ−Ｃｒ合金相におけるＣｏの含有割合を７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下として、スパッタリングによって得られる層を磁気記録層として使用することできる範囲内で、ターゲット全体の磁性を減少させて、良好なマグネトロンスパッタリングができるようにしている。

次に、Ｐｔ−Ｃｏ合金相において、Ｃｏの含有割合を０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下としている理由について説明する。

下記の表２は、Ｐｔ−Ｃｏ合金において、Ｃｏの含有割合を振って測定した磁性の評価尺度の引張応力（後述するように引張応力の値が大きいほど磁性が強くなる）についての実験結果であり、図３は、下記の表２をグラフにしたもので、Ｐｔ−Ｃｏ合金において、Ｃｏの含有割合と磁性との関係を示すグラフ図であり、横軸がＣｏの含有割合、縦軸が磁性の評価尺度の引張応力である。

表２、図３に示すように、Ｐｔ−Ｃｏ合金において、ＰｔとＣｏの合計に対するＣｏの含有割合を１３ａｔ％以下とすることにより、Ｐｔ−Ｃｏ合金の磁性をほとんど零のレベルにしたまま、合金中にＣｏを含有させることができる。ただし、Ｃｏの含有割合が零では、ターゲット１０全体におけるＣｏの量を一定に保ったまま、Ｃｏ−Ｃｒ合金相におけるＣｏの含有割合を減少させることができず、ターゲット全体の磁性を減少させることができない。そこで、本実施形態においては、Ｐｔ−Ｃｏ合金相におけるＣｏの含有割合を０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下として、ターゲット１０全体におけるＣｏの量を一定に保ったまま、Ｃｏ−Ｃｒ合金相におけるＣｏの含有割合を減少させ、ターゲット全体の磁性を減少させて、良好なマグネトロンスパッタリングができるようにしている。

なお、表１、表２、図２、図３のデータは、本発明者が測定して得たデータであり、具体的には下記のようにして測定した。表１、図２のデータの場合、ＣｏとＣｒを体積が１ｃｍ³になるように配材してアーク溶解し、底面積が０．７８５ｃｍ²である円盤状のサンプルを組成比を変えて作製した。そして、この円盤状のサンプルの底面を、残留磁束密度が５００ガウスの磁石（材質フェライト）に付着させた後、底面と垂直な方向に引っ張り、磁石から離れたときの力を測定した。この力を底面積０．７８５ｃｍ²で除して引張応力を求め、これを磁性の評価尺度とし、表１の数値、図２の縦軸とした。表２、図３のデータの場合、ＰｔとＣｏを体積が１ｃｍ³になるように配材した以外は、表１、図２のデータの場合と同様にしてデータの取得を行った。

以上説明したように、本実施形態に係るターゲット１０では、Ｃｏを含む非磁性相であるＰｔ−Ｃｏ合金相（Ｃｏの含有割合は０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下）を設けることにより、ターゲット１０全体におけるＣｏの量を一定に保ったまま、磁性相であるマトリックスのＣｏ−Ｃｒ合金相に含まれるＣｏの量を減少（Ｃｏの含有割合を７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下にまで減少）させることができ、ターゲット１０全体の磁性を減少させることができる。これにより、ターゲットに含まれるＣｏの含有量を減少させずに、マグネトロンスパッタリング時に、ターゲット表面からの漏洩磁束の量を増加させることができ、マグネトロンスパッタリングを良好に行うことができる。

なお、本実施形態に係るターゲットのミクロ構造は、磁性相（Ｃｏ−Ｃｒ合金相）が分散媒であり、非磁性相（Ｐｔ−Ｃｏ合金相）および酸化物相（ＳｉＯ₂相）が分散質であり、磁性相（Ｃｏ−Ｃｒ合金相）中に非磁性相（Ｐｔ−Ｃｏ合金相）および酸化物相（ＳｉＯ₂相）が分散した構造となっているが、どの相も分散媒および分散質のどちらかに限定されているわけではなく、どの相も分散媒および分散質のどちらにもなることができる。

３．ターゲットの製造方法
本実施形態に係るターゲット１０は、以下のようにして製造することができる。

（１）所定の組成（Ｃｏの含有割合が７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下）となるようにＣｏ、Ｃｒを秤量し、合金溶湯を作製して、ガスアトマイズを行い、所定の組成（Ｃｏの含有割合が７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下）のＣｏ−Ｃｒ合金アトマイズ磁性粉末を作製する。また、所定の組成（Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下）となるようにＣｏ、Ｐｔを秤量し、合金溶湯を作製して、ガスアトマイズを行い、所定の組成（Ｃｏの含有割合が０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下）のＣｏ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粉末を作製する。

（２）Ｃｏ−Ｃｒ合金アトマイズ磁性粉末とＳｉＯ₂粉末とを混合分散して、第１の混合粉末を作製する。ＳｉＯ₂粉末は、微細な１次粒子が凝集して２次粒子を形成している。混合分散の程度は、ＳｉＯ₂の２次粒子径が所定の径（例えば、１０μｍ）以下になるまで行う。

（３）第１の混合粉末とＣｏ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粉末とを均一になるまで混合分散して、第２の混合粉末を作製する。なお、混合分散は、各粒子径が小さくならない程度に止める。

