JP4390306B2 - ペルフルオロアルカン類の製造方法 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は冷媒、洗浄剤、及び半導体工業におけるエッチングガスに使用されるペルフルオロアルカン類の製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】
フッ素ガスを用いた直接フッ素化法によるペルフルオロアルカン類の合成法は、気相中で原料とフッ素ガスを反応させる方法(以下、気相法と略す)、または溶媒に原料を溶解させ、液相中、フッ素ガスを吹き込んで反応させる方法(以下、液相法と略す)に大別される。
【0003】
気相法では、J.Am.Chem.Soc.,97,513(1975)において、ネオペンタン、ノルボルナン又はアダマンタン等の炭化水素を、低温、ヘリウムで希釈したフッ素を用いたペルフルオロ化が報告されている。同様に、J.Am.Chem.Soc.,107,1197(1985)、J.Org.Chem.,50,5156(1985)及びJ.Org.Chem.,54,1990(1989)、または米国特許第4,076,916号、第4,144,374号、及び第4,523,039号において、ポリマー(ポリアクリル酸、ポリエチレンオキシド、ヘキサフルオロアセトン−エチレン共重合体、及びポリエステル)をフッ素化し、ペルフルオロポリマーを得たことが報告されている。しかしながらこれらの方法では、ヘリウムに対するフッ素濃度を、反応経過につれて段階的に変化(1〜100%)させる必要があり、また反応時間も9〜21日というように長大な反応時間を必要とする等の欠点がある。
【0004】
一方、液相法では、J.Fluorine Chem.,89,31(1998)、及びJ.Fluorine Chem.,89,229(1998)においてトリフルオロビニルエーテル、またはビニルアセタートのフッ素化が報告されている。しかしながら、この方法では、溶媒として、クロロホルム、エタノール、蟻酸、酢酸、及びアセトニトリルといった分子内に水素を有する溶媒を使用するため、原料と溶媒のフッ素化が競争的に起こる場合があり、また、フッ素ガスは、窒素や希ガスといった不活性ガスに希釈してフッ素濃度を下げたものを使用しなければならず、そのため低温下での反応というような特殊な反応条件を必要とする場合がある等の問題がある。
【0005】
特開平10−237056号において、2,2,3,3−テトラフルオロオキセタン(c−C3H2F4O)を、ダイフロイル#0または無水フッ化水素を溶媒として使用し、窒素で希釈したフッ素ガス(濃度9%)でフッ素化し、2,2,3,3,4−ペンタフルオロオキセタン(c−C3HF5O)及びヘキサフルオロオキセタン(c−C3F6O)を得たことを報告しているが、いずれか一方を選択的に得るのは困難である。例えば、c−C3HF5Oを選択率90%以上で得るためには、変換率を50%程度に抑えなければならないという欠点がある。J.Fluorine Chem.,75,197(1995)、及びJ.Fluorine Chem.,73,267(1995)には、溶媒として、FC−72及びC2Cl3F3を溶媒として用いる例が報告されている。また、米国特許第3,897,502号においては、CFC−113(CCl2FCClF2)を溶媒に用いる例が記載されている。さらに、欧州特許第0269029号においては、フォンブリン溶液中で2−ポリクロロフルオロアルキルテトラヒドロフランのフッ素化が記載されている。