JPH10237056A - フルオロオキセタン化合物及びその製造方法 - Google Patents
フルオロオキセタン化合物及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH10237056A JPH10237056A JP9037850A JP3785097A JPH10237056A JP H10237056 A JPH10237056 A JP H10237056A JP 9037850 A JP9037850 A JP 9037850A JP 3785097 A JP3785097 A JP 3785097A JP H10237056 A JPH10237056 A JP H10237056A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- reaction
- fluorine gas
- pentafluorooxetane
- tetrafluorooxetane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D305/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms
- C07D305/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D305/04—Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D305/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring atoms
Abstract
(57)【要約】
【課題】 反応中におけるオキセタン環の分解を抑え、
副生成物の少ない、２，２，３，３，４−ペンタフルオ
ロオキセタン及び２，２，３，３，４，４−ヘキサフル
オロオキセタンの製造方法を提供する。 【解決手段】 ２，２，３，３−テトラフルオロオキセ
タンとフッ素ガスを反応させることを特徴とする２，
２，３，３，４−ペンタフルオロオキセタン及び／又は
２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロオキセタンの
製造方法。
副生成物の少ない、２，２，３，３，４−ペンタフルオ
ロオキセタン及び２，２，３，３，４，４−ヘキサフル
オロオキセタンの製造方法を提供する。 【解決手段】 ２，２，３，３−テトラフルオロオキセ
タンとフッ素ガスを反応させることを特徴とする２，
２，３，３，４−ペンタフルオロオキセタン及び／又は
２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロオキセタンの
製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２，２，３，３，
４−ペンタフルオロオキセタン及びその製造方法、並び
に２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロオキセタン
の製造方法に関する。２，２，３，３，４−ペンタフル
オロオキセタン及び２，２，３，３，４，４−ヘキサフ
ルオロオキセタンは医農薬中間体として有用であり、ま
た、パーフルオロカーボン（ＰＦＣ）にかわるドライエ
ッチングガスとして有用である。
４−ペンタフルオロオキセタン及びその製造方法、並び
に２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロオキセタン
の製造方法に関する。２，２，３，３，４−ペンタフル
オロオキセタン及び２，２，３，３，４，４−ヘキサフ
ルオロオキセタンは医農薬中間体として有用であり、ま
た、パーフルオロカーボン（ＰＦＣ）にかわるドライエ
ッチングガスとして有用である。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】ドライエ
ッチングガスとしては、従来、種々のＰＦＣが使用され
てきたが、これらのガスは、大気中で極めて安定であ
り、しかも地球温暖化係数が高いため、放出量の削減が
望まれている。このため、最近では、フルオロエーテル
系化合物がドライエッチングガスとして注目されてい
る。中でもフッ素含有オキセタン類は、化学的に不安定
な４員環構造を有しているため、大気中で分解し易く、
ドライエッチングガスとして好適と考えられている。
ッチングガスとしては、従来、種々のＰＦＣが使用され
てきたが、これらのガスは、大気中で極めて安定であ
り、しかも地球温暖化係数が高いため、放出量の削減が
望まれている。このため、最近では、フルオロエーテル
系化合物がドライエッチングガスとして注目されてい
る。中でもフッ素含有オキセタン類は、化学的に不安定
な４員環構造を有しているため、大気中で分解し易く、
ドライエッチングガスとして好適と考えられている。
【０００３】このようなフッ素含有オキセタン類の１種
である２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロオキセ
タンの合成法としては、オキセタンをフッ化水素中で電
解フッ素化する方法が知られている（ドイツ特許814002
号）。しかしながら、この方法においては、反応中にオ
キセタンが分解し易く、副生成物が多く生成するため
に、満足できる合成法ではない。