（４）第２の混合粉末を真空ホットプレスして成形し、ターゲットを作製する。

上記製造方法の特徴は、原料粉末を２段階で混合することにある。即ち、１段階目の混合では、ＳｉＯ₂の２次粒子径が所定の径以下になるまで混合を行うのに対して、２段階目の混合では、混合分散を、各粒子径が小さくならない程度に止めている。

１段階目の混合でＳｉＯ₂の２次粒子径が所定の径以下になるまで混合を行うことにより、得られるターゲット中においてＳｉＯ₂は十分に微細に分散し、スパッタリング時のアーキング等の不具合の発生を抑えることができる。

一方、２段階目の混合は、混合分散を、各粒子径が小さくならない程度に止めているので、２段階目の混合でのみ混合されるＣｏ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粉末の粒径は小さくならない。このため、真空ホットプレスを行っても、Ｃｏ−Ｃｒ合金アトマイズ磁性粉末とＣｏ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粉末との間でＣｏの拡散移動は起こりにくく、Ｃｏ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粉末中のＣｏ量が変動してしまうことを防止することができる。これにより、得られるターゲット中のＣｏ−Ｐｔ合金相中のＣｏ量が１３ａｔ％を超えることを防止することができ、Ｃｏ−Ｐｔ合金相の磁性を小さく保つことができ、マグネトロンスパッタリング時に、ターゲット表面からの漏洩磁束の量を増加させることができる。

なお、１段階目の混合で、Ｃｏ−Ｐｔ合金アトマイズ非磁性粉末とＳｉＯ₂粉末とを（ＳｉＯ₂の２次粒子径が所定の径（例えば、１０μｍ）以下になるまで）混合分散して、第１の混合粉末を作製し、２段階目の混合で、第１の混合粉末とＣｏ−Ｃｒ合金アトマイズ磁性粉末とを均一になるまで混合分散（各粒子径が小さくならない程度に止める）して、第２の混合粉末を作製してもよい。

また、本実施形態に係るターゲット１０では、酸化物粉末（ＳｉＯ₂粉末）を混合して
混合粉末を得ていたが、本発明に係るターゲットで酸化物相を有していないものを製造する場合は、Ｃｏを含む磁性金属粉末とＣｏを含む非磁性金属粉末とを、各粒子径が小さくならない程度に混合分散して混合粉末を得て、得られた混合粉末を真空ホットプレス法等を用いて成形すればよい。

４．変形例
以上説明した実施形態では、マトリックスをＣｏ−Ｃｒ合金相としたが、Ｃｏ−Ｃｒ合金相に替えて、Ｐｔを含むＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金相をマトリックスとしてもよい。

Ｐｔは、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金中にＳｉＯ₂を微細に分散させる機能を有するので、Ｃｏ−Ｃｒ合金相に替えて、Ｐｔを含むＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金相とすることにより、マトリックス（Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金）中にＳｉＯ₂を微細に分散させることが容易となる。

なお、マトリックスをＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金相とした本変形例においても、前記実施形態と同様に、ターゲット全体に対する金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）の含有割合は９０〜９４モル％、ターゲット全体に対するＳｉＯ₂の含有割合は６〜１０モル％、金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）全体に対するＣｏの含有割合は６０〜７０ａｔ％、金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）全体に対するＣｒの含有割合は１８〜２４ａｔ％、金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）全体に対するＰｔの含有割合は１〜６ａｔ％である。

（実施例１）
実施例１として作製したターゲット全体の組成は、９２（６５Ｃｏ−１７Ｃｒ−１８Ｐｔ）−８ＳｉＯ₂であり、以下のようにして作製を行うとともに評価を行った。

合金組成がＣｏ：７８．７５ａｔ％、Ｃｒ：２１．２５ａｔ％となるように各金属を秤量し、１７００℃まで加熱してＣｏ−２１．２５ａｔ％Ｃｒ合金溶湯とし、噴射温度１７００℃でガスアトマイズを行ってＣｏ−２１．２５ａｔ％Ｃｒ合金粉末を作製した。また、合金組成がＰｔ：９０ａｔ％、Ｃｏ：１０ａｔ％となるように各金属を秤量し、１８５０℃まで加熱してＰｔ−１０ａｔ％Ｃｏ合金溶湯とし、噴射温度１８５０℃でガスアトマイズを行ってＰｔ−１０ａｔ％Ｃｏ合金粉末を作製した。作製した２種類のアトマイズ合金粉末（Ｃｏ−２１．２５ａｔ％Ｃｒ合金粉末、Ｐｔ−１０ａｔ％Ｃｏ合金粉末）をそれぞれ１５０メッシュのふるいで分級して、粒径がφ１０６μｍ以下の２種類のアトマイズ合金粉末（Ｃｏ−２１．２５ａｔ％Ｃｒ合金粉末、Ｐｔ−１０ａｔ％Ｃｏ合金粉末）を得た。

得られたＣｏ−２１．２５ａｔ％Ｃｒ合金粉末８１８．３１ｇにＳｉＯ₂粉末９３．００ｇを添加して混合分散を行い、第１の混合粉末を得た。詳細には、用いたＳｉＯ₂粉末は、中心径０．６μｍの１次粒子が凝集して、粒径がφ１００μｍ程度の２次粒子を形成していたが、この２次粒子の径が１０μｍ以下になるまで、ジルコニアボールを用いたボールミルで混合分散を行い、第１の混合粉末とした。