しかしながら、これらフッ素化に使用されている溶媒は、ペルフルオロエーテル類のような特殊な溶媒、またはクロロフルオロカーボンのような、原則的には製造できない化合物を使用している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述の問題点、すなわち、低温下での反応といった不経済な反応条件が要求される、反応時間が長い、原料とフッ素化反応が競合する恐れのある有機溶剤を使用しなければならない、あるいはペルフルオロエーテル、クロロフルオロカーボンといった特殊な溶媒を使用しなければならないという点を解消するものである。すなわち、溶媒としてペルフルオロアルカンを使用し、この液中に原料となるペルフルオロオレフィンを溶解させ、低温(約−70℃)から、目的物であるペルフルオロアルカンの沸点温度までの温度範囲でフッ素を吹き込むことによって経済的に効率よく、かつ完全に連続して目的のペルフルオロオレフィン類を合成する手段を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明はフッ素化に使用する溶媒を、フッ素化によって得られるペルフルオロアルカンまたはポリフルオロアルカンとし、この溶液中に反応原料(例えば、目的とするペルフルオロアルカンと炭素数を同じくしたペルフルオロオレフィン)を連続的に少量ずつ添加し、連続的にフッ素化反応を実施することによって、問題なく目的物としてのペルフルオロアルカンまたはポリフルオロアルカンを得る方法である。
【0008】
フッ素化反応を行なう際、溶液を高速に撹拌し、かつフッ素ガスを含有するガスを、例えば200μm以下(好ましくは40μm以下)0.1μm以上の微細な孔より噴出させることによって、穏やかに安全なフッ素化反応を続行することが可能となる。溶液の撹拌速度は、使用する容器の種類や形状によって異なるが、1000mLのフラスコ状容器であれば、通常200rpm以上(好ましくは500rpm以上)、3000rpm以下の回転速度で撹拌する必要がある。撹拌速度が低下すると、溶液中のフッ素ガス気泡が大きくなり、局部的な気液反応により、炎を上げて爆発的な反応が起こる。
【0009】
F2を噴出させる微細な孔を有するノズルの材質は、SUS、モネル、インコネル、ハステロイ、銅、鉄、ニッケル及びアルミニウムのような金属や、テフロンやダイフロンのようなフッ素樹脂製の物が使用できる。孔及び噴出し口の形状は、特に定める所はないが、ガス速度が50cm3/cm2・sec以下、好ましくは、15cm3/cm2・sec以下0.1cm3/cm2・sec以上となるような面積を有することが望ましい。
【0010】
原料である、ペルフルオロオレフィンは溶媒として使用するペルフルオロアルカンと炭素数が異なっても同様に反応を安定して行なうことができる。生成した異なる炭素数を持つペルフルオロアルカンや未反応原料のペルフルオロオレフィンは、蒸留により分離でき、溶媒に使用したペルフルオロアルカンと原料のペルフルオロオレフィンは再び反応容器に戻し、再利用する。また原料としては、水素や塩素等のハロゲン原子を含むポリフルオロオレフィンも使用することができる。これらの化合物として、分子内に水素原子を少なくとも1つ以上含む化合物あるいはフッ素以外のハロゲン原子を少なくとも1つ以上含む化合物などが挙げられるが、反応に用いられる溶媒と溶け合う化合物であれば、分子内の水素原子の数または塩素などのハロゲン原子の数に制限されない。例えば、ペルフルオロプロペン、ペルフルオロブテン、ペルフルオロペンテン、ペルフルオロヘキセン、ペルフルオロオクテン、ペルフルオロノネン、などで示される炭素数2以上20以下(以下、C2〜C20と表記する)のペルフルオロオレフィン(直鎖状化合物、分枝状化合物、環状化合物のいずれも含まれる)、6H−ウンデカフルオロヘキセン−1などのウンデカフルオロヘキセン、デカフルオロヘキセン、ノナフルオロブテン、ノナフルオロシクロヘキセン、オクタフルオロシクロヘキセン、などで示されるC2〜C20のポリフルオロオレフィンでH原子の比率が1以下の化合物(直鎖状化合物、分枝状化合物、環状化合物のいずれも含まれる)、クロロヘプタフルオロブテン