JP4395989B2 - プリント配線板 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、プリント配線基板、特に4層配線基板において、LSIの端子がパッケージの裏面に格子状に配列されたパッケージとLSIの端子が四角形パッケージの4辺に1列に並んだパッケージの端子間を接続する手法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のプリント配線基板は、1以上の銅などの電気導体配線層と電気絶縁物から構成されている。
【0003】
しかし、昨今の高密度プリント配線基板においては、部品実装面積をプリント配線基板の面積に近づける為、N(NはN≧1なる整数)層の電気導体配線層と電気導体配線層の間にN−1(N−1=0の場合は、N−1=1とする)層の電気絶縁物を挟み込み、N層プリント配線基板を構成し、各配線層で担当する配線の種類を決定する事で、1層配線基板の場合と比べて、配線の為の面積をN−2倍〜N倍に増加させる事ができる。
【0004】
例えば、前記プリント配線基板でN=4の場合、すなわち、4層プリント配線基板の場合、第1層、第4層は、デジタルおよびアナログ電気信号を通す為の配線を主に結線し、第2層は、回路へ電源を供給する配線を通す層すなわち電源層、第3層は、回路の基準電位を決定する基準電位配線を通す層すなわちGND層として利用する。
【0005】
これによって、電気信号を配線する為の層は2層分を割り当てることができ、1層配線基板の2倍となる。また、前記の電源層、GND層にも電気信号を通すことで、第1層から第4層までの全ての層に電気信号を結線すると、1層配線基板と比較して最大4倍の面積を電気信号の配線の為に使用する事ができる。
【0006】
また、異なる層間を接続する為に、小径の穴をプリント配線基板に設け、この穴の内壁面に銅メッキを施す事で垂直方向の電気伝導性を確保するVIAホールと呼ばれる構造を設けている。
【0007】
このVIAホールについても、第1層から第N層まで全ての層を貫通し所望の層と電気的に導通させる貫通VIAホールと、隣り合う2層間のみに貫通穴を開け、内壁面に銅メッキもしくは、導電性ペーストを充填する部分VIAホールとが存在し、一般的に、部分VIAホールの方が、穴が貫通しない為、部品配置の自由度が増す。
【0008】
また、貫通VIAホールは第1層から第N層まで貫通し所望の層と電気的に導通させる必要がある為、第1層から第N層の位置を正確に合わせて穴あけ加工を要する。
【0009】
これに対して、部分VIAホールは、まず導通させたい隣り合う2層分のプリント配線基板の半製品を作成し穴あけ加工を施した後にこれら穴あけ加工済みの複数の半製品を張り合わせて作成される為、VIAホールの加工精度自体は2層分の位置を合わせるのみで済む。
【0010】
この結果、部分VIAホールの周辺に存在するランドの直径は、貫通VIAホールのランド直径よりも小さい物が作成可能であり、部品を実装するランドが密集している個所においても、VIAホールを部分VIAホールとする事でVIAホールを形成する事が可能となる。
【0011】
一方、これらプリント配線基板に実装するLSIの形状についても小型化が行われている。
【0012】
従来QFP(クワッド・フラット・パッケージ)と呼ばれる、内部半導体チップを保護する四角形のプラスチックパッケージの4辺に内部半導体チップに接続された複数の導体のリード線を一列に配置したパッケージから、昨今では、半導体チップの底面から直接または、セラミックなどの基材を挟んで間接的に、半田合金等で構成されるボールをチップまたは基材底面に格子状に配置し、これらボールを介してチップ外部の回路へ接続する様に構成したチップサイズパッケージが実用化されており、パッケージサイズの小型化、すなわち、実装占有面積の縮小化と、LSIの多機能化による端子本数の増加に対応している。
【0013】
前述の様な従来のプリント配線基板を用い、チップサイズパッケージとQFPとが混在したプリント配線基板において、チップサイズパッケージLSIから配線を引き出しQFPのLSIへ配線する様子を図8に示す。
【0014】
図8において、1はチップサイズパッケージLSIを、11は前記チップサイズパッケージLSI1のGND端子用半田ボール、12は前記チップサイズパッケージLSI1の電源端子用半田ボール、13、14および15は前記チップサイズパッケージLSI1の信号端子用半田ボールを、16は前記チップサイズパッケージLSI1の電源とGND間に挿入するバイパスコンデンサを示す。
【0015】
また、2はQFP−LSIを、21は前記QFP−LSI2の端子を、22は前記QFP−LSI2の電源とGND間に挿入するバイパスコンデンサを、23は前記QFP−LSI2の前記チップサイズパッケージLSI1との接続には直接関与しない端子を、24はQFP−LSI2の裏面に配置されるQFP−LSIを示す。