第１の混合粉末８４８．４７ｇに分級後のＰｔ−１０ａｔ％Ｃｏアトマイズ合金粉末６０１．５３ｇを添加して混合分散を行い、第２の混合粉末を得た。詳細には、各粉末（Ｃｏ−２１．２５ａｔ％Ｃｒ合金粉末、ＳｉＯ₂粉末、Ｐｔ−１０ａｔ％Ｃｏ合金粉末）の粒径が小さくならない範囲内で、各粉末が均一に分散するように混合分散を行い、第２の混合粉末とした。

作製した第２の混合粉末を、焼結温度：１１９０℃、圧力：２０ＭＰａ、時間：６０ｍｉｎ、雰囲気：５×１０^-2Ｐａ以下の条件でホットプレスを行い、小型焼結体（φ３０ｍｍ、厚さ５ｍｍ）を得た。得られた焼結体の密度をアルキメデス法により測定したところ、９．０２３（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．１７（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９８．４％であった。

図４および図５に、得られた小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真を示す。図４は低倍率の写真で、図５は高倍率の写真である。

図４および図５において、白色の球状の部分がＰｔ−１０ａｔ％Ｃｏ合金相であり、黒色の部分がＳｉＯ₂相であり、それら以外の部分がマトリックスのＣｏ−２１．２５ａｔ％Ｃｒ合金相である。

次に、作製した第２の混合粉末を用いて、小型焼結体を作製したときと同様の条件でホットプレスを行い、実際の製品形状に近い大型焼結体（φ１６２ｍｍ（チャック部を含めるとφ１６５ｍｍ）、厚さ６．３５ｍｍ（チャック部の厚さは１．６８ｍｍ））を得た。得られた焼結体の密度を、寸法および重量から計算したところ、９．０８７（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．１７（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９９．１％であった。

得られた大型焼結体について、ＡＳＴＭ Ｆ２０８６−０１に基づき、漏洩磁束についての評価を行った。磁束を発生させるための磁石には馬蹄形磁石（材質：アルニコ）を用いた。この磁石を漏洩磁束の測定装置に取り付けるとともに、ホールプローブにガウスメータを接続した。ホールプローブは、前記馬蹄形磁石の磁極間の中心の真上に位置するように配置した。

まず、測定装置のテーブルにターゲットを置かずに、テーブルの表面における水平方向の磁束密度を測定し、ＡＳＴＭで定義されるＳｏｕｒｃｅ Ｆｉｅｌｄを測定したところ８６０（Ｇ）であった。

次に、ホールプローブの先端を、ターゲットの漏洩磁束測定時の位置（テーブル表面からターゲットの厚さ＋２ｍｍの高さ位置）に上昇させ、テーブル面にターゲットを置かない状態で、テーブル面に水平な方向の漏洩磁束密度を測定し、ＡＳＴＭで定義されるＲｅｆｅｒｅｎｃｅ ｆｉｅｌｄを測定したところ５６１（Ｇ）であった。

次に、ターゲット表面の中心と、ターゲット表面のホールプローブ直下の点の間の距離が４３．７ｍｍになるようにターゲットをテーブル面に配置した。そして、中心位置を移動させずにターゲットを反時計回りに５回転させた後、中心位置を移動させずにターゲットを０度、３０度、６０度、９０度、１２０度回転させ、それぞれの位置で、テーブル面に水平な方向の漏洩磁束密度を測定した。得られた５つの漏洩磁束密度の値をＲｅｆｅｒｅｎｎｃｅ ｆｉｅｌｄの値で割って１００を掛けて漏洩磁束率（％）とした。５点の漏洩磁束率（％）の平均をとり、その平均値をそのターゲットの平均漏洩磁束率（％）とした。下記の表３に示すように、平均漏洩磁束率は６３．０％であった。

（比較例１）
比較例１として作製したターゲット全体の組成は、９２（６５Ｃｏ−１７Ｃｒ−１８Ｐｔ）−８ＳｉＯ₂であり、実施例１と同じであるが、分散相がＰｔ−Ｃｏ合金ではなくＰｔ単体となっている。また、マトリックスであるＣｏ−Ｃｒ合金相の組成も実施例１とは異なっている。比較例１のターゲットを、以下のようにして作製を行うとともに評価を行った。

組成のみを変更した以外は実施例１と同様にアトマイズおよび分級を行って、２種類のアトマイズ粉末（Ｃｏ−２０．７３ａｔ％Ｃｒ合金粉末、Ｐｔ粉末）を得た。なお、Ｃｏ−２０．７３ａｔ％Ｃｒアトマイズ合金粉末を得る際の加熱温度および噴射温度は１７００℃であり、Ｐｔアトマイズ粉末を得る際の加熱温度および噴射温度は２１００℃であった。

得られた分級後のＣｏ−２０．７３ａｔ％Ｃｒ合金粉末８３９．２９ｇにＳｉＯ₂粉末９３．００ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第１の混合粉末を得た。

第１の混合粉末８６８．０１ｇに分級後のＰｔアトマイズ粉末５８１．９９ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第２の混合粉末を得た。

得られた第２の混合粉末を、実施例１と同様の条件でホットプレスを行い、実施例１と同様の形状の小型焼結体および大型焼結体を作製した。作製した小型焼結体の密度をアルキメデス法により測定したところ、９．００５（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．１７（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９８．２％であった。また、作製した大型焼結体の密度を、寸法および重量から計算したところ、８．９９６（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．１７（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９８．１％であった。