、クロロウンデカフルオロヘキセン、ジクロロデカフルオロヘキセン、クロロペンタデカフルオロオクテン、ジクロロテトラデカフルオロオクテン、クロロノナフルオロシクロヘキセン、ジクロロオクタフルオロシクロヘキセン、などで示されるC2〜C20のポリフルオロオレフィンでCl原子とF原子の比率が1以下の化合物(直鎖状化合物、分枝状化合物、環状化合物のいずれも含まれる)、あるいはクロロオクタフルオロブテン、クロロデカフルオロヘキセン、クロロオクタフルオロシクロヘキセン、などで示されるC2〜C20のポリフルオロオレフィンでCl原子とH原子の総数とF原子の比率が1以下の化合物(直鎖状化合物、分枝状化合物、環状化合物のいずれも含まれる)、ヘキサフルオロブタジエンやデカフルオロヘキサジエン、オクタフルオロシクロヘキサジエン、などで示されるC4〜C20のペルフルオロジエン化合物(直鎖状化合物、分枝状化合物、環状化合物のいずれも含まれる)などが挙げられる。
【0011】
溶媒としては、上記の化合物より作られるペルフルオロアルカンまたはポリフルオロアルカンが使用できる。
これらの反応に使用されるフッ素は、実質的に100%フッ素あるいは、例えば窒素などで希釈したフッ素のどちらでも良く、反応を行なう温度、原料の濃度によって任意の割り合が選択される。しかし、溶媒の蒸気圧によって滞同される溶媒の量を低下させることを考慮にいれると、50%以上のフッ素濃度が望ましいが、特に限定されるものではない。
【0012】
反応温度は、原料の沸点によって異なるが、−70℃〜溶媒の沸点の間で行なうことかできる。また、溶媒中の原料は、その濃度が上がるにつれ、フッ素ガスとの反応が激しさを増すので、原料濃度を50%以下に、好ましくは30%以下にすることが必要である。
【0013】
【実施例】
以下に実施例により本発明を具体的に説明する。
【0014】
【実施例1】
十分に窒素置換を行ったステンレス製反応容器に3372g(9.98mol)のペルフルオロイソヘキサン(i−C6F14)及び376g(1.25mol)のペルフルオロイソヘキセン(i−C6F12)を入れ、この反応器に100%のフッ素ガスを、先端にステンレス製のバブラー(細孔直径40μm、表面積3cm2)を装着したガス吹き込み管より250mL/minで導入した。反応液は800rpm程度に回転させた撹拌機によって絶えず撹拌を行ない、一ケ所にフッ素を滞留させないようにした。同時にペルフルオロイソヘキセンを、マイクロチューブポンプを用い、3.8g/minの質量速度(総導入量912g(3.04mol))で、3372g(9.98mol)のペルフルオロイソヘキサンを仕込んだ反応器内に導入し、ペルフルオロヘキセンの濃度を約10wt%に保つようにした。反応開始直後より、反応による発熱で、反応溶液の温度の上昇が認められたが、外部の恒温槽により反応液温度を10〜20℃の間に保つようにした。未反応F2の有無は、反応器上部に取り付けたトリクロロエチレン−ドライアイスコンデンサー(−78℃)を通して、外部に排出される窒素ガスをヨウ化カリウム水溶液の中に通じ、変色(無色透明→茶色)の有無によって確認できるようにし、常にF2が完全に消費されるように反応条件を保った。
【0015】
反応液はサイフォン管によって同一レベルを保てるようにし、オーバーフローした液を採取した。フッ素の導入量が2.72molに達した地点で反応を終了し、反応容器内部の液及び上記採取液をガスクロマトグラフにより分析を行なった。その結果、液中のペルフルオロイソヘキセンの量は、490g(1.63mol)であった(総仕込量1288g(4.29mol)、減少量798g(2.66mol)、転化率62%)。一方、ペルフルオロイソヘキサンの量は、4225g(12.5mol)であった(反応前仕込み量3372g(9.98mol)、増加量853g(2.52mol)、収率95%)。溶媒をペルフルオロノナン(C9F20)に変えて、上記の条件で反応を行なった結果、収率90%でペルフルオロイソヘキサンが得られた。
