JP4372839B2 - 回転速度センサ - Google Patents
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- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 53
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 10
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 5
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 2
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 16
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 210000001520 comb Anatomy 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Images
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
- G01C19/56—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
- G01C19/5705—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using masses driven in reciprocating rotary motion about an axis
- G01C19/5712—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using masses driven in reciprocating rotary motion about an axis the devices involving a micromechanical structure
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- Remote Sensing (AREA)
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Description
本発明は、請求項1に発明の上位概念として記載した形式のコリオリ式回転速度センサに関する。
【0002】
背景技術:
コリオリ式回転速度センサとして構成された回転速度センサは公知である。該回転速度センサは例えば、同一平面内で振動しかつ感振質量として構成された構造体を有している。この場合該構造体は適当な駆動装置によって同一平面内で周期的に線運動させられる。いま同一平面内で振動する該構造体にコリオリの加速度が作用すると、該構造体は振動平面から振れて偏位させられる。このことは、第1には平面状振動のため、第2にはコリオリの加速度を検出するために、該構造体が2つの自由度で柔軟に装架されていなければならないことを意味している。例えば車両においてコリオリの加速度の検出中に発生する干渉(妨害)運動と干渉(妨害)加速度が同一平面からの構造体の振れ運動に重畳することに基づいて、コリオリの加速度の検出が選択的に行われねばならない。このために、コリオリ式回転速度センサにより測定された信号プロセスを、周波数及び位相に敏感に作用する同期復調によって処理して、コリオリの加速度に比例した信号成分、つまり正しい周波数位置と正しい位相位置とをもった信号成分を優先・通過させ得るようにすることは公知である。
【0003】
また国内の技術状態として、コリオリ式回転速度センサに作用する干渉加速度を機械的に抑圧することは公知である。このために振動構造体は、互いに逆の位相で振動する2つの振動質量から成っている。この場合、両振動質量の逆位相の運動方向は逆向きのコリオリの加速度を惹起し、このコリオリの加速度は取付け軸線の部位で回転モーメントを生ぜしめ、その結果、測定すべき回転速度の軸線が振動構造体の平面振動方向に対して垂直に位置している場合には全振動構造体の揺動運動が生じることになる。2つの振動質量の逆位相振動を実現するために両振動質量は、経費の嵩む結合構造体によって互いに結合されている。この場合の欠点は次の通りである。すなわち:
結合構造体によってセンサの複雑度が増大する。
【0004】
プロセスが一層困難になり、ひいては歩留まりが低くなる。
【0005】
付加的な振動モードが出現し、これによって障害発生率が高くなる。
【0006】
シミュレーション及び計算が一層困難になる。
【0007】
逆位相で振動する振動質量間で位相誤差及び振幅誤差が生じる可能性がある。
