JP4371425B2 - 半導体装置の製造方法及び基板処理装置 - Google Patents
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Description
上記の膜厚面内均一性は、ジボランに代えて三塩化ホウ素を用いることによって大幅に改善され、全領域で膜厚面内均一性が1%以下であるようなボロンドープポリシリコン膜が得られることが判明している(特許文献1参照)。
本発明の基板処理装置においては、前述した種々の方法を実施することができる。
本発明がなされる前の予備的考察として、バッチ間のボロン濃度変動の原因は次のように考えられる。即ち、成膜前のボロンの、反応炉内壁面やボート表面等からの脱離量がバッチ間のアイドリング時間により異なってくるため、成膜時にドープされるボロン量が変化してボロン濃度が変動することが考えられる。
また、本実施形態のプロセスではボロンの触媒効果により膜成長が起こるため、ボロン濃度が変動することで成長速度が変動することが考えられる。成長前のボロンの、反応炉内壁面やボート表面等からの脱離量をできるだけ一定にするには、成膜前にある一定量の三塩化ホウ素を炉内に流すことや、成膜前に炉内を酸化コーティングすることが考えられる。しかし前者は基板と膜との界面にボロンが偏析する懸念があり、後者は炉内ガスクリーニング時に酸化された壁面でクリーニングが阻害される懸念があり、いずれも好ましい方策とはいえない。そこで、本発明者は、鋭意検討の結果、これらの問題を解決することができるFCP(Fast Cycle Purge)という強力なパージ方法を見出した。このFCPを成膜前に常時行うことにより、反応炉内壁面やボート表面等からのボロンの脱離を促進させ、成膜前のボロンの反応炉内壁面やボート表面等からの脱離量を安定化させることができ、バッチ間のボロン濃度や成長速度の安定性を改善できることが判明した。
本発明の実施形態は、このような考察に基づいてなされたものである。
なお、モノシランガス(SiH4)を供給するストレートノズル13と三塩化ホウ素ガス(BCl3)を供給するストレートノズル14aとは、それぞれのガス噴出口がウエハ表面と平行な方向、すなわち水平方向に向いて開口しており、それぞれのガスをウエハ表面と平行な方向、すなわち水平方向に向かって噴出させるように構成されている。また、三塩化ホウ素ガス(BCl3)を供給する複数のL字状ノズル14bのガス噴出口はウエハ表面とは垂直な方向、すなわち鉛直方向上方に向けて開口しており、ガスをウエハ表面とは垂直な方向、すなわち鉛直方向に向かって噴出させるように構成されている。
1サイクルあたりの時間:4〜6min
1サイクルあたりの真空引き時間:2〜3min
1サイクルあたりのN2供給時間:2〜3min
トータル時間:12〜18min
最小圧力(真空引きの際の到達圧力):0.05〜1Pa
最大圧力(N2供給時の到達圧力):20〜100Pa
サイクル数:3〜数回
N2供給量:0.5〜1slm
単位時間当たりの圧力変化量:7Pa/秒以下
なお、FCPの好ましいパージ条件は次の通りである。
1サイクルあたりの時間:0.5〜2min
1サイクルあたりの真空引き時間:0.25〜1min
1サイクルあたりのN2供給時間:0.25〜1min
トータル時間:20〜100min
最小圧力(真空引きの際の到達圧力):0.05〜1Pa
最大圧力(N2供給時の到達圧力):1000〜1200Pa
サイクル数:10〜200回
N2供給量:0.5〜1slm
単位時間当たりの圧力変化量:30Pa/秒〜500Pa/秒、好ましくは100Pa/秒〜500Pa/秒
なお、単位時間当たりの圧力変化量が500Pa/秒を越えると、反応炉やポンプへの負担が大きなって基板処理装置のインターロック上実施するのは難しい。
このように、FCPは通常のサイクルパージと比較して、単位時間あたりの圧力変化量が極めて大きい(速い)ことが特徴である。
図8からも分かるように、FCPは、NCPと比較して単位時間当たりの反応炉内の圧力変化量が大きい。例えばNCPでは単位時間当たりの圧力変化量が最大で7Pa/秒程度であるのに対し、FCPでは最大で500Pa/秒程度である。また、FCPは、NPCと比較して最大圧力と最小圧力との差(圧力変動幅)が大きい。例えばFCPでは圧力変動幅が1000〜1200Paであるのに対し、NCPでは20〜100Pa程度である。また、FCPは、NCPと比較してサイクル数が多い。例えばFCPではサイクル数が10〜200回であるのに対し、NCPでは3〜数回である。
成膜処理は、反応炉12内のトータル圧力を66.5Pa、SiH4流量を0.2slm、BCl3流量を0.002slm、炉内温度を380〜400°Cとして実施した。
FCPは、最大圧力(N2供給時の到達圧力)を1200Pa、最小圧力(真空引きの際の到達圧力)を0.1Pa、1サイクル当たりの時間を1min、圧力を最大圧力から最小圧力までに変動させる時間を5秒、サイクル数を100回、トータル時間を100min、N2供給量を1slmとして実施した。
比較例:
実施例と同様に成膜処理を行い、FCPは実施しなかった。
(1)基板を処理する反応炉と、反応炉内に処理ガスを供給する供給手段と、反応炉内に基板を搬入搬出する搬入搬出手段と、この搬入搬出手段により基板を反応炉から搬出した後、次に処理する基板を搬入する前に、反応炉内に少なくとも製品基板が無い状態で反応炉に対する真空引きと不活性ガスの供給を繰り返すよう制御する制御手段と、を有することを特徴とする基板処理装置。
(2)基板を装填するためのボートと、基板を処理する反応炉と、反応炉内に処理ガスを供給する供給手段と、反応炉内にボートを搬入搬出する搬入搬出手段と、この搬入搬出手段により基板と共にボートを反応炉から搬出した後、次に処理する基板を搬入する前に反応炉内に少なくとも製品基板を装填していない空のボートを挿入した状態で反応炉に対する真空引きと不活性ガスの供給を少なくとも1回以上行うよう制御する制御手段と、を有することを特徴とする基板処理装置。
Claims (14)
- 基板を反応炉内に搬入するステップと、
前記反応炉内で基板に対して処理を行うステップと、
前記反応炉内に処理後の基板を収容した状態で、前記反応炉に対する真空引きと不活性ガスの供給を少なくとも1回以上行うことにより第1のパージを行うステップと、
前記反応炉より処理後の基板を搬出するステップと、