である２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロオキセ
タンの合成法としては、オキセタンをフッ化水素中で電
解フッ素化する方法が知られている（ドイツ特許814002
号）。しかしながら、この方法においては、反応中にオ
キセタンが分解し易く、副生成物が多く生成するため
に、満足できる合成法ではない。
【０００４】また、フッ素ガスによる有機化合物の水素
−フッ素置換反応としては、Lagowらの研究をはじめと
して(J. Org. Chem., 42,3437(1977))、多くの研究が知
られている。しかしながら、フッ素は極めて反応性が強
く、反応の暴走や爆発の危険があるため、特殊な反応器
を必要とする上に、有機化合物の炭素-炭素結合の切断
などの副反応を防止するために、−７８℃といった低温
及び大量の希釈ガスを必要とするなど、工業的に満足で
きるものではなかった。
−フッ素置換反応としては、Lagowらの研究をはじめと
して(J. Org. Chem., 42,3437(1977))、多くの研究が知
られている。しかしながら、フッ素は極めて反応性が強
く、反応の暴走や爆発の危険があるため、特殊な反応器
を必要とする上に、有機化合物の炭素-炭素結合の切断
などの副反応を防止するために、−７８℃といった低温
及び大量の希釈ガスを必要とするなど、工業的に満足で
きるものではなかった。
【０００５】本発明の目的は、反応中におけるオキセタ
ン環の分解を抑え、フルオロオキセタン以外の副生成物
の少ない、２，２，３，３，４−ペンタフルオロオキセ
タン及び２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロオキ
セタンの製造方法を提供することにある。
ン環の分解を抑え、フルオロオキセタン以外の副生成物
の少ない、２，２，３，３，４−ペンタフルオロオキセ
タン及び２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロオキ
セタンの製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、２，２，
３，３，４−ペンタフルオロオキセタン（以下、ＰＦＯ
と略称することがある）と２，２，３，３，４，４−ヘ
キサフルオロオキセタン（以下、ＨＦＯと略称すること
がある）の工業的に有用な製造方法を鋭意検討した結
果、２，２，３，３−テトラフルオロオキセタン（以
下、ＴＦＯと略称することがある）とフッ素ガスとを反
応させることにより、ＰＦＯ及び／又はＨＦＯが得られ
ることを見出した。
３，３，４−ペンタフルオロオキセタン（以下、ＰＦＯ
と略称することがある）と２，２，３，３，４，４−ヘ
キサフルオロオキセタン（以下、ＨＦＯと略称すること
がある）の工業的に有用な製造方法を鋭意検討した結
果、２，２，３，３−テトラフルオロオキセタン（以
下、ＴＦＯと略称することがある）とフッ素ガスとを反
応させることにより、ＰＦＯ及び／又はＨＦＯが得られ
ることを見出した。
【０００７】原料として用いるＴＦＯは熱分解し易い化
合物であり、一方のフッ素ガスは反応性の高い試薬であ
るが、本発明においては、フッ素ガスを反応させてもＴ
ＦＯは分解せずに、選択率良くＰＦＯ及び／又はＨＦＯ
が得られた。
合物であり、一方のフッ素ガスは反応性の高い試薬であ
るが、本発明においては、フッ素ガスを反応させてもＴ
ＦＯは分解せずに、選択率良くＰＦＯ及び／又はＨＦＯ
が得られた。
【０００８】すなわち、本発明は、下記に示すとおりの
フルオロオキセタン及びその製造方法を提供するもので
ある。
フルオロオキセタン及びその製造方法を提供するもので
ある。
【０００９】１．式
【００１０】
【化２】
【００１１】で表される２，２，３，３，４−ペンタフ
ルオロオキセタン。
ルオロオキセタン。
【００１２】２．２，２，３，３−テトラフルオロオキ
セタンとフッ素ガスを反応させることを特徴とする２，
２，３，３，４−ペンタフルオロオキセタン及び／又は
２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロオキセタンの
製造方法。
セタンとフッ素ガスを反応させることを特徴とする２，
２，３，３，４−ペンタフルオロオキセタン及び／又は
２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロオキセタンの
製造方法。
【００１３】３．フッ素ガスに対して不活性な溶媒の存
在下に液相で反応を行うことを特徴とする上記項２に記
載の方法。
在下に液相で反応を行うことを特徴とする上記項２に記
載の方法。
【００１４】４．フッ素ガスに対して不活性なガスの希
釈下に気相で反応を行うことを特徴とする上記項２に記
載の方法。
釈下に気相で反応を行うことを特徴とする上記項２に記
載の方法。
【００１５】５．フッ素ガスに対して不活性な溶媒が、
パーフルオロアルカン、クロロフルオロアルカン、パー
フルオロポリエーテル及び無水フッ化水素からなる群よ
り選択される少なくとも１種であることを特徴とする上
記項３に記載の方法。
パーフルオロアルカン、クロロフルオロアルカン、パー
フルオロポリエーテル及び無水フッ化水素からなる群よ
り選択される少なくとも１種であることを特徴とする上
記項３に記載の方法。
【００１６】６．フッ素ガスに対して不活性なガスが、
窒素、ヘリウム、無水フッ化水素及び炭素数４以下のパ
ーフルオロアルカンからなる群より選択される少なくと