【0008】
その結果、測定された信号には不利な影響が及ぼされている。
【0009】
発明の開示:
以上の背景技術に対比して本発明の回転速度センサは、請求項1に特徴部分として記載した構成手段によって、実質的に前記信号誤差によって影響を及ぼされることのない正確なコリオリの加速度検出が簡単に可能になるという利点を提供する。固有運動の可能性のない、それ自体剛性の振動構造体が、平面振動運動を行うために回転運動可能に装架されていることによって、振動構造体の回転支点に関して互いに向き合った点における周速度の接線方向成分は自動的に常に逆向きになる。その結果、結合された線振動子の場合のような振幅誤差及び/又は位相誤差が発生することはあり得ない。それ自体剛性の回転振子を支持するばねは、低共振周波数及び比較的大きな振れを可能にするために、回転振動のためにも、回転速度に起因した揺動運動のためにも柔軟でなければならない。これに対して、妨害する外的な線加速度については構造体は、該線加速度を取付け軸線の手前で機械的に排斥するために、可能な限り撓み剛さを有していなければならない。これは高い縦横比をもったばねによって得ることができる。すなわち該ばねは比較的大きなばね高さ(丈)であると共に小さなばね幅を有している。このばねは同一平面内では撓み易く、かつ高い振幅をもった低周波数の回転振動を可能にする。また同一平面外の捩り剛さは小さいので、大きな検出信号を発生することが可能である。これに対して、大きなばね高さに基づいて同一平面外の曲げ剛さは著しく大きいので、同一平面外の干渉加速度は極めて良好に抑圧される。また外部からの横方向干渉加速度も、該ばねが比較的短い場合には効果的に抑圧することができる。すなわち:その場合回転振動と揺動運動は、長い機械的な梃子腕を介してばねに作用するのに対して、線加速度には、これを増強するためのこのような梃子腕は存在しない。要するにばねユニットは、所望の運動のためには柔軟に反応するが、同一平面内及び同一平面外の干渉加速度に対しては曲げ剛さを有しているので、該干渉加速度は極く小さな振れしか生ぜしめることができない。
【0010】
回転振動子はそれ自体、周期的に振動する角運動量を有している。この構造体が外部から回動されると、角運動量の維持に基づいて正確に規定された形式で周期的に振動するモーメントが発生し、該モーメントはコリオリの加速度に相当する。
【0011】
本来剛性の構造体の回転振動=周期的に振動する角運動量L=L0 sin ωt
外的な回動Ω⇒周期的な角運動量の変化⇒取付け軸線における周期的な回転モーメントM(=「コリオリの加速度」):
【数1】
【0012】
周期的な回転モーメントM=ΩL0 sin ωt⇒取付け軸線を中心とする揺動運動
回転速度センサに、このようなコリオリの加速度が作用すると、平面回転振動状態にある振動構造体は、その取付け軸線を中心として回転する。それと共に平面回転振動は、回転−揺動−振動に移行する。これによって振動構造体は一方の側では平面から脱出する方向に、また回転支点を超えて相対する側では前記平面内へ侵入する方向に、或いはその逆に動かされる。この回転−揺動−振動によって惹起されるところの、ベースに対する振動構造体の間隔の変化は有利には容量的に検出され、こうしてコリオリの加速度に比例した信号を得ることができる。本発明の回転速度センサは全体的に見て極めて単純、著しく頑丈かつ低廉に構成されている。有利には該回転速度センサは表面マイクロ機械工作法によって形成され、こうして高精度の構造、ひいては極めて正確な測定を可能にする構造を得る。
【0013】
本発明の有利な構成では、振動質量の下位に電極が配置されており、該電極は前記振動質量と相俟って容量性評価手段を形成し、かつ振動構造体の、回転速度に起因した(同一平面外)揺動運動の検出のために使用される。この場合有利には、各振動質量の下に配置された電極は、対応する各振動質量よりも小さな表面積を有している。これによって振動構造体の平面回転運動中、電極は、前記振動構造体の運動の如何なる時点にも対応振動質量の下に完全に留まることができる。その結果、平面回転振動に基づいてほんの一時的にであれ容量に影響を及ぼすことが避けられ、かつ容量変動の検出の原因を専ら、コリオリの加速度に起因して生じる振動構造体のシーソー運動(揺動運動)のみに帰することが回避される。回転速度に起因した揺動運動を検出するために電子式姿勢制御装置を使用するのが有利であり、これによって(適当な設計手段によってすでに機械的に実現されていない限り)検出モードの周波数を回転振動モードの周波数より上域に電子的に位置させることが可能である。電子式姿勢制御装置はこれを、静電対抗力による揺動モードの動的強化を介して達成する。
【0014】