【0016】
3は6層プリント配線基板を示し、311から315は前記プリント配線基板3の第1層のパターンを、32は前記プリント配線基板3の第2層のパターンを、33は前記プリント配線基板3の第3層のパターンを、34は前記プリント配線基板3の第4層のパターンを、361から365は前記プリント配線基板3の第6層のパターンを示す。
【0017】
91、92、95、96は前記プリント配線基板3に設けられた貫通VIAホールを、93、94は前記プリント配線基板3に設けられた前記第1層と第2層間を接続する部分VIAホールを示す。
【0018】
301は前記プリント配線基板3に設けられた前記第1層パターン311から315と前記第2層パターン32とを絶縁する電気絶縁物であり、以下302、303、304、305はそれぞれ、前記第2層パターン32と前記第3層パターン33間、前記第3層パターン33と前記第4層パターン34間、前記第4層パターン34と前記第5層パターン間、前記第5層パターンと前記第6層パターン361から365間を絶縁する電気絶縁物である。
【0019】
そして、前記第3層パターン33はチップサイズパッケージLSI1およびQFP−LSI2へ電源を供給する電源層であり、前記第4層パターン34はチップサイズパッケージLSI1およびQFP−LSI2および24の基準電位を設定するGND層である。
【0020】
前記バイパスコンデンサ16、22、および、前記QFP−LSI24は第6層に配置され、前記チップサイズパッケージLSI1およびQFP−LSI2は第1層に配置される物とする。
【0021】
また、前記貫通VIAホール91は、前記第1層パターン311を介して前記チップサイズパッケージLSI1のGND端子である前記半田ボール11と、GND層である第4層パターン34と、第6層パターン361を介して前記バイパスコンデンサ15へ接続している。
【0022】
前記貫通VIAホール92は、前記第1層パターン312を介して前記チップサイズパッケージLSI1の電源端子である前記半田ボール12と、電源層である第3層パターン33と、第6層パターン362を介して前記バイパスコンデンサ15の第6層パターン361と接続されている端子とは反対側の端子へ接続している。
【0023】
一方、前記貫通VIAホール95についても、前記貫通VIAホール91と同様に前記QFP−LSI2のGND端子とGND層である第4層パターン34と前記バイパスコンデンサ22とを第6層パターン363を介して接続しており、前記貫通VIAホール96は、前記貫通VIAホール92と同様に前記QFP−LSI2の電源端子と電源層である第3層パターン33と前記バイパスコンデンサ22とを第6層パターン364を介して接続している。
【0024】
また、前記チップサイズパッケージLSI1の信号端子13は、前記第1層パターン313と前記部分VIAホール93を介して前記第2層パターン32へ接続され、第2層パターン32の延長上に存在する部分VIAホール94、前記第1層パターン314を介してQFP−LSI2の所望の端子へ接続される。
【0025】
前記チップサイズパッケージLSI1の信号端子14、15は、前記第1層パターン314を介して直接前記QFP−LSI2の所望の端子へ接続される。
【0026】
また、前記QFP−LSI24は、第6層パターン365を用いて、前記QFP−LSI2は前記端子23を介し第1層パターン315を用いて外部の回路と接続されている。
【0027】
【発明が解決しようとする課題】
図8に示す様な従来の6層プリント配線基板を用いたチップサイズパッケージLSIとQFP−LSIとの接続を安価な4層プリント配線基板を用いて実現する事を考える。
【0028】
図9に4層プリント配線基板を用いた構成を示す。
【0029】
なお、図9において図8と同一の符号を付与している部分については、特に説明の無い限り前述の図8の説明と同じである為詳細は省略する。
【0030】
4は4層プリント配線基板を示し、411から415、42、43、441から444はそれぞれ前記プリント配線基板4の導電性を有する第1層から第4層のパターンを示す。
【0031】
401は前記プリント配線基板4に設けられた前記第1層パターン411から415と前記第2層パターン42とを絶縁する電気絶縁物であり、以下402、403はそれぞれ、前記第2層パターン42と前記第3層パターン43間、前記第3層パターン43と前記第4層パターン441から444間を絶縁する電気絶縁物である。
【0032】
81、82、85、86は前記プリント配線基板4に設けられた貫通VIAホールを、83、84は前記プリント配線基板4に設けられた前記第1層と第2層間を接続する部分VIAホールを示す。
【0033】
そして、前記第3層パターン43はチップサイズパッケージLSI1およびQFP−LSI2へ電源を供給する電源層であり、前記第4層パターン44はチップサイズパッケージLSI1およびQFP−LSI2と24の基準電位を設定するGND層である。