も１種であることを特徴とする上記項４に記載の方法。
窒素、ヘリウム、無水フッ化水素及び炭素数４以下のパ
ーフルオロアルカンからなる群より選択される少なくと
も１種であることを特徴とする上記項４に記載の方法。
【００１７】上記項１の２，２，３，３，４−ペンタフ
ルオロオキセタンは、文献未記載の新規化合物である。
ルオロオキセタンは、文献未記載の新規化合物である。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明の製造方法に用いる２，
２，３，３−テトラフルオロオキセタンとしては、J.Or
g.Chem.28 492(1963)に記載の方法により合成したもの
を使用した。
２，３，３−テトラフルオロオキセタンとしては、J.Or
g.Chem.28 492(1963)に記載の方法により合成したもの
を使用した。
【００１９】本発明の製造方法は、フッ素ガスに対して
不活性な溶媒の存在下における液相反応、フッ素ガスに
対して不活性なガスの希釈下における気相反応のいずれ
でも行いうる。
不活性な溶媒の存在下における液相反応、フッ素ガスに
対して不活性なガスの希釈下における気相反応のいずれ
でも行いうる。
【００２０】液相反応を行う場合、ＴＦＯとフッ素ガス
の接触は、フッ素ガスに対して不活性な溶媒の少なくと
も１種を存在させた条件下に行うことが好ましい。フッ
素ガスに対して不活性な溶媒としては、無水フッ化水
素；パーフルオロシクロブタン、パーフルオロヘキサ
ン、パーフルオロオクタン、パーフルオロデカン等のパ
ーフルオロアルカン；潤滑誌32巻2号107頁に示されるよ
うなパーフルオロポリエーテル油（例えば、ダイキン工
業社製デムナム、オウシモント社製フォンブリン、デュ
ポン社製クライトックス等）；潤滑誌32巻2号107頁に示
されるようなクロロトリフルオロエチレンオリゴマー油
（例えば、ダイキン工業社製ダイフロイル等）等のクロ
ロフルオロアルカンが挙げられるが、これらに限定され
るものではない。パーフルオロポリエーテル油とクロロ
トリフルオロエチレンオリゴマー油は、フッ素系合成潤
滑油である。
の接触は、フッ素ガスに対して不活性な溶媒の少なくと
も１種を存在させた条件下に行うことが好ましい。フッ
素ガスに対して不活性な溶媒としては、無水フッ化水
素；パーフルオロシクロブタン、パーフルオロヘキサ
ン、パーフルオロオクタン、パーフルオロデカン等のパ
ーフルオロアルカン；潤滑誌32巻2号107頁に示されるよ
うなパーフルオロポリエーテル油（例えば、ダイキン工
業社製デムナム、オウシモント社製フォンブリン、デュ
ポン社製クライトックス等）；潤滑誌32巻2号107頁に示
されるようなクロロトリフルオロエチレンオリゴマー油
（例えば、ダイキン工業社製ダイフロイル等）等のクロ
ロフルオロアルカンが挙げられるが、これらに限定され
るものではない。パーフルオロポリエーテル油とクロロ
トリフルオロエチレンオリゴマー油は、フッ素系合成潤
滑油である。
【００２１】上記した溶媒の他、各種クロロフルオロカ
ーボン（例えば、ＣＦＣ−１１３等）も利用できるが、
これらは大気中に漏洩した場合、成層圏においてオゾン
層を破壊するため、使用すべきでない。
ーボン（例えば、ＣＦＣ−１１３等）も利用できるが、
これらは大気中に漏洩した場合、成層圏においてオゾン
層を破壊するため、使用すべきでない。
【００２２】反応系に供給するフッ素ガスは、単独で供
給してもよいし、窒素等の不活性ガスで希釈していても
よい。
給してもよいし、窒素等の不活性ガスで希釈していても
よい。
【００２３】反応の好ましい態様としては、上記の溶媒
のうちの少なくとも１種を反応器に仕込み、ＴＦＯを溶
解した後、フッ素ガスを液中に吹き込んで反応させる半
回分式方法、または、上記の溶媒の少なくとも１種を反
応器に仕込み、連続的にＴＦＯとフッ素ガスを仕込んで
反応させる連続法で行うことができる。
のうちの少なくとも１種を反応器に仕込み、ＴＦＯを溶
解した後、フッ素ガスを液中に吹き込んで反応させる半
回分式方法、または、上記の溶媒の少なくとも１種を反
応器に仕込み、連続的にＴＦＯとフッ素ガスを仕込んで
反応させる連続法で行うことができる。
【００２４】反応温度としては、−２０℃〜１００℃で
行うことができるが、−１０℃〜３０℃の範囲で行うこ
とが好ましい。特に好ましい反応温度は、ＴＦＯの沸点
（２８℃）以下の温度範囲である。使用する溶媒の沸点
がＴＦＯの沸点よりも低い場合には、反応器にコンデン
サーを設けて、反応系から溶媒を流出させないようにす
ることが必要である。
行うことができるが、−１０℃〜３０℃の範囲で行うこ
とが好ましい。特に好ましい反応温度は、ＴＦＯの沸点
（２８℃）以下の温度範囲である。使用する溶媒の沸点
がＴＦＯの沸点よりも低い場合には、反応器にコンデン
サーを設けて、反応系から溶媒を流出させないようにす
ることが必要である。
【００２５】反応圧力としては、通常は大気圧で行うこ
とが望ましいが、場合により減圧または微加圧条件下で
行うことができる。
とが望ましいが、場合により減圧または微加圧条件下で
行うことができる。
【００２６】ＰＦＯを選択的に合成する場合には、過剰
のＴＦＯに対して少量のフッ素ガスを作用させて（ＴＦ
Ｏ：Ｆ2＝１：１〜５：１（モル比））、ＴＦＯの転化
率を低くし、生成したＰＦＯを反応系から逐次除去する
ことが好ましい。ＨＦＯを選択的に合成するためには、
反応を連続法で行い、フッ素ガスをＴＦＯに対して十分