本発明の別の実施形態による回転速度センサは、回転速度のため以外に優先方向での線加速度のためにも設計することができる。このために、振動構造体を支持するばねは、回転運動及び同一平面外捩り運動に加えて又、横方向線運動のためにも平面内の優先方向で柔軟性を有するように設計することができる。これは、前記ばねの縦横比、具体的には長さ:高さの比を適当に選ぶことによって得られる。このために振動構造体には付加的な姿勢制御装置が配設され、該姿勢制御装置は、振動構造体を形成する振動質量の外側で直径方向に対向配置されたコーム構造体によって構成されるのが有利である。これによって極めて有利なことには、回転速度センサの二重機能(つまりコリオリの加速度の検出機能と線加速度の検出機能)が可能になる。振動構造体に作用する線加速度は電子式姿勢制御装置に規定の変化を生ぜしめ、該変化は、線加速度によって惹起されるところの、固定配置された容量部と振動構造体との間の間隔の変化に基づく容量の変化によって有利に測定可能である。この間隔変化は、それ自体公知の適当な電子式姿勢制御回路によって検出され、かつ静電式に零に保たれる。この場合振動構造体の姿勢制御のために使用される電気信号は、振動構造体に作用する線加速度の大きさについての表示を同時に与えるのが有利である。
【0015】
本発明のその他の有利な構成は、請求項2以降に記載した手段から明らかである。
【0016】
図面の簡単な説明:
図1は回転速度センサの平面図である。
図2は図1に示した回転速度センサの概略断面図である。
図3は第2実施例による回転速度センサの平面図である。
図4は第3実施例による回転速度センサの平面図である。
【0017】
発明を実施するための最良の形態:
次に図面に基づいて本発明の若干の実施例を詳説する。
【0018】
図1には総体的に符号10で示した回転速度センサが図示されている。回転速度センサ10は、2つの振動質量14と16を備えた振動構造体12を有している。振動質量12と14はウェブ18,20を介して互いに剛性的に結合されて1つの回転振子を形成している。振動構造体16は基板(ベース)22上に浮動支承されている。このために支承点24が設けられており、該支承点は、振動構造体12の質量中心に合致している。振動質量14,16は対称的に合同であり、かつ支承点24に対して鏡面対称に配置されている。従って支承点24上に振動構造体12を支承した場合、該振動構造体12は、単に支承点24によって支持されているにすぎない浮動状態にある。振動質量14,16並びにウェブ18,20は一体に構成されており、かつ例えば表面マイクロ機械工作法によってポリ珪素材料から形成されている。振動構造体12は全体的に高さh(図2)を有し、かつ支承点24によって基板22に対して隔てられ電気的に絶縁されて保持されている。
【0019】
各振動質量14,16は夫々円筒区分26によって形成され、該円筒区分は、平面図で見れば円セクタ区分面を有している。円筒区分26は内周28と外周30を有している。内周28は、支承点24を中心とする内側半径Riの円ライン上に沿って延びている。外周30は、同じく支承点24を中心とする外側半径Raの円ライン上に沿って延びている。振動質量14,16の円筒区分26は共に角度φにわたっている。この配置・構成に基づいて、振動質量14,16の中心は支承点24に合致することになる。
【0020】
支承点24における振動構造体12の装架は、ウェブ18,20を起点とするばね32,34によって行われる。ばね32,34は高いアスペクト・レーシオ(縦横比)を有している。つまり該ばねは、振動構造体12の高さhに等しい高さhに対比して著しく狭い。従って平面図で見たばね32,34の幅bは著しく小さい。ばねのこの高い縦横比は、測定すべきコリオリの加速度に対する外的な干渉加速度を大きく抑圧するために重要である。
【0021】
振動質量14,16の、放射線上に沿って延びる各端面36には、それぞれコーム(櫛)形構造体が対応配設されている。振動質量14にはコーム構造体38が対応配設されており、該コーム構造体は、振動質量14に結合された可動コーム40と、該可動コーム40に係合しかつ基板22に固着配置された固定コーム42とから成っている。固定コーム42は、図1では略示した接点接続部50を介して回路ユニット(図示せず)と接続されている。振動質量14は両端面にコーム構造体38を有している。振動質量16は両端面にコーム構造体44を有し、該コーム構造体は、振動質量16に固定的に結合された可動コーム46と、該コーム46に係合していて基板22上に固着配置された固定コーム48とを有している。固定コーム48は接点接続部50を介して同じく回路ユニット(図示せず)と接続されている。回路ユニットに対する振動構造体12の作動結合、ひいては該振動構造体12に配置された可動コーム40,46の作動結合は接地接点52を介して行われ、該接地接点は支承点24、ばね32,34、ウェブ18,20及び振動質量14,16を介して接点接続を可能にする。接地接点52は同じく基板22上にも配置され、かつ適当に電気絶縁して接続されている。全ての構造は、(接続技術に応じて)基板の中間酸化物を介して電気的に絶縁されているか、或いは基板内のpn接合部によって電気的に互いに分離されている。