図６および図７に、作製した小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真を示す。図６は低倍率の写真で、図７は高倍率の写真である。

図６および図７において、白色の球状の部分がＰｔ相であり、黒色の部分がＳｉＯ₂相であり、それら以外の部分がマトリックスのＣｏ−２０．７３ａｔ％Ｃｒ合金相である。

作製した大型焼結体について、実施例１と同様にして、漏洩磁束についての評価を行った。下記の表４に示すように、平均漏洩磁束率は５７．０％であった。

（比較例２）
比較例２として作製したターゲット全体の組成は、９２（６５Ｃｏ−１７Ｃｒ−１８Ｐｔ）−８ＳｉＯ₂であり、実施例１と同じであるが、マトリックスであるＣｏ−Ｃｒ合金相の組成、分散相であるＰｔ−Ｃｏ合金相の組成が実施例１とは異なっており、以下のようにして作製を行うとともに評価を行った。

合金組成のみを変更した以外は実施例１と同様にアトマイズおよび分級を行って、２種類のアトマイズ合金粉末（Ｃｏ−２６．５６ａｔ％Ｃｒ合金粉末、Ｐｔ−５０ａｔ％Ｃｏ合金粉末）を得た。なお、Ｃｏ−２６．５６ａｔ％Ｃｒアトマイズ合金粉末を得る際の加熱温度および噴射温度は１７００℃であり、Ｐｔ−５０ａｔ％Ｃｏ合金粉末を得る際の加熱温度および噴射温度は１６５０℃であった。

得られた分級後のＣｏ−２６．５６ａｔ％Ｃｒ合金粉末６５０．４５ｇにＳｉＯ₂粉末９３．００ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第１の混合粉末を得た。

第１の混合粉末６９２．１９ｇに分級後のＰｔ−５０ａｔ％Ｃｏアトマイズ合金粉末７５７．８１ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第２の混合粉末を得た。

得られた第２の混合粉末を、焼結温度を１２１０℃とした以外は実施例１と同様の条件でホットプレスを行い、実施例１と同様の形状の小型焼結体および大型焼結体を作製した。作製した小型焼結体の密度をアルキメデス法により測定したところ、９．１６１（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．１７（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９９．９％であった。また、作製した大型焼結体の密度を、寸法および重量から計算したところ、９．１６１（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．１７（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９９．９％であった。

図８および図９に、作製した小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真を示す。図８は低倍率の写真で、図９は高倍率の写真である。

図８および図９において、白色の球状の部分がＰｔ−５０ａｔ％Ｃｏ合金相であり、黒色の部分がＳｉＯ₂相であり、それら以外の部分がマトリックスのＣｏ−２６．５６ａｔ％Ｃｒ合金相である。

作製した大型焼結体について、実施例１と同様にして、漏洩磁束についての評価を行った。下記の表５に示すように、平均漏洩磁束率は５０．７％であった。

（実施例２）
実施例２として作製したターゲット全体の組成は、９２（６５Ｃｏ−１７Ｃｒ−１８Ｐｔ）−８ＳｉＯ₂であり、実施例１と同じであるが、マトリックスである合金相にＰｔが１．０６ａｔ％含まれている点が実施例１とは異なっている。実施例２のターゲットを以下のようにして作製を行うとともに評価を行った。

合金組成のみを変更した以外は実施例１と同様にアトマイズおよび分級を行って、２種類のアトマイズ合金粉末（Ｃｏ−２１ａｔ％Ｃｒ−１．０６ａｔ％Ｐｔ合金粉末、Ｐｔ−１０ａｔ％Ｃｏ合金粉末）を得た。なお、Ｃｏ−２１ａｔ％Ｃｒ−１．０６ａｔ％Ｐｔアトマイズ合金粉末を得る際の加熱温度および噴射温度は１７００℃であり、Ｐｔ−１０ａｔ％Ｃｏ合金粉末を得る際の加熱温度および噴射温度は１８５０℃であった。

得られた分級後のＣｏ−２１ａｔ％Ｃｒ−１．０６ａｔ％Ｐｔ合金粉末８５０．００ｇにＳｉＯ₂粉末９３．１１ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第１の混合粉末を得た。

第１の混合粉末８７７．１０ｇに分級後のＰｔ−１０ａｔ％Ｃｏアトマイズ合金粉末５７２．９０ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第２の混合粉末を得た。

得られた第２の混合粉末を、焼結温度を１１７０℃とした以外は実施例１と同様の条件でホットプレスを行い、実施例１と同様の形状の小型焼結体および２つの大型焼結体を作製した。作製した小型焼結体の密度をアルキメデス法により測定したところ、８．９９４（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．１７（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９８．１％であった。また、作製した２つの大型焼結体の密度を、寸法および重量から計算したところ、９．０３０（ｇ／ｃｍ³）と９．０４５（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．１７（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９８．５％と９８．６％であった。

図１０および図１１に、作製した小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真を示す。図１０は低倍率の写真で、図１１は高倍率の写真である。

図１０および図１１において、白色の球状の部分がＰｔ−１０ａｔ％Ｃｏ合金相であり、黒色の部分がＳｉＯ₂相であり、それら以外の部分がマトリックスのＣｏ−２１ａｔ％Ｃｒ−１．０６ａｔ％Ｐｔ合金相である。

作製した２つの大型焼結体について、実施例１と同様にして、漏洩磁束についての評価を行った。下記の表６、表７に示すように、平均漏洩磁束率は６２．７％と６２．７％であり、両者をさらに平均した平均漏洩磁束率は６２．７％であった。