量使用することが好ましい（ＴＦＯ：Ｆ2＝１：２〜
１：３（モル比））。
のＴＦＯに対して少量のフッ素ガスを作用させて（ＴＦ
Ｏ：Ｆ2＝１：１〜５：１（モル比））、ＴＦＯの転化
率を低くし、生成したＰＦＯを反応系から逐次除去する
ことが好ましい。ＨＦＯを選択的に合成するためには、
反応を連続法で行い、フッ素ガスをＴＦＯに対して十分
量使用することが好ましい（ＴＦＯ：Ｆ2＝１：２〜
１：３（モル比））。
【００２７】気相反応を行う場合、反応の暴走を防止す
るため、フッ素ガスを、窒素、ヘリウム、無水フッ化水
素、炭素数４以下のパーフルオロアルカン等の不活性ガ
スで希釈することが必須である。不活性ガスに対するフ
ッ素ガスの割合は、５〜２０％であるのが好ましい。な
お、フッ素ガスを反応系に供給する際には、予めフッ素
ガスを不活性ガスと混合しておくのが好ましい。
るため、フッ素ガスを、窒素、ヘリウム、無水フッ化水
素、炭素数４以下のパーフルオロアルカン等の不活性ガ
スで希釈することが必須である。不活性ガスに対するフ
ッ素ガスの割合は、５〜２０％であるのが好ましい。な
お、フッ素ガスを反応系に供給する際には、予めフッ素
ガスを不活性ガスと混合しておくのが好ましい。
【００２８】反応温度としては、通常３０〜２５０℃の
範囲であり、好ましくは５０〜１５０℃の範囲である。
範囲であり、好ましくは５０〜１５０℃の範囲である。
【００２９】反応圧力としては、通常は大気圧で行うこ
とが望ましいが、場合により減圧または微加圧条件下で
行うことができる。
とが望ましいが、場合により減圧または微加圧条件下で
行うことができる。
【００３０】ＰＦＯを選択的に合成する場合には、ＴＦ
ＯとＦ2のモル比を１：１〜５：１とすることが好まし
い。ＨＦＯを選択的に合成するためには、ＴＦＯとＦ2
のモル比を１：２〜１：３とすることが好ましい。
ＯとＦ2のモル比を１：１〜５：１とすることが好まし
い。ＨＦＯを選択的に合成するためには、ＴＦＯとＦ2
のモル比を１：２〜１：３とすることが好ましい。
【００３１】本反応は、鉄、銅、亜鉛、ニッケル、ス
ズ、クロム等の金属の単独存在下、または、これらの金
属の２種以上の混合物及び／又は合金としての存在下に
行うことが可能である。これらの金属は、触媒として反
応管の中に添加してもよいが、これらの金属で形成した
反応管を使用することもできる。なお、反応管は細くす
ると除熱が行われやすく、生成物の分解が少ない。
ズ、クロム等の金属の単独存在下、または、これらの金
属の２種以上の混合物及び／又は合金としての存在下に
行うことが可能である。これらの金属は、触媒として反
応管の中に添加してもよいが、これらの金属で形成した
反応管を使用することもできる。なお、反応管は細くす
ると除熱が行われやすく、生成物の分解が少ない。
【００３２】以上のようにして得られたＰＦＯとＨＦＯ
は、精留等の常法により容易に単離することができる。
は、精留等の常法により容易に単離することができる。
【００３３】
【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに具体的
に説明する。
に説明する。
【００３４】実施例１ 液相への仕込み口とガス排出口を設けた２００ｍｌのス
テンレス容器に、クロロトリフルオロエチレンオリゴマ
ー油（ダイキン工業社製ダイフロイル＃０）１４６．１
ｇ及び２，２，３，３−テトラフルオロオキセタン４３
ｇを仕込んだ。この溶液を室温で撹拌しながら、窒素ガ
ス（６０ｍｌ／ｍｉｎ）とフッ素ガス（６ｍｌ／ｍｉ
ｎ）を混合しながら液中に仕込んだ。反応は常時大気圧
で行い、排出されたガスをアルカリ水溶液で洗浄し、ガ
スクロマトグラフィーで分析した。
テンレス容器に、クロロトリフルオロエチレンオリゴマ
ー油（ダイキン工業社製ダイフロイル＃０）１４６．１
ｇ及び２，２，３，３−テトラフルオロオキセタン４３
ｇを仕込んだ。この溶液を室温で撹拌しながら、窒素ガ
ス（６０ｍｌ／ｍｉｎ）とフッ素ガス（６ｍｌ／ｍｉ
ｎ）を混合しながら液中に仕込んだ。反応は常時大気圧
で行い、排出されたガスをアルカリ水溶液で洗浄し、ガ
スクロマトグラフィーで分析した。
【００３５】分析の結果、２，２，３，３−テトラフル
オロオキセタンの転化率は９．８％であり、２，２，
３，３，４−ペンタフルオロオキセタンが選択率９２．
６％で得られた。また、２，２，３，３，４，４−ヘキ
サフルオロオキセタンが選択率１．９％で得られた。
オロオキセタンの転化率は９．８％であり、２，２，
３，３，４−ペンタフルオロオキセタンが選択率９２．
６％で得られた。また、２，２，３，３，４，４−ヘキ
サフルオロオキセタンが選択率１．９％で得られた。
【００３６】生成物を精留し、２ｇの２，２，３，３，
４−ペンタフルオロオキセタンを単離した。この２，
２，３，３，４−ペンタフルオロオキセタンの構造は、
ＧＣマススペクトルによって確認した。そのスペクトル
を以下に示す。
４−ペンタフルオロオキセタンを単離した。この２，
２，３，３，４−ペンタフルオロオキセタンの構造は、
ＧＣマススペクトルによって確認した。そのスペクトル
を以下に示す。
【００３７】ＭＳ（７０ｅＶ）ｍ／ｅ：１０１（Ｍ−Ｃ
ＯＦ，２１．２），１００（７９．２），８２（２７．
２），６９（２１．２），５１（８１．２），５０（２
５．６），４７（３３．６），３１（１００），２９
（７５．６）。
ＯＦ，２１．２），１００（７９．２），８２（２７．
２），６９（２１．２），５１（８１．２），５０（２