【0022】
振動質量14,16の下で基板22上には夫々1つの電極54,56が配置されている。該電極54,56は絶縁層、例えば酸化珪素58を介して基板22上に配置されている。平面図で見れば電極54,56は、その輪郭の点では振動質量14,16に適合されているが、面積の点では、より小さな円セクタ区分面を有している。すなわち電極54,56の内側半径は振動質量14,16の内側半径Riよりも大きく、また電極54,56の外側半径は振動質量14,16の外側半径Raよりも小さい。更に電極54,56の(図1では図示を省いた)角度φは振動質量14,16の角度φよりも小さい。電極54,56は夫々、接点接続部60を介して導出されて回路ユニット(図示せず)に接続されている。図1に等しい構成要素には同一の符号を付して説明の重複を避けた図2から判るように、電極54,56は、振動質量14,16の下に間隔dをとって配置されている。従って電極54,56と振動質量14,16との間には、直接的な接触接点は存在せず、かつ電気的に互いに完全絶縁されている。
【0023】
図1及び図2に示した回転速度センサ10の機能は次の通りである。すなわち:
コーム構造体38によって振動構造体12は支承点24を中心として平面回転振動させられる。コーム構造体38はこの場合、静電式コーム駆動部として作用する。従って振動構造体12は支承点24を中心として平面(同一平面内)捩り振動を行う。振動質量16に配置されたコーム構造体44は、振動構造体12の捩り振動のための容量性振動タップを形成しており、かつ捩り振動の振幅安定化と、捩り振動減衰のための電子的なフィードバックとのために使用することができる。従って回転速度センサ10の出力状態にあっては振動構造体12は支承点24を中心とする均等な同一平面内捩り振動状態にある。高い縦横比を有しているばね32,34はこの同一平面内捩りに対しても同一平面外捩りに対しても共に撓み易く、その結果、相応の捩りモードの比較的低い共振周波数が生じる。これに対して外部干渉加速度に対しては前記ばねは曲げ剛さを有しているので、外部干渉加速度は取付け軸線の手前で抑圧される。電極54,56が振動質量14,16よりも小さく設計されているので、該電極は、振動構造体12の平面捩り振動中も常時、振動質量14,16の下位に留まる。従って捻り振動に基づいて、電極54と振動質量14との間及び電極56と振動質量16との間に、信号の変化を惹起することになる容量変動が生じることはない。
【0024】
コリオリの加速度が発生すると、支承点24を中心とする平面捩り振動状態にある振動構造体12は固定軸線を中心として周期的に回転することになる。これによって振動構造体12の平面捩り振動は、回転−揺動振動させられる。従って振動構造体12の同一平面外振動が付加的に生じる。この同一平面外振動の結果、振動質量14,16と、その下位にある電極54,56との間に間隔の変化が生じる。この間隔の変化は、電極54,56を介して、かつ接地接点52,54に接点接続された振動質量14,16を介して容量的に検出することができる。同一平面外振動に基づいて例えば、振動質量14と電極54との間の間隔が減少すると同時に、振動質量16と電極56との間の間隔は増大する。振動の反転時には振動質量16と電極56との間の間隔が減少するのに対して、振動質量14と電極54との間の間隔は増大する。これに伴って振動質量14,16と電極54,56との間の容量は周期的に上昇又は周期的に降下する。接点接続部60を介して前記の容量変動は、図示を省いた姿勢制御装置を含む回路ユニットによって評価され、かつ容量変動に比例した信号、例えば回転速度センサ10に作用するコリオリの加速度についての1尺度を与える姿勢制御電圧信号に変換される。
【0025】
従って全体的に見て、構造が単純で、かつ簡単に制御できる表面マイクロ機械工作工程によって単層構造の珪素基板上に製作可能な回転速度センサ10が得られる。回転速度センサ10の接点接続部及び電極は、同じく簡単に制御可能なポリ珪素析出処理法(埋設ポリ珪素平面)もしくはドーピング(「直接埋設層」接続技術)によって得ることができる。従って回転速度センサ10は、大量生産に適した方式かつ単純な処理工程で製造可能でありかつ構造が単純かつ極度に頑丈である。
【0026】