（実施例３）
実施例３として作製したターゲット全体の組成は、９２（６５Ｃｏ−１７Ｃｒ−１８Ｐｔ）−８ＳｉＯ₂であり、実施例２と同じであるが、マトリックスである合金相にＰｔが５．３ａｔ％含まれている点が実施例２とは異なっている（その結果、マトリックス合金相に含まれるＣｒ量も若干少なくなっており、２０ａｔ％となっている）。実施例３のターゲットを以下のようにして作製を行うとともに評価を行った。

合金組成のみを変更した以外は実施例１と同様にアトマイズおよび分級を行って、２種類のアトマイズ合金粉末（Ｃｏ−２０ａｔ％Ｃｒ−５．３ａｔ％Ｐｔ合金粉末、Ｐｔ−１０ａｔ％Ｃｏ合金粉末）を得た。なお、Ｃｏ−２０ａｔ％Ｃｒ−５．３ａｔ％Ｐｔアトマイズ合金粉末を得る際の加熱温度および噴射温度は１７００℃であり、Ｐｔ−１０ａｔ％Ｃｏ合金粉末を得る際の加熱温度および噴射温度は１８５０℃であった。

得られた分級後のＣｏ−２０ａｔ％Ｃｒ−５．３ａｔ％Ｐｔ合金粉末１０００．００ｇにＳｉＯ₂粉末９４．９１ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第１の混合粉末を得た。

第１の混合粉末９９８．８９ｇに分級後のＰｔ−１０ａｔ％Ｃｏアトマイズ合金粉末４５１．１１ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第２の混合粉末を得た。

得られた第２の混合粉末を、焼結温度を１１５０℃、圧力を２５０ｋｇ／ｃｍ²とした以外は実施例１と同様の条件でホットプレスを行い、実施例１と同様の形状の小型焼結体および２つの大型焼結体を作製した。作製した小型焼結体の密度をアルキメデス法により測定したところ、８．９０２（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．１７（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９７．１％であった。また、作製した２つの大型焼結体の密度を、寸法および重量から計算したところ、８．９４４（ｇ／ｃｍ³）と８．９６４（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．１７（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９７．５％と９７．８％であった。

図１２および図１３に、作製した小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真を示す。図１２は低倍率の写真で、図１３は高倍率の写真である。

図１２および図１３において、白色の球状の部分がＰｔ−１０ａｔ％Ｃｏ合金相であり、黒色の部分がＳｉＯ₂相であり、それら以外の部分がマトリックスのＣｏ−２０ａｔ％Ｃｒ−５．３ａｔ％Ｐｔ合金相である。

得られた２つの大型焼結体について、実施例１と同様にして、漏洩磁束についての評価を行った。下記の表８、表９に示すように、平均漏洩磁束率は６０．８％と６０．９％であり、両者をさらに平均した平均漏洩磁束率は６０．９％であった。

（実施例４）
実施例４として作製したターゲット全体の組成は、９２（６５Ｃｏ−１７Ｃｒ−１８Ｐｔ）−８ＳｉＯ₂であり、実施例２と同じであるが、分散相であるＰｔ−Ｃｏ合金相に含まれるＣｏ量が５ａｔ％であり、実施例２の１０ａｔ％よりも少なくなっている（その結果、マトリックス合金相に含まれるＣｏ量が若干増えるとともにＣｒ量が若干少なくなっており、マトリックス合金相においてＣｒ量は２０．７４ａｔ％となっている）。実施例４のターゲットを以下のようにして作製を行うとともに評価を行ったが、実施例４のターゲットとしては小型焼結体のみを作製した。

合金組成のみを変更した以外は実施例１と同様にアトマイズおよび分級を行って、２種類のアトマイズ合金粉末（Ｃｏ−２０．７４ａｔ％Ｃｒ−１．０６ａｔ％Ｐｔ合金粉末、Ｐｔ−５ａｔ％Ｃｏ合金粉末）を得た。なお、Ｃｏ−２０．７４ａｔ％Ｃｒ−１．０６ａｔ％Ｐｔアトマイズ合金粉末を得る際の加熱温度および噴射温度は１７００℃であり、Ｐｔ−５ａｔ％Ｃｏ合金粉末を得る際の加熱温度および噴射温度は１８５０℃であった。

得られた分級後のＣｏ−２０．７４ａｔ％Ｃｒ−１．０６ａｔ％Ｐｔ合金粉末８６０．００ｇにＳｉＯ₂粉末９３．０１ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第１の混合粉末を得た。

第１の混合粉末８９３．４２ｇに分級後のＰｔ−５ａｔ％Ｃｏアトマイズ合金粉末５６６．５８ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第２の混合粉末を得た。

得られた第２の混合粉末を、焼結温度を１１８０℃とした以外は実施例１と同様の条件でホットプレスを行い、実施例１と同様の形状の小型焼結体を作製した。作製した小型焼結体の密度をアルキメデス法により測定したところ、８．９３５（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．１７（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９７．４％であった。

図１４および図１５に、作製した小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真を示す。図１４は低倍率の写真で、図１５は高倍率の写真である。

図１４および図１５において、白色の球状の部分がＰｔ−５ａｔ％Ｃｏ合金相であり、黒色の部分がＳｉＯ₂相であり、それら以外の部分がマトリックスのＣｏ−２０．７４ａｔ％Ｃｒ−１．０６ａｔ％Ｐｔ合金相である。