処理後の基板を前記反応炉より搬出後、次に処理する基板を前記反応炉内に搬入する前に、前記反応炉に少なくとも製品基板を収容していない状態で、前記反応炉に対する真空引きと不活性ガスの供給とを少なくとも1回以上行うことにより第2のパージを行うスッテップとを有し、
前記第2のパージステップにおける単位時間当たりの反応炉内の圧力変化量を、前記第1のパージステップにおける単位時間当たりの反応炉内の圧力変化量よりも大きくしたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載した半導体装置の製造方法において、前記第2のパージステップにおける単位時間当たりの反応炉内の圧力変化量を30Pa/secより大きく500Pa/sec以下としたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載した半導体装置の製造方法において、前記第2のパージステップにおける前記反応炉内の最大圧力と最小圧力との差を、前記第1のパージステップにおける前記反応炉内の最大圧力と最小圧力との差よりも大きくしたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載した半導体装置の製造方法において、前記第1のパージステップ及び第2のパージステップにおいては、真空引きと不活性ガスの供給を複数回 繰り返すようにし、前記第2のパージステップにおける真空引きと不活性ガス供給のサイクルを、前記第1のパージステップにおける真空引きと不活性ガス供給 のサイクルよりも短くしたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載した半導体装置の製造方法において、前記第1のパージステップ及び第2のパージステップにおいては、真空引きと不活性ガスの供給を複数回 繰り返すようにし、前記第2のパージステップにおける真空引きと不活性ガス供給のサイクル数を、前記第1のパージステップにおける真空引きと不活性ガス供 給のサイクル数よりも多くしたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載した半導体装置の製造方法において、前記第1のパージステップ及び第2のパージステップにおいては、真空引きと不活性ガスの供給を複数回 繰り返すようにし、前記第1のパージステップでは、前記反応炉内を排気する排気ラインに設けられた排気バルブを開いた状態で前記反応炉内に不活性ガスを供 給し、前記第2のパージステップでは、前記排気バルブを閉じた状態で前記反応炉内に不活性ガスを供給することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載した半導体装置の製造方法において、前記第1のパージステップは、基板を支持した支持具を前記反応炉内に収容した状態で行い、前記第2の パージステップは、少なくとも製品基板を支持していない支持具を前記反応炉内に収容した状態で行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載した半導体装置の製造方法において、前記第1のパージステップは、基板を支持した支持具を前記反応炉内に収容した状態で行い、前記第2の パージステップは、製品基板を支持することなくダミー基板を支持した支持具を前記反応炉内に収容した状態で行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載した半導体装置の製造方法において、前記基板処理ステップでは、ホウ素を含むガスを用いることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載した半導体装置の製造方法において、前記基板処理ステップでは、基板上にボロンドープシリコン膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載した半導体装置の製造方法において、前記基板処理ステップでは、モノシラン(SiH4)と三塩化ホウ素(BCl3)を用いることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載した半導体装置の製造方法において、前記第2のパージステップは、基板に対する処理を行う度に毎回行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 基板を支持具に装填するステップと、
基板を装填した前記支持具を反応炉内にロードするステップと、
前記反応炉内で基板に対して処理を行うステップと、
処理後の基板を支持した前記支持具を反応炉よりアンロードするステップと、
前記支持具をアンロードした後、処理後の基板を前記支持具より取り出すステップと、
処理後の基板を取り出した後、少なくとも製品基板を前記支持具に装填することなく前記支持具を前記反応炉内にロードするステップと、
少なくとも製品基板を装填していない前記支持具を前記反応炉内に収容した状態で、前記反応炉内に反応性ガスを導入することなく前記反応炉に対する真空引きと不活性ガスの供給を少なくとも1回以上行うことによりパージを行うステップと、
を有し、
前記パージステップにおける単位時間当たりの反応炉内の圧力変化量を30Pa/secより大きく500Pa/sec以下としたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 基板を処理する反応炉と、
前記反応炉内にガスを供給するガス供給ラインと、
前記反応炉内に基板を搬入搬出する搬入搬出装置と、
前記反応炉内に処理後の基板を収容した状態で、前記反応炉に対する真空引きと不活性ガスの供給を少なくとも1回以上行うことにより第1のパージを行うように制御すると共に、処理後の基板を前記反応炉より搬出後、次に処理する基板を前記反応炉内に搬入する前に、前記反応炉内に少なくとも製品基板を収容しない状態で、前記反応炉に対する真空引きと不活性ガスの供給を少なくとも1回以上行うことにより第2のパージを行うように制御し、更に、前記第2のパージに おける単位時間当たりの反応炉内の圧力変化量を、前記第1のパージにおける単位時間当たりの反応炉内の圧力変化量よりも大きくするように制御するコントローラと、
を有することを特徴とする基板処理装置。
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