【0034】
442、443、444は前記第4層パターン441と同一の層に存在するGND電位ではない小パターンであり、それぞれ前記バイパスコンデンサ15、22および前記QFP−LSI24への配線を行う為の小パターンである。
【0035】
前記バイパスコンデンサ15、22、および、前記QFP−LSI24は第4層に配置され、前記チップサイズパッケージLSI1およびQFP−LSI2は第1層に配置される物とする。
【0036】
前記貫通VIAホール81は、前記第1層パターン411を介して前記チップサイズパッケージLSI1のGND端子である前記半田ボール11と、GND電位である第4層パターン441を介して前記バイパスコンデンサ15へ接続している。
【0037】
前記貫通VIAホール82は、前記第1層パターン412を介して前記チップサイズパッケージLSI1の電源端子である前記半田ボール12と、電源層である第3層パターン43と、第4層パターン442を介して前記バイパスコンデンサ15の前記第4層パターン441に接続している端子とは反対側の端子へ接続している。
【0038】
一方、前記貫通VIAホール85についても、前記貫通VIAホール81と同様に前記QFP−LSI2のGND端子とGND電位である第4層パターン441と前記バイパスコンデンサ22とを接続しており、前記貫通VIAホール86は、前記貫通VIAホール82と同様に前記QFP−LSI2の電源端子と電源層である第3層パターン43と前記第4層に存在する小パターン443を介して前記バイパスコンデンサ22の前記第4層パターン441に接続されている端子とは反対側の端子と接続している。
【0039】
また、前記チップサイズパッケージLSI1の信号端子13は、前記第1層パターン413と前記部分VIAホール83を介して前記第2層パターン42へ接続され、第2層パターン42の延長上に存在する部分VIAホール84、前記第1層パターン414を介してQFP−LSI2の所望の端子へ接続される。
【0040】
前記チップサイズパッケージLSI1の信号端子14、15は、前記第1層パターン414を介して直接QFP−LSI2の所望の端子へ接続される。
【0041】
また、前記QFP−LSI2は前記端子23を介し第1層パターン415を用いて、前記QFP−LSI24は前記第4層パターン444を用いて外部の回路と接続している。
【0042】
上記の様に構成した場合、図9から明らかなように、第4層のGND電位を定めるパターン441がGND電位以外の小パターン442、443、444によって分断され、特に前記第4層パターン444による分断が大きい事が分かる。
【0043】
この前記第4層パターン444によって、前記第4層パターン441であるGNDのインピーダンスが上昇しノイズが発生しやすい環境になる。
【0044】
さらに、第4層に実装される前記QFP−LSI24と前記第4層GNDパターン441との接続を確保しようとすると、第4層に実装されるQFP−LSI24からの信号パターン444の引き回しには大きな制約が付き、第2層での配線を目的とした貫通VIAホール数の増大、これに伴う第3層に存在する電源層の貫通VIAによる分断が発生し、ますますノイズ放出の増大とノイズ耐性の悪化が発生する。
【0045】
なお、図9では第3層を電源層に、第4層を主にGND層に割り当てたが、これらの層の関係を逆にして、第3層をGND層に、第4層を電源層に割り当てても、前記QFP−LSI24は相変わらず電源パターンで支配されている第4層に存在する為、部品同士の配線の困難さ、しいては第4層へ実装できる部品の個数の制限は同じである。
【0046】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を鑑み、本発明のチップサイズパッケージLSIとQFP−LSIが同一層に同居した4層プリント配線基板は、チップサイズパッケージLSIとQFP−LSI間の配線を行う領域においては、第1層、第2層にチップサイズパッケージLSIとQFP−LSI間の配線を行うパターンを配置し、第3層にGNDパターンを、第4層に電源パターンを配置し、それ以外の領域においては、第1層と第4層に信号を配線するパターンを、第2層に電源パターンを、第3層にGNDパターンを設ける構成とし、チップサイズパッケージLSIとQFP−LSI間の配線を行う領域では、第1層パターンと第2層パターンとを接続するVIAホールに部分VIAホールを用いた構成とした物である。
【0047】
これにより、GNDインピーダンスの増加を防ぎ、かつ、部品を第4層に配置したときの制限を緩和する手法を提供できる。
【0048】
【発明の実施の形態】