５．６），４７（３３．６），３１（１００），２９
（７５．６）。
【００３８】実施例２ 液相への仕込み口とガス排出口を設けた２００ｍｌのス
テンレス容器に、パーフルオロポリエーテル油（ダイキ
ン工業社製デムナムＳ−２０）１５０．０ｇ及び２，
２，３，３−テトラフルオロオキセタン４５ｇを仕込ん
だ。この溶液を１０℃で撹拌しながら、窒素ガス（６０
ｍｌ／ｍｉｎ）とフッ素ガス（６ｍｌ／ｍｉｎ）を混合
しながら液中に仕込んだ。反応は常時大気圧で行い、排
出されたガスをアルカリ水溶液で洗浄し、ガスクロマト
グラフィーで分析した。
テンレス容器に、パーフルオロポリエーテル油（ダイキ
ン工業社製デムナムＳ−２０）１５０．０ｇ及び２，
２，３，３−テトラフルオロオキセタン４５ｇを仕込ん
だ。この溶液を１０℃で撹拌しながら、窒素ガス（６０
ｍｌ／ｍｉｎ）とフッ素ガス（６ｍｌ／ｍｉｎ）を混合
しながら液中に仕込んだ。反応は常時大気圧で行い、排
出されたガスをアルカリ水溶液で洗浄し、ガスクロマト
グラフィーで分析した。
【００３９】分析の結果、２，２，３，３−テトラフル
オロオキセタンの転化率は１０．２％であり、２，２，
３，３，４−ペンタフルオロオキセタンが選択率９３．
５％で得られた。また、２，２，３，３，４，４−ヘキ
サフルオロオキセタンが選択率１．３％で得られた。
オロオキセタンの転化率は１０．２％であり、２，２，
３，３，４−ペンタフルオロオキセタンが選択率９３．
５％で得られた。また、２，２，３，３，４，４−ヘキ
サフルオロオキセタンが選択率１．３％で得られた。
【００４０】実施例３ 液相及び気相への仕込み口と冷却コンデンサーを設けた
スチル１Ｌの精留塔に、無水フッ化水素８２０ｇを仕込
んだ。大気圧下にフッ化水素を加熱還流しながら（２０
℃）、液相仕込み口よりフッ素ガス（６０ｍｌ／ｍｉ
ｎ）を仕込みつつ、気相仕込み口より２，２，３，３−
テトラフルオロオキセタン（３０ｍｌ／ｍｉｎ）を仕込
んだ。３時間反応を続けた後、反応混合物をアルカリ溶
液に通じて洗浄し、洗浄ガスをガスクロマトグラフィー
で分析した。
スチル１Ｌの精留塔に、無水フッ化水素８２０ｇを仕込
んだ。大気圧下にフッ化水素を加熱還流しながら（２０
℃）、液相仕込み口よりフッ素ガス（６０ｍｌ／ｍｉ
ｎ）を仕込みつつ、気相仕込み口より２，２，３，３−
テトラフルオロオキセタン（３０ｍｌ／ｍｉｎ）を仕込
んだ。３時間反応を続けた後、反応混合物をアルカリ溶
液に通じて洗浄し、洗浄ガスをガスクロマトグラフィー
で分析した。
【００４１】分析の結果、２，２，３，３−テトラフル
オロオキセタンの転化率は５７％であり、２，２，３，
３，４−ペンタフルオロオキセタンが選択率９２％で得
られた。また、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオ
ロオキセタンが選択率７．３％で得られた。
オロオキセタンの転化率は５７％であり、２，２，３，
３，４−ペンタフルオロオキセタンが選択率９２％で得
られた。また、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオ
ロオキセタンが選択率７．３％で得られた。
【００４２】実施例４ 液相及び気相への仕込み口と冷却コンデンサーを設けた
スチル１Ｌの精留塔に、無水フッ化水素８２４ｇを仕込
んだ。大気圧下にフッ化水素を加熱還流しながら（２０
℃）、液相仕込み口よりフッ素ガス（６０ｍｌ／ｍｉ
ｎ）を仕込みつつ、気相仕込み口より２，２，３，３−
テトラフルオロオキセタン（３０ｍｌ／ｍｉｎ）を仕込
んだ。３時間反応を続けた後、２，２，３，３−テトラ
フルオロオキセタンの流通を停止し、フッ素ガスのみを
２０ｍｌ／ｍｉｎでさらに３時間通じた。反応終了後、
反応混合物をアルカリ溶液に通じて洗浄し、洗浄ガスを
ガスクロマトグラフィーで分析した。
スチル１Ｌの精留塔に、無水フッ化水素８２４ｇを仕込
んだ。大気圧下にフッ化水素を加熱還流しながら（２０
℃）、液相仕込み口よりフッ素ガス（６０ｍｌ／ｍｉ
ｎ）を仕込みつつ、気相仕込み口より２，２，３，３−
テトラフルオロオキセタン（３０ｍｌ／ｍｉｎ）を仕込
んだ。３時間反応を続けた後、２，２，３，３−テトラ
フルオロオキセタンの流通を停止し、フッ素ガスのみを
２０ｍｌ／ｍｉｎでさらに３時間通じた。反応終了後、
反応混合物をアルカリ溶液に通じて洗浄し、洗浄ガスを
ガスクロマトグラフィーで分析した。
【００４３】分析の結果、２，２，３，３−テトラフル
オロオキセタンの転化率は９５％であり、２，２，３，
３，４−ペンタフルオロオキセタンが選択率１４％で得
られた。また、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオ
ロオキセタンが選択率８２％で得られた。
オロオキセタンの転化率は９５％であり、２，２，３，
３，４−ペンタフルオロオキセタンが選択率１４％で得
られた。また、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオ
ロオキセタンが選択率８２％で得られた。
【００４４】実施例５ 液相及び気相への仕込み口と冷却コンデンサーを設けた
スチル１Ｌの精留塔に、パーフルオロシクロブタン８３
０ｇを仕込んだ。大気圧下にパーフルオロシクロブタン
を加熱還流しながら（２０℃）、液相仕込み口よりフッ
素ガス（６０ｍｌ／ｍｉｎ）を仕込みつつ、気相仕込み
口より２，２，３，３−テトラフルオロオキセタン（３
０ｍｌ／ｍｉｎ）を仕込んだ。３時間反応を続けた後、