（実施例５）
実施例５は、ターゲット全体の組成および各相の組成については実施例４と同じであるが、実施例４では小型焼結体のみを作製したのに対し、実施例５では大型焼結体のみを作製した。また、実施例５ではホットプレス圧力が２５０ｋｇｆ／ｃｍ²であり、実施例４の２００ｋｇｆ／ｃｍ²よりも大きくなっている。実施例５のターゲットを以下のようにして作製を行うとともに評価を行った。

実施例４と同様にしてアトマイズ、分級および混合分散を行って、２種類のアトマイズ合金粉末（Ｃｏ−２０．７４ａｔ％Ｃｒ−１．０６ａｔ％Ｐｔ合金粉末、Ｐｔ−５ａｔ％Ｃｏ合金粉末）、第１の混合粉末および第２の混合粉末を得た。なお、Ｃｏ−２０．７４ａｔ％Ｃｒ−１．０６ａｔ％Ｐｔアトマイズ合金粉末を得る際の加熱温度および噴射温度は１７００℃であり、Ｐｔ−５ａｔ％Ｃｏ合金粉末を得る際の加熱温度および噴射温度は１８５０℃であった。

得られた第２の混合粉末を、圧力を２５０ｋｇ／ｃｍ²とした以外は実施例４と同様の条件でホットプレスを行い、実施例１と同様の形状の２つの大型焼結体を作製した。作製した２つの大型焼結体の密度を、寸法および重量から計算したところ、９．０８６（ｇ／ｃｍ³）と９．０７５（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．１７（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９９．１％と９９．０％であった。

作製した２つの大型焼結体について、実施例１と同様にして、漏洩磁束についての評価を行った。下記の表１０、表１１に示すように、平均漏洩磁束率は５６．１％と５５．９％であり、両者をさらに平均した平均漏洩磁束率は５６．０％であった。

（比較例３）
比較例３として作製したターゲット全体の組成は、９２（６５Ｃｏ−１７Ｃｒ−１８Ｐｔ）−８ＳｉＯ₂であり、実施例１と同じであるが、マトリックス合金相にＰｔが含有されている点、分散相であるＰｔ−Ｃｏ合金相にＣｏが５４．８０ａｔ％と多量に含まれている点が実施例１とは異なっている。比較例３のターゲットを以下のようにして作製を行うとともに評価を行った。

合金組成のみを変更した以外は実施例２と同様にアトマイズおよび分級を行って、２種類のアトマイズ合金粉末（Ｃｏ−２２ａｔ％Ｃｒ−１０ａｔ％Ｐｔ合金粉末、Ｐｔ−５４．８０ａｔ％Ｃｏ合金粉末）を得た。なお、Ｃｏ−２２ａｔ％Ｃｒ−１０ａｔ％Ｐｔアトマイズ合金粉末を得る際の加熱温度および噴射温度は１７００℃であり、Ｐｔ−５４．８０ａｔ％Ｃｏ合金粉末を得る際の加熱温度および噴射温度は１６５０℃であった。

得られた分級後のＣｏ−２２ａｔ％Ｃｒ−１０ａｔ％Ｐｔ合金粉末９７６．９７ｇにＳｉＯ₂粉末９３．００ｇを添加した以外は実施例１と同様にして混合分散を行い、第１の混合粉末を得た。

第１の混合粉末９９６．１９ｇに分級後のＰｔ−５４．８０ａｔ％Ｃｏアトマイズ合金粉末４５３．８１ｇを添加した以外は実施例２と同様にして混合分散を行い、第２の混合粉末を得た。

得られた第２の混合粉末を、焼結温度を１２１０℃とした以外は実施例１と同様の条件でホットプレスを行い、実施例２と同様の形状の小型焼結体および大型焼結体を作製した。作製した小型焼結体の密度をアルキメデス法により測定したところ、８．９２２（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．１７（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９７．３％であった。また、作製した大型焼結体の密度を、寸法および重量から計算したところ、９．０９７（ｇ／ｃｍ³）であった。理論密度は９．１７（ｇ／ｃｍ³）であるので、相対密度は９９．２％であった。

図１６および図１７に、作製した小型焼結体の厚さ方向断面の金属顕微鏡写真を示す。図１６は低倍率の写真で、図１７は高倍率の写真である。

図１６および図１７において、白色の球状の部分がＰｔ−５４．８０ａｔ％Ｃｏ合金相であり、黒色の部分がＳｉＯ₂相であり、それら以外の部分がマトリックスのＣｏ−２２ａｔ％Ｃｒ−１０ａｔ％Ｐｔ合金相である。

作製した大型焼結体について、実施例１と同様にして、漏洩磁束についての評価を行った。下記の表１２に示すように、平均漏洩磁束率は４９．６％であった。

（考察）
平均漏洩磁束率を測定した実施例１〜３、５、比較例１〜３についての測定結果を下記の表１３にまとめて示す。

本発明の範囲内の実施例１〜３、５は、分散合金相であるＰｔ−Ｃｏ合金相において、Ｃｏを原子数比で１３ａｔ％以下含んでいる。このため、ターゲット全体におけるＣｏ量を一定に保ちつつマトリックス合金相に含まれるＣｏ量を減少させることができ、ターゲットの平均漏洩磁束率を低減させることができる。