本発明の第1の発明は、4層プリント配線基板において、LSIの端子がパッケージの裏面に格子状に配列されたパッケージである第1のLSIとLSIの端子が四角形パッケージの4辺に1列に並んだパッケージである第2のLSIが第1層に配置されている場合において、前記第1のLSIと前記第2のLSI間の配線を行う領域については、第1層、第2層を信号配線層に、第3層をGND層に、第4層を電源層とする層構成領域と、前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域については、第1層、第4層を信号配線層に、第3層をGND層に、第2層を電源層である様に層構成した領域とに分割し、前記第1のLSIと前記第2のLSI間の配線を行う領域の第4層の電源層と、前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域の第2層の電源層とを接続する貫通VIAホールを前記第2のLSIの占める領域内に配置し、前記第1のLSIと前記第2のLSI間の配線を行う領域と、前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域のGND層を同一層に配置する事でGND層に分断がない事を特徴とする4層プリント配線基板である。
この様に構成する事で、前記チップサイズパッケージLSIのボールピッチが狭く、第1層のみを用いて内周のボールからパターンを引き出す事が出来ない場合において、内周ボールを部分VIAホールを用いて第2層へ接続し、第2層を用いて配線する場合においても、前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域の第4層に部品を配置、配線する事を可能とする物である。
【0049】
また第2の発明は、前記第1のLSIと前記第2のLSI間の配線を行う領域の第4層の電源層と、前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域の第2層の電源層とを接続する前記貫通VIAホールをプリント配線基板端に配置した4層プリント配線基板であり、前記第2のLSIの占める領域にも配線が通る場合においても、前記2電源層を接続する貫通VIAホールを基板端に配置する事で前記貫通VIAホールの配置個数の制約を少なくでき、電源インピーダンスを下げる事ができる。
【0050】
また第3の発明は、前記第1のLSIと前記第2のLSI間の配線を行う領域の第4層の電源層と、前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域の第2層の電源層とを電気的に分離する部品を第4層に有し、前記電源分離部品の前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域の第2層の電源層への接続に用いる貫通VIAホールを前記第1のLSIと前記第2のLSI間の配線を行う領域の第4層の電源層と、前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域の第2層の電源層とを接続する前記貫通VIAホールと兼ねる構成にした4層プリント配線基板である。
【0051】
この様に構成する事で、例えば、前記第1のLSIと前記第2のLSI間の配線を行う領域に用いる電源がデジタル処理用電源であり、前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域の電源がアナログ処理用電源である場合、従来の4層プリント配線基板では、これら両者を分離するインダクタ、レギュレータ等の入出力端には、内層に存在する電源層への貫通VIAホールが最低でも入力、出力共に1つ必要であった。
【0052】
本発明の第3の発明を用いると、インダクタ、レギュレータ等の部品が第4層に位置し、かつ、この部品の1つの端子は第4層の電源パターンに接続している為、貫通VIAホールはインダクタンス成分を持つ部品の前もしくは後の1つのみで済み、同個数の貫通VIAホールを用いる場合、貫通VIAホールの抵抗成分による電圧低下を半分にする事が出来る。
【0053】
(第1の実施例)
以下、本発明の4層プリント配線基板の実施例について、図を用いて詳細に説明する。
【0054】
図1および図2から図5は、本発明の第1の実施例における4層プリント配線基板の断面図および第1層上面から見た第1層から第4層の透視図を示す。
【0055】
なお、図1および図2から図5において、図8および図9と同一の符号を付与している個所については、図8および図9と同一構成である為、その詳細な説明は省略する。
【0056】
図1および図2から図5において、71、72、73、74、75は前記プリント配線基板4に設けられた貫通VIAホール、521は前記プリント配線基板4の第2層パターン42とは別電位のパターン、53は前記プリント配線基板4の第3層パターン、541から544は前記プリント配線基板4の第4層パターンである。
【0057】