回転速度センサ10の機能において留意すべき点は、コリオリの加速度によって捩り振動の周波数でもって惹起される揺動運動を、共振立上り(resonance rise)範囲内、従ってコントロールし難い後振動範囲内に位置させないようにするために、同一平面外検出振動の合成共振周波数が同一平面内捩り振動の共振周波数よりも高いことである。このためには殊に、静電力によって同一平面外捩りモードを電気的に強化するPD特性を有す姿勢制御法が使用される。その別の実施態様として、同一平面内捩りの共振周波数を、同一平面外捩り(検出モード)の共振周波数よりも低くするように回転速度センサの設計を適当に変更することも可能である。このためには、ばね32,34を、ウェブ18,20に固定する代わりに、振動質量14,16に固定するのが有利である。更に前記のコントロール不能の後振動を抑圧するために、排気又は圧縮によって1/√2の理想的な減衰作用を調整することが可能であり、該減衰作用は、更にまた共振周波数近くまで一定振幅を生ぜしめ、次いで10周波数当り20dB降下させる。
【0027】
次に回転速度センサ10によるコリオリの加速度検出時における関係を計算例に基づいて説明する。この計算例では、計算を簡単にするためにウェブ18,20の質量は無視された。この場合計算は夫々唯1つの振動質量14又は16と唯1つのばね32又は34でもって行われる。それというのは、下式の関係において(2つの振動質量14,16と2つのばね32,34をもって計算する場合の)係数2は約分されるからである。
【0028】
共振周波数の計算:
一般的な捩り時の共振周波数:
【数2】
(但しCVerdehはC捩り)
この場合、次の関係式が成り立つ:
【数3】
【0029】
線振動時の共振周波数:
【数4】
(但しCLinはC線振動)
この場合、次の関係式が成り立つ。
【0030】
【数5】
回転振動:
回転に対するばね剛さ(一端を固定的に緊締した桁が曲げられる)
【数6】
(但しCDrehはC回転振動)
但し
【数7】
【0031】
質量慣性モーメント:
【数8】
揺動(シーソー)振動:
捩りに対するばね剛さ(一端を固定的に緊締した桁が捩られる):
【数9】
(但しCTorsはC揺動振動)
但しh/b>4のために
【数10】
を代入し、かつ
珪素のために
【数11】
を代入する
質量慣性モーメント:
【数12】
【0032】
軸線(質量重心−中心)に沿った線加速度:
曲げに対するばね剛さ(一端を固定的に緊締した桁が曲げられる):
【数13】
質量:
【数14】
【0033】
感度の計算:
全体として2つの質量が2つの捩りばねに抗して動作するので、計算は片側について行われる。質量は前式に相当。
【0034】
周速度:
【数15】
【0035】
角運動量:
【数16】
【0036】
周期的に振動する角運動量:
【数17】
【0037】
モーメント:
【数18】
【0038】
回転角:
【数19】
【0039】
振れ:
【数20】
【0040】
1つの具体的な実施例では、回転速度センサ10の下記の設計値を出発点とする。
【0041】
円セクタ区分の角度: φ=80°
振れ: Θ=5°
構造体高さ: h=12μm
桁幅: b=2μm
桁長: l=200μm
構造体の外縁: Ra=600μm
構造体の内縁: Ri=380μm
電極間隔: d=1.2μm
回転振動周波数: ω=3000s-1
回転速度が1°/s(=0.017rad/s)の場合、次の値が生じる。すなわち:
最大トルク L=2.34*10-13Nm
最大揺動角 α=1.23*10-6rad
最大振れ(内側/外側)
z=0.47nm/0.74nm
基本容量 C0=0.31232pF
容量バリエーション ΔC=0.15fF
容量比 ΔC/C0=1/2000
【0042】
図3及び図4には回転速度センサ10のための別の実施例が図示されている。なお図1に等しい構成要素には同一符号を付して説明の重複を避け、構造及び機能についての説明は、図1とは異なっている相違点のみに限った。
【0043】
図3に示した回転速度センサ10は横形の電子式姿勢制御装置62を同一平面内に有している。該姿勢制御装置62は、振動質量14,16の外周30に沿って配置された部分64を有し、該部分の、支承点24に対して半径方向に延びる各端面66には夫々コーム構造体68が配置されている。該コーム構造体68は、前記部分64に結合されて可動に配置された可動コーム70を有し、該可動コームは、基板22上に固定的に配置された固定コーム72に噛み合っている。可動コーム70と固定コーム72の個々のフィンガは、支承点24を中心とする仮想円ライン上に弧状に延びている。固定コーム72は接点接続部74を介して回路ユニット(図示せず)と接続されている。振動質量14と振動質量16は夫々直径方向で対向する姿勢制御装置62を有し、しかも振動構造体12の正確な鏡面対称形構造を損なわないように配置される。
【0044】
姿勢制御装置62の機能は次の通りである。すなわち:
回転速度センサを規定に則して使用する場合、該回転速度センサ10は、検出すべきコリオリの加速度以外に概ね線加速度も受ける。振動構造体12の装架は、平面捩り振動のため及びコリオリの加速度に起因した揺動振動のために柔軟でなければならないので、該装架は、コリオリの加速度を生ぜしめる回転体の回転軸線に対して垂直に作用する線加速度のためにも無限に剛性ではない。この線加速度は、線加速度の作用方向に振動構造体12の僅かな振れを惹起する。しかしながら振動質量14,16に配置された姿勢制御装置62によって、線加速度の作用に基づく振れは完全に抑圧される。線加速度の作用時にはコーム構造体68の可動コーム79と固定コーム72との間で容量変化が生じる。この容量変化は振動構造体12の振れに基づいて発生する。それというのは可動コーム70と固定コーム72との間の間隔が僅かに変化するからである。この容量変化に基づいて、干渉する線加速度の大きさを与える電子信号が得られる。図示を省いた回路ユニットを介して、可動コーム70と固定コーム72との間の間隔の変化を静電式に零にする相応の逆信号が発生される。この場合、線加速度によって生じた振れの大きさに応じて、姿勢制御信号が変化する。振動構造体12の姿勢制御以外に、姿勢制御装置62によって得られたこの信号は、振動構造体12に干渉する線加速度の大きさも同時に表すことができる。従ってコリオリ式回転速度センサとして使用する以外に同時に、線加速度センサとして使用することも可能である。
【0045】
可動コーム70及び固定コーム72を弧状に配置したことによって、振動構造体62の平面捩り振動の結果、可動コーム70と固定コーム72との間に生じる容量変化が防止される。姿勢制御装置62の一方の側において捩り振動の結果生じる面積損失は、姿勢制御装置62の他方の側における同じ大きさの面積増加によって補償される。この場合の前提条件は、可動コーム70の半径と固定コーム72の半径が等しく、かつ可動コーム70と固定コーム72との対面した面の表面粗面度が僅かであることである。
【0046】
図4に示した変化実施形態では、振動構造体12の振動質量14,16の接点接続は、外位の接地接点76によって行われる。これによって、支承点24は振動構造体12を単に回転可能に支承するだけのために使用され、かつ振動構造体12の電気的な作動結合に関する機能を引受る必要がなくなる。振動構造体12の接続は、振動構造体12の平面状の振動平面内では極度に柔軟なばね78,80によって行われる。該ばね78,80は接地接点76を、振動質量14と16を結合するウェブ18,20の各中点と接点接続させる。ばね78,80を平面状の振動平面内では極度に柔軟に構成したことによって、振動構造体12の平面捩り振動は微々たる影響しか受けないので、ばね78,80は振動構造体12の振動挙動に対して、無視できるほど小さな影響しか及ぼさない。
【0047】
また同一平面外揺動振動を容量式に検出するための対応電極を形成した下位の接点平面を利用することによって、極めて有利な別の接続態様が得られる。この下位平面内には、コンデンサ面並びにセンサ素子を電気的に接続するための導電路を共に構成することができる。このために埋設ポリ珪素平面又は拡散面及び導電路(「埋設層」)を使用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】回転速度センサの平面図である。
【図2】図1に示した回転速度センサの概略断面図である。
【図3】第2実施例による回転速度センサの平面図である。
【図4】第3実施例による回転速度センサの平面図である。
Claims (16)
- 支承点(24)を有する基板(22)と、
前記支承点(24)に回転運動可能に平面振動運動を行うために装架された振動構造体(12)と、
該振動構造体(12)の平面振動運動発生手段(38,44)と、
前記振動構造体(12)の、回転速度に起因した揺動運動を検出するための評価手段とを備えた形式の、回転速度センサにおいて、
振動構造体(12)が、1本の半径線上に沿って支承点(24)を起点として夫々延びるばね(32,34)によって前記支承点(24)に結合されており、かつ前記ばね(32,34)が、ばね幅(b)に対比して大きな高さ(h)を有していて、振動構造体(12)の平面振動運動の平面と同一平面内では撓みやすく、これに対して同一平面外の曲げ剛さは大きく、それによって干渉する加速度を回転速度センサ(10)において直接に機械的に抑圧するように形成されており、振動構造体(12)が、1つの支承点(24)に対して回転対称形に配置された2つの振動質量(14,16)によって形成され、両振動質量がウェブ(18,20)を介して互いに剛性結合されており、振動質量(14,16)を結合する各ウェブ(18,20)が、振動構造体(12)の1本の半径線上に沿って延在するばね(32,34)を介して支承点(24)と結合されていることを特徴とする、回転速度センサ。 - 振動質量(14,16)が夫々1つの円筒区分(26)によって形成されており、該円筒区分の外周(30)及び内周(28)が、支承点(24)を中心として循回する半径(Ra,Ri)を有している、請求項1記載の回転速度センサ。