反応混合物をアルカリで洗浄し、ガスクロマトグラフィ
ーで分析した。
スチル１Ｌの精留塔に、パーフルオロシクロブタン８３
０ｇを仕込んだ。大気圧下にパーフルオロシクロブタン
を加熱還流しながら（２０℃）、液相仕込み口よりフッ
素ガス（６０ｍｌ／ｍｉｎ）を仕込みつつ、気相仕込み
口より２，２，３，３−テトラフルオロオキセタン（３
０ｍｌ／ｍｉｎ）を仕込んだ。３時間反応を続けた後、
反応混合物をアルカリで洗浄し、ガスクロマトグラフィ
ーで分析した。
【００４５】分析の結果、２，２，３，３−テトラフル
オロオキセタンの転化率は５３％であり、２，２，３，
３，４−ペンタフルオロオキセタンが選択率９３％で得
られた。また、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオ
ロオキセタンが選択率６．５％で得られた。
オロオキセタンの転化率は５３％であり、２，２，３，
３，４−ペンタフルオロオキセタンが選択率９３％で得
られた。また、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオ
ロオキセタンが選択率６．５％で得られた。
【００４６】実施例６ ニッケル製反応管（外径１／４インチ、長さ４ｍ、内容
積５６ｍｌ）を恒温槽に入れ、５０℃に加熱した。この
反応管に、フッ素ガスを２０ｍｌ／ｍｉｎで、窒素ガス
を１００ｍｌ／ｍｉｎで、２，２，３，３−テトラフル
オロオキセタンを１０ｍｌ／ｍｉｎで流して反応させ
た。なお、フッ素ガスと窒素ガスは予め混合し、恒温槽
内でＴＦＯと混合した。
積５６ｍｌ）を恒温槽に入れ、５０℃に加熱した。この
反応管に、フッ素ガスを２０ｍｌ／ｍｉｎで、窒素ガス
を１００ｍｌ／ｍｉｎで、２，２，３，３−テトラフル
オロオキセタンを１０ｍｌ／ｍｉｎで流して反応させ
た。なお、フッ素ガスと窒素ガスは予め混合し、恒温槽
内でＴＦＯと混合した。
【００４７】排出されるガスをアルカリ水溶液で洗浄
し、ガスクロマトグラフィーで分析した。
し、ガスクロマトグラフィーで分析した。
【００４８】分析の結果、２，２，３，３−テトラフル
オロオキセタンの転化率は６６％であり、２，２，３，
３，４−ペンタフルオロオキセタンが選択率９１．２％
で得られた。また、２，２，３，３，４，４−ヘキサフ
ルオロオキセタンが選択率８．０％で得られた。
オロオキセタンの転化率は６６％であり、２，２，３，
３，４−ペンタフルオロオキセタンが選択率９１．２％
で得られた。また、２，２，３，３，４，４−ヘキサフ
ルオロオキセタンが選択率８．０％で得られた。
【００４９】実施例７ ニッケル製反応管（外径１／４インチ、長さ４ｍ、内容
積５６ｍｌ）を恒温槽に入れ、１５０℃に加熱した。こ
の反応管に、フッ素ガスを２４ｍｌ／ｍｉｎで、窒素ガ
スを４００ｍｌ／ｍｉｎで、２，２，３，３−テトラフ
ルオロオキセタンを１０ｍｌ／ｍｉｎで流して反応させ
た。なお、フッ素ガスと窒素ガスは予め混合し、恒温槽
内で２，２，３，３−テトラフルオロオキセタンと混合
した。
積５６ｍｌ）を恒温槽に入れ、１５０℃に加熱した。こ
の反応管に、フッ素ガスを２４ｍｌ／ｍｉｎで、窒素ガ
スを４００ｍｌ／ｍｉｎで、２，２，３，３−テトラフ
ルオロオキセタンを１０ｍｌ／ｍｉｎで流して反応させ
た。なお、フッ素ガスと窒素ガスは予め混合し、恒温槽
内で２，２，３，３−テトラフルオロオキセタンと混合
した。
【００５０】排出されるガスをアルカリ水溶液で洗浄
し、ガスクロマトグラフィーで分析した。
し、ガスクロマトグラフィーで分析した。
【００５１】分析の結果、２，２，３，３−テトラフル
オロオキセタンの転化率は９８％であり、２，２，３，
３，４−ペンタフルオロオキセタンが選択率１５．４％
で得られた。また、２，２，３，３，４，４−ヘキサフ
ルオロオキセタンが選択率８０．５％で得られた。
オロオキセタンの転化率は９８％であり、２，２，３，
３，４−ペンタフルオロオキセタンが選択率１５．４％
で得られた。また、２，２，３，３，４，４−ヘキサフ
ルオロオキセタンが選択率８０．５％で得られた。
【００５２】
【発明の効果】本発明は、反応中におけるオキセタン環
の分解を抑え、副生成物の少ない、２，２，３，３，４
−ペンタフルオロオキセタン及び２，２，３，３，４，
４−ヘキサフルオロオキセタンの製造方法を提供する。
の分解を抑え、副生成物の少ない、２，２，３，３，４
−ペンタフルオロオキセタン及び２，２，３，３，４，
４−ヘキサフルオロオキセタンの製造方法を提供する。
Claims (6)
- 【請求項１】 式 【化１】 で表される２，２，３，３，４−ペンタフルオロオキセ
タン。 - 【請求項２】 ２，２，３，３−テトラフルオロオキセ
タンとフッ素ガスを反応させることを特徴とする２，
２，３，３，４−ペンタフルオロオキセタン及び／又は
２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロオキセタンの
製造方法。 - 【請求項３】 フッ素ガスに対して不活性な溶媒の存在
下に液相で反応を行うことを特徴とする請求項２に記載
の方法。 - 【請求項４】 フッ素ガスに対して不活性なガスの希釈
下に気相で反応を行うことを特徴とする請求項２に記載
の方法。 - 【請求項５】 フッ素ガスに対して不活性な溶媒が、パ
ーフルオロアルカン、クロロフルオロアルカン、パーフ
ルオロポリエーテル及び無水フッ化水素からなる群より