なお、前記第3層パターン53は前記チップサイズパッケージLSI1および、QFP−LSI2、24の基準電位を設定するGNDパターンであり、前記第4層パターン541および前記第2層パターン521は前記チップサイズパッケージLSI1および、QFP−LSI2、24へ電源を供給する電源パターンである。
【0058】
前記貫通VIAホール71は、前記第1層パターン411を介して前記チップサイズパッケージLSI1のGND端子である前記半田ボール11と、前記第3層GNDパターン53、前記第4層パターン542を介して前記バイパスコンデンサ15へ接続している。
【0059】
前記貫通VIAホール72は、前記第1層パターン412を介して前記チップサイズパッケージLSI1の電源端子である前記半田ボール12と、第4層電源パターン541を介して前記バイパスコンデンサ15の前記第4層パターン542に接続している端子とは反対側の端子へ接続している。
【0060】
一方、前記貫通VIAホール73についても、前記貫通VIAホール71と同様に前記QFP−LSI2のGND端子とGND電位である第3層パターン53および第4層パターン543を介して前記バイパスコンデンサ22とを接続しており、前記貫通VIAホール74は、前記貫通VIAホール72と同様に前記QFP−LSI2の電源端子と電源層である第4層パターン541を介して前記バイパスコンデンサ22の前記第4層パターン543に接続されている端子とは反対側の端子と接続している。
【0061】
また、前記貫通VIAホール75は、前記QFP−LSI2の下に位置し、電源パターンである前記第4層パターン541と前記第2層パターン521とを接続する。
【0062】
前記QFP−LSI24は、チップサイズパッケージLSI1とQFP−LSI2の結線を行う領域、すなわち、第1層パターン414、第2層パターン42が占める領域以外の第4層の領域に置く。
【0063】
また、前記チップサイズパッケージLSI1の信号端子13は、前記第1層パターン413と前記部分VIAホール83を介して前記第2層パターン42へ接続され、第2層パターン42の延長上に存在する部分VIAホール84、前記第1層パターン414を介してQFP−LSI2の所望の端子へ接続される。
【0064】
前記チップサイズパッケージLSI1の信号端子14、15は、前記第1層パターン414を介して直接QFP−LSI2の所望の端子へ接続される。
【0065】
また、前記QFP−LSI2は前記端子23を介し第1層パターン415を用いて、前記QFP−LSI24は前記第4層パターン544を用いて外部の回路と接続している。
【0066】
以上の第1の実施例では、図3および図5から分かる様に電源パターンを第4層パターン541から第2層パターン521へスイッチする事によって、図4に示す様にGNDパターンである第3層パターン53をベタにしてGNDインピーダンスの増大を防ぐ事が出来る。
【0067】
さらに従来の4層プリント配線基板では困難であった第4層へのQFP−LSIの配置をチップサイズパッケージLSI1とQFP−LSI2の結線を行う領域、すなわち、第1層パターン414、第2層パターン42が占める領域以外の第4層の領域に置く事で、第4層に配置したQFP−LSIの電源、GNDへの配線と信号配線の共存を可能とした。
【0068】
(第2の実施例)
次に本発明の第2の実施例について、図を用いて説明する。
図6は、第1層上部から見た本発明の第2の実施例の4層プリント配線基板の領域図である。
【0069】
図6において、1は第1層に置かれたチップサイズパッケージLSI、2は第1層に置かれたQFP−LSI、24は第4層に置かれたQFP−LSI、101は第1層、第2層を前記チップサイズパッケージLSI1とQFP−LSI2間の結線を行う信号パターンに、第3層をGNDパターンに、第4層を電源パターンに用いる領域、102は第1層、第4層を信号パターンに、第3層をGNDパターンに、第2層を電源パターンに用いる領域、75は領域101の第4層に存在する電源パターンと領域102の第2層に存在する電源パターンとを接続する貫通VIAホールである。
【0070】
ここで、75は4層プリント配線基板の周囲の1以上の辺に1個以上存在する物とする。
【0071】
第1の実施例では、領域101と領域102の電源パターン同士を接続する貫通VIAホール75を設ける領域がQFP−LSI2の下にかぎられていた為、貫通VIAホール75を十分な個数設ける事が困難であった。
【0072】
第2の実施例では、4層プリント配線基板の周辺に置ける為、貫通VIAホール75を設ける自由度が増し、この結果、電源インピーダンスの増加を防ぎつつ、第4層のQFP−LSI24についての電源、GNDへの配線と信号配線の共存が可能となる。
(第3の実施例)
次に本発明の第3の実施例について、図を用いて説明する。