実施例１と比較例１とを比較すると、ターゲット全体の組成は同じ（ターゲット全体におけるＣｏ量は同じ）であり、金属（Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ）の合計量に対するＣｏの原子数比は６５ａｔ％で同じである。しかしながら、実施例１は分散合金相の組成がＰｔ−１０ａｔ％Ｃｏであるのに対し、比較例１は分散合金相の組成がＰｔ１００ａｔ％（Ｐｔ単体）であり、実施例１の分散合金相にはＣｏが含まれているのに対し、比較例１の分散合金相にはＣｏが含まれていない。このため、マトリックス合金相におけるＣｏとＣｒの比率が、実施例１ではＣｏ：Ｃｒ＝７８．７５：２１．２５であるのに対し、比較例１ではＣｏ：Ｃｒ＝７９．２７：２０．７３となっており、実施例１の方が比較例１よりもマトリックス合金相におけるＣｏの比率が小さくなっている。このため、実施例１の方が比較例１よりもマトリックス合金相の磁性が小さくなっている。

一方、分散合金相の磁性は、実施例１のＰｔ−１０ａｔ％Ｃｏ合金であっても、比較例１のＰｔ単体であってもどちらもほとんどゼロであり、差は極めて小さく、ターゲット全体としての磁性はマトリックス合金相の磁性で決まると考えられる。

このため、マトリックス合金相におけるＣｏの比率がより小さい実施例１の方が、ターゲット全体としての磁性も比較例１より小さくなり、この結果、平均漏洩磁束率も、実施例１の方が比較例１よりも大きくなったと考えられる。

次に、実施例２、３、５の実験結果について説明する。実施例２、３、５は、ターゲット全体の組成が同じであり、また、いずれにおいても分散合金相（Ｐｔ−Ｃｏ合金相）がＣｏを１３ａｔ％以下含んでいる。しかしながら、マトリックス合金相の組成は異なっており、マトリックス合金相におけるＣｏとＣｒの比率は、実施例２ではＣｏ：Ｃｒ＝７８．７８：２１．２２であり、実施例３ではＣｏ：Ｃｒ＝７８．８８：２１．１２であり、実施例５ではＣｏ：Ｃｒ＝７９．０４：２０．９６であり、Ｃｒに対するＣｏの比率は、実施例２が一番小さく、実施例３が次に小さく、実施例５が次に小さくなっている。このため、マトリックス合金相の磁性は、実施例２が一番小さく、実施例３が次に小さく、実施例５が次に小さくなっている。

一方、実施例２、３、５の分散合金相（Ｐｔ−Ｃｏ合金相）におけるＣｏの含有量はそれぞれ１０ａｔ％、１０ａｔ％、５ａｔ％であり、図３に示すように、実施例２、３、５の分散合金相（Ｐｔ−Ｃｏ合金相）の磁性はいずれもほとんどゼロであり、差は極めて小さく、ターゲット全体としての磁性はマトリックス合金相の磁性で決まると考えられる。

このため、ターゲット全体としての磁性は、実施例２が一番小さく、実施例３が次に小さく、実施例５が次に小さくなり、この結果、平均漏洩磁束率は、実施例２が一番大きく、実施例３が次に大きく、実施例５が次に大きくなったと考えられる。

次に、比較例２、３の実験結果について説明する。比較例２、３は、ターゲット全体の組成は実施例１と同じであるが、マトリックス合金相におけるＣｒの含有割合が２６．５６ａｔ％、２２ａｔ％と実施例１〜３、５と比べて大きく、また、分散合金相であるＰｔ−Ｃｏ合金相におけるＣｏの含有割合が５０ａｔ％、５４．８０ａｔ％と実施例１〜３、５と比べて極めて大きくなっている。

図３に示すように、Ｐｔ−Ｃｏ合金相におけるＣｏの含有割合が５０ａｔ％、５４．８０ａｔ％と大きくなると、Ｃｏ単体よりも磁性が強くなる。このため、比較例２、３は、マトリックス合金相におけるＣｒの含有割合が２６．５６ａｔ％、２２ａｔ％と実施例１〜３、５と比べて大きく、マトリックス合金相の磁性が実施例１〜３、５よりも小さくなっていても、ターゲット全体としての磁性は実施例１〜３、５よりも大きくなり、その結果、平均漏洩磁束率は、実施例１〜３、５よりも小さくなったと考えられる。

なお、実施例５と比較例１を比べると、マトリックス合金相におけるＣｏの含有割合は実施例５の方が比較例１よりも少ないが、平均漏洩磁束率は実施例５の方が比較例１よりも小さくなっている。これは、図３に示すようにＰｔはＣｏの磁性を増加させる働きをするところ、実施例５ではマトリックス合金相にＰｔが１．０６ａｔ％含まれているため、マトリックス合金相におけるＣｏの含有割合は実施例５の方が比較例１よりも少ないが、マトリックス合金相の磁性は実施例５の方が比較例１よりも強くなり、平均漏洩磁束率は実施例５の方が比較例１よりも小さくなったと考えられる。したがって、比較例１のマトリックス合金相にＰｔが実施例５と同程度（１ａｔ％程度）含まれていれば、平均漏洩磁束率は実施例５の方が比較例１よりも大きくなったと考えられる。

１０…ターゲット
１２…マトリックス合金相（Ｃｏ−Ｃｒ合金相）
１４…酸化物相（ＳｉＯ₂相）
１６…分散合金相（Ｐｔ−Ｃｏ合金相）

Claims (16)

