JP4365300B2 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
102…誘電体窓
103…アンテナ電極
104…処理容器
105…処理室
106…真空排気口
107…ガス供給装置
108…高周波電源
109…整合器
110…フィルター
111…同軸線路
112…整合器
113…アンテナバイアス電源
114…磁場発生コイル
115…基板電極
116…被処理材
117…フィルター
118…整合器
119…基板バイアス電源(RF電源)
120…位相制御器
121,122…位相検出プローブ
123…静電吸着用直流電源(ESC電源)
130…静電吸着膜(誘電体膜)
131…プッシャーピン
132…センサ
133…制御部
134…上昇機構
Claims (4)
- 真空排気装置が接続され内部を減圧可能な処理室と、処理室内へガスを供給するガス供給装置と、被処理材を載置可能な基板電極と、基板電極に被処理材を吸着させるための静電吸着膜と、基板電極に静電吸着用直流電圧を印加する静電吸着用直流電源と、被処理材を温調するための冷却ガス導入機構と、基板電極に対向するプラズマを発生するための電磁波を放射するアンテナ電極と、基板電極へ接続された高周波電源と、アンテナ電極へ接続された高周波電源からなるプラズマ処理装置のプラズマ処理方法において、
処理終了時に被処理材の裏面に処理材上昇用のプッシャーピンを密着させ、前記静電吸着膜から脱離する方向に力を印加しつつ、基板電極に印加する静電吸着用直流電源の極性を0.1Hzから10Hzの周波数で切替えることによって得た正負交互の電圧を印加する
ことを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項1記載のプラズマ処理方法において、前記正負交互の電圧振幅は、前記基板電極に印加する静電吸着用電圧以上とすることを特徴とするプラズマ処理方法。
- 真空排気装置が接続され内部を減圧可能な処理室と、処理室内へガスを供給するガス供給装置と、被処理材を載置可能な基板電極と、基板電極に被処理材を吸着させるための静電吸着膜と、基板電極に静電吸着用直流電圧を印加する静電吸着用直流電源と、被処理材を温調するための冷却ガス導入機構と、基板電極に対向するプラズマを発生するための電磁波を放射するアンテナ電極と、基板電極へ接続された高周波電源と、アンテナ電極へ接続された高周波電源と、処理材を静電吸着膜から脱離する方向に力を印加するプッシャーピンと、装置全体を制御する制御部からなるプラズマ処理装置であって、
プッシャーピンの圧力変化またはプッシャーピンの変位を検出する手段と、
プッシャーピンの圧力または変位を検出する手段がプッシャーピンの圧力変化または変位を検出したときにプッシャーピンに印加する力を制御する手段と、
静電吸着用直流電源の極性を0.1Hzから10Hzの周波数で切替えることによってプラズマ処理終了時に基板電極に正負交互の電圧を印加する手段を
設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項3記載のプラズマ処理装置において、前記正負交互の電圧の電圧振幅は、基板電極に印加する静電吸着用電圧以上とすることを特徴とするプラズマ処理装置。
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