図7は、第1層上部から見た本発明の第3の実施例の4層プリント配線基板の領域図である。
【0073】
図7において、1は第1層に置かれたチップサイズパッケージLSI、2は第1層に置かれたQFP−LSI、24は第4層に置かれたQFP−LSI、101は第1層、第2層を前記チップサイズパッケージLSI1とQFP−LSI2間の結線を行う信号パターンに、第3層をGNDパターンに、第4層を電源パターンに用いる領域、102は第1層、第4層を信号パターンに、第3層をGNDパターンに、第2層を電源パターンに用いる領域、103は第1層を信号パターンに、第2層、第4層を電源パターンに、第3層をGNDパターンに用いる領域、75は領域103の第4層に存在する電源パターンと第2層に存在する電源パターンとを接続する1個以上の貫通VIAホール、6は前記領域101の電源パターンと前記領域102の電源パターンを電気的に分離するインダクタンス成分を持つ部品である。
【0074】
また、前記領域13は、前記領域101と前記領域102との境界に位置する。
この様に構成すると、前記領域101と前記領域102とで電源を分離する事が出来、領域101で発生した電源リップル等のノイズを領域102の電源へ伝達する事を防止、または、領域101で発生した電源ノイズを領域102へ伝達する事を防止しつつ、第4層のQFP−LSI24についての電源、GNDへの配線と信号配線の共存が可能となる。
【0075】
また、従来の4層プリント配線基板においては、電源を分離する為には、第2層もしくは第3層の電源パターンから貫通VIAホールを用いて一旦第1層もしくは第4層へ電源パターンを引き出し、第1層もしくは第4層に置かれたインダクタンス成分を持つ部品を介して再び貫通VIAホールを用いて第2層もしくは第3層の電源パターンへ接続する為、貫通VIAホールが、インダクタンス成分を持つ部品の前後に必要であった。
【0076】
しかし、本発明の第3の発明によれば、インダクタンス成分を持つ部品が第4層に位置し、かつ、この部品の1つの端子は第4層の電源パターンに接続している為、貫通VIAホールはインダクタンス成分を持つ部品の前もしくは後の1つのみで済み、同個数の貫通VIAホールを用いる場合、貫通VIAホールの抵抗成分による電圧低下を半分にする事が出来る。
【0077】
なお、上記の実施例では、電源を分離する部品としてインダクタンス成分を持つ部品としたが、電源電圧を変換する部品もしくは部品群であっても、同様に第4層のQFP−LSI24についての電源、GNDへの配線と信号配線の共存が可能となる。
【0078】
【発明の効果】
本発明によれば、4層プリント配線基板において、第1層にチップサイズパッケージLSIと、QFP−LSIが実装され、これら両者間の配線が必要な場合で、第1層チップサイズパッケージLSIのボールピッチが狭く、第1層のみを用いて内周のボールからパターンを引き出す事が出来ない場合において、内周ボールを部分VIAホールを用いて第2層へ接続し、第2層を用いて配線する場合においても、4層プリント配線基板を用いて、第4層に部品を配置、配線する事が可能となり、従来6層プリント配線基板を用いて基板の表裏に部品を配置していた時と比べてプリント配線基板のコストを下げる事ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例における4層プリント配線基板の断面図
【図2】図1の第1層上面図
【図3】図1の第2層上面図
【図4】図1の第3層上面図
【図5】図1の第4層上面図
【図6】本発明の第2の実施例における4層プリント配線基板の上面透視図
【図7】本発明の第3の実施例における4層プリント配線基板の上面透視図
【図8】従来の6層プリント配線基板の断面図
【図9】従来の4層プリント配線基板の断面図
【符号の説明】
1 チップサイズパッケージLSI
2、24 QFP−LSI
11 GND端子ボール
12 電源端子ボール
13、14、15 信号端子ボール
16、22 バイパスコンデンサ
21、23 端子
4 4層プリント配線基板
401、402、403 絶縁層
411 GND端子用ランド
412 電源端子用ランド
413 信号端子用ランド
414 信号配線
415 第1層に配置されたQFP−LSIのチップサイズパッケージLSI以外への配線
42 第2層に配置されたQFP−LSIのチップサイズパッケージLSIへの配線
521 電源層
53 GND層
541 電源層
542、643 GND用ランド
544 第4層に配置された信号配線
101 第1層、第2層が信号層、第3層がGND層、第4層が電源層の領域
102 第1層、第4層が信号層、第3層がGND層、第2層が電源層の領域
103 第1層が信号層、第2層、第4層が電源層、第3層がGND層の領域
6 電源分離部品
71、72、73、74、75、83、84 VIAホール
Claims (3)