1. Ｃｏを有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、
   Ｃｏを含む磁性相と、Ｃｏを含む非磁性相と、酸化物相と、を有し、該磁性相と該非磁性相と該酸化物相とが互いに分散しており、
   該磁性相はＣｏおよびＣｒを主成分として含み、該磁性相におけるＣｏの含有割合は、７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下であることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
2. 請求項１において、
   前記磁性相は、Ｐｔをさらに含むことを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
3. 請求項１または２において、
   前記非磁性相は、Ｐｔを主成分として含むＰｔ−Ｃｏ合金相であることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
4. 請求項３において、
   前記Ｐｔ−Ｃｏ合金相におけるＣｏの含有割合は、０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下であることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
5. Ｃｏを有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、
   Ｃｏを含む磁性相と、Ｃｏを含む非磁性相と、を有し、該磁性相と該非磁性相とが互いに分散しており、
   該非磁性相はＰｔを主成分として含むＰｔ−Ｃｏ合金相であり、該Ｐｔ−Ｃｏ合金相におけるＣｏの含有割合は、０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下であることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
6. 請求項５において、
   前記ターゲットは酸化物相をさらに有しており、該酸化物相と前記磁性相と前記非磁性相とが互いに分散していることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
7. 請求項６において、
   前記磁性相は、ＣｏおよびＣｒを主成分として含むことを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
8. 請求項７において、
   前記磁性相は、Ｐｔをさらに含むことを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
9. 請求項１〜４、６〜８のいずれかにおいて、
   前記酸化物相は、ＳｉＯ ₂ 、ＴｉＯ ₂ 、Ｔｉ ₂ Ｏ ₃ 、Ｔａ ₂ Ｏ ₅ 、Ｃｒ ₂ Ｏ ₃ 、ＣｏＯ、Ｃｏ ₃ Ｏ ₄ 、Ｂ ₂ Ｏ ₅ 、Ｆｅ ₂ Ｏ ₃ 、ＣｕＯ、Ｙ ₂ Ｏ ₃ 、ＭｇＯ、Ａｌ ₂ Ｏ ₃ 、ＺｒＯ ₂ 、Ｎｂ ₂ Ｏ ₅ 、ＭｏＯ ₃ 、ＣｅＯ ₂ 、Ｓｍ ₂ Ｏ ₃ 、Ｇｄ ₂ Ｏ ₃ 、ＷＯ ₂ 、ＷＯ ₃ 、ＨｆＯ ₂ 、ＮｉＯ ₂ のうちの少なくとも１種を含むことを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
10. 請求項１〜９のいずれかにおいて、
    前記ターゲットは、磁気記録層の形成に用いられることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
11. ＣｏおよびＣｒを主成分として含み、Ｃｏの含有割合が７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下である磁性金属粉末と、微細な１次粒子が凝集して２次粒子を形成している酸化物粉末とを、該酸化物粉末の２次粒子の粒径が所定の粒径以下になるまで混合分散して第１の混合粉末を得る工程と、
    前記第１の混合粉末と、Ｃｏを含む非磁性金属粉末とを、該非磁性金属粉末が均一となるように混合分散して第２の混合粉末を得る工程と、
    を有することを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。
12. 請求項１１において、
    前記非磁性金属粉末は、Ｐｔを主成分として含むＰｔ−Ｃｏ合金からなりＣｏの含有割合が０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下であることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。
13. Ｃｏを含む磁性金属粉末と、微細な１次粒子が凝集して２次粒子を形成している酸化物粉末とを、該酸化物粉末の２次粒子の粒径が所定の粒径以下になるまで混合分散して第１の混合粉末を得る工程と、
    前記第１の混合粉末と、Ｐｔを主成分として含むＰｔ−Ｃｏ合金からなりＣｏの含有割合が０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下である非磁性金属粉末とを、該非磁性金属粉末が均一となるように混合分散して第２の混合粉末を得る工程と、
    を有することを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。
14. Ｃｏを含む非磁性金属粉末と、微細な１次粒子が凝集して２次粒子を形成している酸化物粉末とを、該酸化物粉末の２次粒子の粒径が所定の粒径以下になるまで混合分散して第１の混合粉末を得る工程と、
    前記第１の混合粉末と、ＣｏおよびＣｒを主成分として含み、Ｃｏの含有割合が７６ａｔ％以上８０ａｔ％以下である磁性金属粉末とを、該磁性金属粉末が均一となるように混合分散して第２の混合粉末を得る工程と、
    を有することを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。
15. 請求項１４において、
    前記非磁性金属粉末は、Ｐｔを主成分として含むＰｔ−Ｃｏ合金からなりＣｏの含有割合が０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下であることを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。
16. Ｐｔを主成分として含むＰｔ−Ｃｏ合金からなりＣｏの含有割合が０ａｔ％より大きく１３ａｔ％以下である非磁性金属粉末と、微細な１次粒子が凝集して２次粒子を形成している酸化物粉末とを、該酸化物粉末の２次粒子の粒径が所定の粒径以下になるまで混合分散して第１の混合粉末を得る工程と、
    前記第１の混合粉末と、Ｃｏを含む磁性金属粉末とを、該磁性金属粉末が均一となるように混合分散して第２の混合粉末を得る工程と、
    を有することを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲットの製造方法。