JP6475526B2 - 強磁性材スパッタリングターゲット - Google Patents
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Description
1)Ptが5mol%以上45mol%以下、残余がCoである組成の金属からなるスパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地(A)と前記(A)の中にPtからなる相(B)とを有しており、前記(B)の最短径が10〜150μmであることを特徴とする強磁性材スパッタリングターゲット。
2)Ptからなる相(B)が、スパッタリングターゲットに含有されるPtの50mol%以上であることを特徴とする上記1)記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
3)Ptからなる相(B)が、スパッタリングターゲットに含有されるPtの95mol%以上を含むことを特徴とする上記1)記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
4)炭素、酸化物、窒化物、炭化物、炭窒化物の群から選択した1以上の無機物材を金属素地(A)中に含有することを特徴とする上記1)〜3)のいずれか一に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
5)前記無機物材がCr、Ta、Si、Ti、Zr、Al、Nb、B、Coの群から選択した1種以上の酸化物であり、ターゲット全体に対する当該無機物材の体積比率が22vol%〜40vol%であることを特徴とする上記1)〜4)のいずれか一に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
6)添加元素としてB、Ti、V、Mn、Zr、Nb、Ru、Mo、Ta、W、Si、Alから選択した1元素以上を0.5mol以上10mol%以下含有することを特徴とする上記1)〜5)のいずれか一に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
相(B)の最短径が10μm未満の場合、無機物粒子と混在している金属との粒サイズ差が小さくなるので、ターゲット素材を焼結させる際に相(B)と金属素地(A)との拡散が進む。そして、この拡散が進むことにより、相(B)が金属素地(A)に溶け込み、相(B)の識別が困難となる。一方、150μmを超える場合には、スパッタリングが進むにつれてターゲット表面の平滑性が失われ、パーティクルの問題が発生しやすくなることがある。
例えば、無機物材料としてTa(酸化物)を用いた場合、Ta(酸化物)のターゲット全体に対する重量比率をWTa(wt%)、その密度をDTa(g/cm3)とし、ターゲット全体の密度をDAllとしたとき、ターゲット全体に対するTa(の酸化物)の体積比率は次式から算出することができる。
ターゲット全体に対するTa(酸化物)の体積比率(%)=Ta(酸化物)の体積(WTa/DTa)÷ターゲット全体の体積(1/DAll)×100
実施例1では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCr2O3粉末、最短径が10〜150μmの範囲のPt粗粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が73Co−18Pt−2TiO2−3SiO2−4Cr2O3(mol%)となるように、Co粉末48.82wt%、TiO2粉末1.82wt%、SiO2粉末2.05wt%、Cr2O3粉末6.92wt%、Pt粗粉40.40wt%の重量比率で秤量した。
実施例2では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径3μmのPt粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCr2O3粉末、最短径が10〜150μmの範囲のPt粗粉を用意した。
これらの粉末をターゲットの組成が73Co−18Pt−2TiO2−3SiO2−4Cr2O3(mol%)となるように、Co粉末48.82wt%、Pt粉末10.10wt%、TiO2粉末1.82wt%、SiO2粉末2.05wt%、Cr2O3粉末6.92wt%、Pt粗粉30.30wt%の重量比率で秤量した。
実施例3では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径3μmのPt粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCr2O3粉末、最短径が10〜150μmの範囲のPt粗粉を用意した。
これらの粉末をターゲットの組成が73Co−18Pt−2TiO2−3SiO2−4Cr2O3(mol%)となるように、Co粉末48.82wt%、Pt粉末20.20wt%、TiO2粉末1.82wt%、SiO2粉末2.05wt%、Cr2O3粉末6.92wt%、Pt粗粉20.20wt%の重量比率で秤量した。
比較例1では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径3μmのPt粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCr2O3粉末を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が73Co−18Pt−2TiO2−3SiO2−4Cr2O3(mol%)となるように、Co粉末48.82wt%、Pt粉末40.40wt%、TiO2粉末1.82wt%、SiO2粉末2.05wt%、Cr2O3粉末6.92wt%の重量比率で秤量した。
比較例2では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCr2O3粉末、最短径が5〜10μmの範囲のPt粗粉を用意した。
これらの粉末をターゲットの組成が73Co−18Pt−2TiO2−3SiO2−4Cr2O3(mol%)となるように、Co粉末48.82wt%、TiO2粉末1.82wt%、SiO2粉末2.05wt%、Cr2O3粉末6.92wt%、Pt粗粉40.40wt%の重量比率で秤量した。
Claims (6)
- Ptが5mol%以上45mol%以下、残余がCoである組成の金属からなるスパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地(A)と前記(A)の中にPtからなる相(B)とを有しており、前記(B)の最短径が10〜150μmであることを特徴とする強磁性材スパッタリングターゲット。
- Ptが5mol%以上45mol%以下、残余がCoである組成の金属と、炭素、酸化物、窒化物、炭化物、炭窒化物の群から選択した1以上の無機物材とからなるスパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地(A)と、前記(A)の中にPtからなる相(B)と前記無機物材とを有しており、前記(B)の最短径が10〜150μmであることを特徴とする強磁性材スパッタリングターゲット。
- Ptが5mol%以上45mol%以下、添加元素としてB、Ti、V、Mn、Zr、Nb、Ru、Mo、Ta、W、Si、Alから選択した1元素以上を0.5mol%以上10mol%以下、残余がCoである組成の金属と、炭素、酸化物、窒化物、炭化物、炭窒化物の群から選択した1以上の無機物材とからなるスパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地(A)と、前記(A)の中にPtからなる相(B)と前記無機物材とを有しており、前記(B)の最短径が10〜150μmであることを特徴とする強磁性材スパッタリングターゲット。
- 前記無機物材がCr、Ta、Si、Ti、Zr、Al、Nb、B、Coの群から選択した1種以上の酸化物であり、ターゲット全体に対する当該無機物材の体積比率が22vol%〜40vol%であることを特徴とする請求項2又は3に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
- Ptからなる相(B)が、スパッタリングターゲットに含有されるPtの50mol%以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
- Ptからなる相(B)が、スパッタリングターゲットに含有されるPtの95mol%以上を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。
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