- 4層プリント配線基板の第1層にパッケージの裏面に複数の端子を備えた第1のLSIと,パッケージの周辺に複数の端子を備えた第2のLSIとを配置し、前記第1のLSIと前記第2のLSI間の配線を行う領域については第1層と第2層を信号配線層に,第3層をGND層に,第4層を電源層とする層構成領域と、前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域については第1層と第4層を信号配線層に,第3層をGND層に,第2層を電源層とする層構成領域とに分割し、前記第1のLSIと前記第2のLSI間の配線を行う領域の第4層の電源層と、前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域の第2層の電源層とを接続する貫通VIAホールを前記第2のLSIの占める領域内に配置し、前記第1のLSIと前記第2のLSI間の配線を行う領域と、前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域のGND層を同一層に配置することでGND層に分断がないことを特徴とする4層プリント配線基板。
- 第1のLSIと第2のLSI間の配線を行う領域の第4層の電源層と、前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域の第2層の電源層とを接続する前記貫通VIAホールをプリント配線基板端に配置したことを特徴とする請求項1記載の4層プリント配線基板。
- 第1のLSIと第2のLSI間の配線を行う領域の第4層の電源層と、前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域の第2層の電源層とを電気的に分離する部品を第4層に有し、前記電源分離部品の前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域の第2層の電源層への接続に用いる貫通VIAホールを前記第1のLSIと前記第2のLSI間の配線を行う領域の第4層の電源層と、前記第1のLSIと前記第2のLSI間ではない領域の第2層の電源層とを接続する前記貫通VIAホールと兼ねる構成にしたことを特徴とする請求項1記載の4層プリント配線基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000139970A JP4395989B2 (ja) | 2000-05-12 | 2000-05-12 | プリント配線板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000139970A JP4395989B2 (ja) | 2000-05-12 | 2000-05-12 | プリント配線板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001326462A JP2001326462A (ja) | 2001-11-22 |
JP4395989B2 true JP4395989B2 (ja) | 2010-01-13 |
Family
ID=18647330
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000139970A Expired - Fee Related JP4395989B2 (ja) | 2000-05-12 | 2000-05-12 | プリント配線板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4395989B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008166428A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置及びデジタル放送受信装置 |
JP5942814B2 (ja) * | 2012-11-22 | 2016-06-29 | 富士ゼロックス株式会社 | 多層配線基板 |
WO2020165953A1 (ja) * | 2019-02-12 | 2020-08-20 | 三菱電機株式会社 | 多層プリント基板 |
-
2000
- 2000-05-12 JP JP2000139970A patent/JP4395989B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001326462A (ja) | 2001-11-22 |
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|
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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