- 振動質量(14,16)が静電式のコーム駆動部(38)を有している、請求項1又は2項記載の回転速度センサ。
- コーム駆動部(38)が、振動構造体(12)の周方向に向いた振動質量(14,16)の端面(36)に配置された可動コーム(40)を有し、該可動コームが、基板(22)上に固着配置された固定コーム(42)と互いに噛み合っている、請求項3項記載の回転速度センサ。
- 振動構造体(12)が全部で4つのコーム構造体(38,44)を有し、その内、2つのコーム構造体は静電式コーム駆動部(38)として、また2つの構造体は容量性読出し部(44)として接続されている、請求項3又は4記載の回転速度センサ。
- 振動質量(14,16)の下位に電極(54,56)が配置されており、該電極が前記振動質量(14,16)と相俟って容量性評価手段を形成し、かつ振動構造体(12)の、回転速度に起因した揺動運動の検出のために使用される、請求項1から5までのいずれか1項記載の回転速度センサ。
- 各振動質量(14,16)の下に配置された電極(54,56)が、前記振動質量(14,16)よりも小さな円セグメント面を有している、請求項6記載の回転速度センサ。
- 振動構造体(12)の、回転速度に起因した揺動運動の検出のために電子式姿勢制御装置が使用される、請求項1から7までのいずれか1記載の回転速度センサ。
- 振動構造体(12)には、平面内で作用する、つまり横方向に作用する線加速度のための付加的な電子式姿勢制御装置(62)が対応配設されている、請求項1から8までのいずれか1項記載の回転速度センサ。
- 付加的な電子式姿勢制御装置(62)が、振動質量(14,16)の外周(30)に直径方向で対向配置されたコーム構造体(68)によって構成されている、請求項9記載の回転速度センサ。
- 同一平面外捩り振動(検出モード)の共振周波数が、振動構造体(12)におけるばね(32,34)の適当な取付けによって、同一平面内捩り振動(回転振動モード)の共振周波数より上域に位置している、請求項1から10までのいずれか1項記載の回転速度センサ。
- 振動質量(14,16)の接点接続が支承点(24)を介して行われる、請求項1から11までのいずれか1項記載の回転速度センサ。
- 振動質量(14,16)の接点接続が、外部からウェブ(18,20)に作用する接点接続部を介して行われる、請求項1から11までのいずれか1項記載の回転速度センサ。
- 接点接続部が、振動構造体(12)の平らな振動平面内では極度に柔軟に構成されたばね(78,80)から成っている、請求項13記載の回転速度センサ。
- 接点接続が、埋設されたポリ珪素平面を介して行われる、請求項1から14までのいずれか1項記載の回転速度センサ。
- 接点接続が、基板材料内の埋設拡散ゾーン、拡散導電路又は拡散コンデンサ面を介して行われる、請求項1から14までのいずれか1項記載の回転速度センサ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19523895.8 | 1995-06-30 | ||
DE19523895A DE19523895A1 (de) | 1995-06-30 | 1995-06-30 | Beschleunigungssensor |
PCT/DE1996/000248 WO1997002467A1 (de) | 1995-06-30 | 1996-02-17 | Beschleunigungssensor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11513111A JPH11513111A (ja) | 1999-11-09 |
JP4372839B2 true JP4372839B2 (ja) | 2009-11-25 |
Family
ID=7765702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50468097A Expired - Lifetime JP4372839B2 (ja) | 1995-06-30 | 1996-02-17 | 回転速度センサ |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6062082A (ja) |
EP (1) | EP0835425B1 (ja) |
JP (1) | JP4372839B2 (ja) |
DE (2) | DE19523895A1 (ja) |
ES (1) | ES2171652T3 (ja) |
WO (1) | WO1997002467A1 (ja) |