【0016】
【実施例2】
十分に窒素置換を行ったステンレス製反応容器をトリクロロエチレン−ドライアイスで冷却して−70℃に保持し、溶媒として200gのペルフルオロノナン(C9F20)と、25g(0.1667mol)のヘキサフルオロプロペン(C3F6)をボンベより移充填した。この時、混合液中のC3F6濃度は、11wt%に設定した。この溶液中に窒素で希釈した濃度10%の希釈フッ素を、先端にステンレス製のバブラー(細孔直径40μm、表面積1.5cm2)を装着したガス吹き込み管より100mL/minの送入速度で供給した。反応液は600rpm程度に回転させた撹拌機によって絶えず撹拌を行ない、一ケ所にフッ素を滞留させないようにした。反応開始まもなく、反応による発熱で、反応溶液の温度が1〜10℃程度上昇するので、外部より反応器の冷却を行い、反応液温度を−30〜−25℃の間に保つようにした。未反応F2の有無は、反応器上部に取り付けたトリクロロエチレン−ドライアイスコンデンサー(−78℃)を通して、外部に排出される窒素ガスをヨウ化カリウム水溶液の中に通じ、変色(無色透明→茶色)の有無によって確認できるようにし、常にF2が完全に消費されるように反応条件を保ち、反応を100分間継続した(F2導入モル数0.1339mol)。反応終了後、溶液を50℃に加熱し、発生したガスをトリクロロエチレン−ドライアイスコンデンサー(−78℃)で冷却捕集し、27.1gの生成混合物を得た。さらにガスクロマトグラフで分析した結果、生成ガス中のオクタフルオロプロパンの濃度は78%で、未反応のヘキサフルオロプロペンの濃度は19%であった(転化率80%、収率78%)。溶媒をペルフルオロイソヘキサン(iso−C6F12)に変えて、上記の条件で反応を行なった結果、ほぼ同様の収率(71%)でヘキサフルオロプロパンが得られた。
【0017】
【実施例3】
実施例1と同様の方法にて原料を6H−ペルフルオロヘキセン−1に替えて反応を行なった。すなわち、原料を6H−ペルフルオロヘキセン−1(CHF2(CF2)3CF=CF2)(15g、0.053mol)とし、ペルフルオロイソヘキサン溶媒85g(原料濃度15wt%)中で、温度を−20℃に保ちながら、窒素で30%に希釈したフッ素ガスを50mL/minの流量で80分間導入した(F2導入モル数0.050mol)。その結果、1H−ペルフルオロノルマルヘキサン(CHF2(CF2)4CF3)を(15.7g、0.049mol、収率92%、転化率94%)得た。同様に溶媒をペルフルオロノナン(C9F20)に変えて、上記の条件で反応を行なった結果、収率89%で6H−ペルフルオロヘキセン−1が得られた。
【0018】
【実施例4】
実施例1と同様の方法にて原料をデカフルオロシクロヘキセンに替えて反応を行なった。すなわち、原料をデカフルオロシクロヘキセン(c−C6F10)(15g、0.064mol)とし、ペルフルオロイソヘキサン溶媒85g(原料濃度15wt%)中で、温度を−20℃に保ちながら、窒素で30%に希釈したフッ素ガスを50mL/minの流量で80分間導入した(F2導入モル数0.050mol)。その結果、ドデカフルオロシクロヘキサン(c−C6F12)を(14.7g、0.049mol、収率70%、転化率78%)得た。同様に溶媒をペルフルオロノナン(C9F20)に、反応温度を0℃に変えて、上記の条件で反応を行なったところ、収率65%でドデカフルオロシクロヘキサンが得られた。
【0019】
【実施例5】