選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求
項３に記載の方法。 - 【請求項６】 フッ素ガスに対して不活性なガスが、窒
素、ヘリウム、無水フッ化水素及び炭素数４以下のパー
フルオロアルカンからなる群より選択される少なくとも
１種であることを特徴とする請求項４に記載の方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9037850A JPH10237056A (ja) | 1997-02-21 | 1997-02-21 | フルオロオキセタン化合物及びその製造方法 |
| US09/027,251 US5965779A (en) | 1997-02-21 | 1998-02-20 | Fluorooxetane compound and process for its preparation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9037850A JPH10237056A (ja) | 1997-02-21 | 1997-02-21 | フルオロオキセタン化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10237056A true JPH10237056A (ja) | 1998-09-08 |
Family
ID=12509022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9037850A Pending JPH10237056A (ja) | 1997-02-21 | 1997-02-21 | フルオロオキセタン化合物及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5965779A (ja) |
| JP (1) | JPH10237056A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007111098A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及びその製造方法 |
| WO2007111075A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法 |
| WO2007111092A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法 |
| WO2007111074A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004090646A1 (ja) * | 2003-04-09 | 2004-10-21 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | ホログラフィック記録メディア及びその記録方法 |
| US7858994B2 (en) * | 2006-06-16 | 2010-12-28 | Articulated Technologies, Llc | Solid state light sheet and bare die semiconductor circuits with series connected bare die circuit elements |
| US7259030B2 (en) * | 2004-03-29 | 2007-08-21 | Articulated Technologies, Llc | Roll-to-roll fabricated light sheet and encapsulated semiconductor circuit devices |
| US7427782B2 (en) * | 2004-03-29 | 2008-09-23 | Articulated Technologies, Llc | Roll-to-roll fabricated light sheet and encapsulated semiconductor circuit devices |
| US7294961B2 (en) * | 2004-03-29 | 2007-11-13 | Articulated Technologies, Llc | Photo-radiation source provided with emissive particles dispersed in a charge-transport matrix |
| US7052924B2 (en) * | 2004-03-29 | 2006-05-30 | Articulated Technologies, Llc | Light active sheet and methods for making the same |
| US7217956B2 (en) * | 2004-03-29 | 2007-05-15 | Articulated Technologies, Llc. | Light active sheet material |
| RU2596195C2 (ru) | 2010-07-13 | 2016-08-27 | Солвей Спешиалти Полимерс Итали С.П.А. | Способ фторирования галоолефинов |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01190675A (ja) * | 1988-01-23 | 1989-07-31 | Daikin Ind Ltd | ２，２，３，３−テトラフルオロオキセタンの精留方法 |