Families Citing this family (52)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19648425C1 (de) * | 1996-11-22 | 1998-01-02 | Siemens Ag | Drehratensensor |
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-
1995
- 1995-06-30 DE DE19523895A patent/DE19523895A1/de not_active Ceased
-
1996
- 1996-02-17 DE DE59608599T patent/DE59608599D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-17 US US08/913,598 patent/US6062082A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-17 JP JP50468097A patent/JP4372839B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-17 WO PCT/DE1996/000248 patent/WO1997002467A1/de active IP Right Grant
- 1996-02-17 ES ES96903875T patent/ES2171652T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-17 EP EP96903875A patent/EP0835425B1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0835425A1 (de) | 1998-04-15 |
JPH11513111A (ja) | 1999-11-09 |
US6062082A (en) | 2000-05-16 |
DE19523895A1 (de) | 1997-01-02 |
DE59608599D1 (de) | 2002-02-21 |
WO1997002467A1 (de) | 1997-01-23 |
EP0835425B1 (de) | 2002-01-16 |
ES2171652T3 (es) | 2002-09-16 |
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Date | Code | Title | Description |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051220 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20060320 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060515 |
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A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060619 |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061024 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20070308 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20071213 |
|
RD13 | Notification of appointment of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433 Effective date: 20090617 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090706 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090617 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090903 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130911 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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