実施例1と同様の方法にて原料をノナフルオロシクロヘキセンに替えて反応を行なった。すなわち、原料をノナフルオロシクロヘキセン(c−C6HF9)(15g、0.062mol)とし、ペルフルオロイソヘキサン溶媒85g(原料濃度15wt%)中で、温度を−20℃に保ちながら、窒素で30%に希釈したフッ素ガスを50mL/minの流量で80分間導入した(F2導入モル数0.050mol)。その結果、ウンデカフルオロシクロヘキサン(c−C6HF11)を(13.0g、0.046mol、収率74%、変換率81%)得た。同様に溶媒をペルフルオロノナン(C9F20)に変えて、上記の条件で反応を行なった結果、ウンデカフルオロシクロヘキサンが収率71%で得られた。
【0020】
【実施例6】
実施例1と同様の方法にて原料をクロロノナフルオロシクロヘキセンに替えて反応を行なった。すなわち、原料をクロロノナフルオロシクロヘキセン(c−C6ClF9)(15g、0.054mol)とし、ペルフルオロイソヘキサン溶媒85g(原料濃度15wt%)中で、温度を−20℃に保ちながら、窒素で30%に希釈したフッ素ガスを50mL/minの流量で80分間導入した(F2導入モル数0.050mol)。その結果、クロロウンデカフルオロシクロヘキサン(c−C6ClF11)を(14.5g、0.045mol、収率90%、転化率93%)得た。同様に溶媒をペルフルオロノナン(C9F20)に、反応温度を0℃に変えて、上記の条件で反応を行なったところ、クロロウンデカフルオロシクロヘキサンが収率81%で得られた。
【0021】
以下[表1]にこれらの実施例の結果をまとめた。
【0022】
【表1】
【0023】
【比較例1】
実施例1と同様の方法にて反応液中の原料組成及びフッ素ガスの導入速度、吹き込み口の形状、口径などを変えず、反応液の撹拌速度のみを100rpmに低下させて反応を行なったところ、反応液中でフッ素ガスが溶媒あるいは原料と小爆発を繰り返しながら燃焼し、反応液が煤で黒く変色した。さらに反応液中よりCF4やC3F8を主とした低沸点ガスが多量に生成し、目的物のペルフルオロイソヘキサンの収率は25%に大きく低下した。
【0024】
【比較例2】
実施例1と同様の方法にて反応液中の原料組成及びフッ素ガスの導入速度、反応液の撹拌速度は変化せず、吹き込み口を6ミリメーターの孔を有する通常のステンレス管として反応を行ったところ、反応液中でフッ素ガスが溶媒あるいは原料と爆発を繰り返しながら燃焼し、反応を続行することが不可能であった。
【0025】
Claims (3)
- ペルフルオロアルケンまたはポリフルオロアルケンをフッ素化してペルフルオロアルカンまたはポリフルオロアルカンを製造するにあたり、ペルフルオロアルカンまたはポリフルオロアルカンを溶媒とし、ペルフルオロアルケンまたはポリフルオロアルケンを含む、ペルフルオロアルカンまたはポリフルオロアルカン溶液を200rpm以上3000rpm以下の速度で撹拌し、この溶液中に100%フッ素ガス、または不活性ガスで希釈したフッ素ガスを吹き込むことを特徴とするペルフルオロアルカンまたはポリフルオロアルカンの製造方法。
- ペルフルオロアルケンまたはポリフルオロアルケンをフッ素化してペルフルオロアルカンまたはポリフルオロアルカンを製造するにあたり、ペルフルオロアルカンまたはポリフルオロアルカンを溶媒とし、ペルフルオロアルケンまたはポリフルオロアルケンを含む、ペルフルオロアルカンまたはポリフルオロアルカン溶液を反応容器に入れ、該溶液を200rpm以上3000rpm以下の速度で撹拌し、該溶液中に100%フッ素ガス、または不活性ガスで希釈したフッ素ガスを0.1μm以上200μm以下の微細な孔を有するノズルより吹き込むことを特徴とするペルフルオロアルカンまたはポリフルオロアルカンの製造方法。
- 100%フッ素ガス、または不活性ガスで希釈したフッ素ガスの吹き込み速度が0.1cm3/cm2・sec以上50cm3/cm2・sec以下である請求項1または2に記載の製造方法。
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