| JPH0937850A (ja) * | 1995-08-02 | 1997-02-10 | Osaka Ship Building Co Ltd | エアゾール用ノズル兼調髪具 |
-
1997
- 1997-02-21 JP JP9037850A patent/JPH10237056A/ja active Pending
-
1998
- 1998-02-20 US US09/027,251 patent/US5965779A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007111098A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及びその製造方法 |
| WO2007111075A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法 |
| WO2007111092A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法 |
| WO2007111074A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5965779A (en) | 1999-10-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103274895B (zh) | 氟化有机化合物的制备方法 | |
| US7795477B2 (en) | Process for preparing fluorohalogenethers | |
| JPH10500135A (ja) | フッ素化オレフィンの製造方法およびフッ素化オレフィンを用いるヒドロフルオロカーボンの製造方法 | |
| JPH10237056A (ja) | フルオロオキセタン化合物及びその製造方法 | |
| EP2216325B1 (en) | Process for preparation of trifluoromethanesulfonyl fluoride | |
| US7612242B2 (en) | Process for preparing fluorohalogenethers | |
| JPH02235855A (ja) | 対応するフルオロオキシ―フルオロスルホニル―フルオロ化合物を製造するためのフルオロ―β―スルトンの直接フッ素化 | |
| US8350082B2 (en) | Process for producing fluorine-containing compounds | |
| WO1999033771A1 (fr) | Procede de preparation de composes ayant des groupes -ch2-chf- | |
| JP2000007593A (ja) | ペルフルオロ（ｎ−ペンタン）の製造方法 | |
| US6479718B1 (en) | Liquid phase process for HCFC-123 | |
| US5449843A (en) | Method for preparing 1,1-dichloro-1-fluoroethane | |
| JP4691702B2 (ja) | トランス−１，１，２，２，３，４−ヘキサフルオロシクロブタンの製造方法 | |
| JPS62228492A (ja) | フツ化水素と五ハロゲン化アンチモンとの混合物による腐食を防止する方法 | |
| JP2846133B2 (ja) | フッ素含有エタン誘導体、触媒混合物、およびフッ化水素溶液の製造方法 | |
| WO2020218340A1 (ja) | ハイドロクロロフルオロカーボンの製造方法、１－クロロ－２，３，３－トリフルオロプロペンの製造方法、１－クロロ－２，３，３，４，４，５，５－ヘプタフルオロ－１－ペンテンの製造方法 | |
| WO2001046099A1 (en) | Method of making hydrofluorocarbons | |
| JP3765172B2 (ja) | フッ素化エーテルの製造方法 | |
| US5629458A (en) | Process for the preparation of 2 2 2 trifluoroethanol | |
| CN108884015A (zh) | 用于制造氟化化合物的方法 | |
| US5741950A (en) | Method of preparing nonafluoroisobutyl methyl ether | |
| US6191326B1 (en) | Process for preparing 1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropane | |
| JPS6314742A (ja) | 高純度パラブロモフルオロベンゼンの製造方法 | |
| JP4022929B2 (ja) | ３，５−ビス（トリフルオロメチル）ニトロベンゼンの製造法 | |
| JP2001240568A (ja) | １−クロロヘプタフルオロシクロペンテンの製造方法 |