JP4359156B2 - フォトレジスト用組成物およびその用途 - Google Patents

Description

本発明は、フォトレジスト用組成物およびその用途に関する。詳しくは、液晶表示装置用スペーサの形成などに好適に使用できるフォトレジスト用組成物、これを用いて形成されたスペーサが配置・固定されている液晶表示装置および液晶表示装置用カラーフィルタ基板に関する。

従来、液晶表示装置（ＬＣＤ）を製造する際に使用するスペーサとしては、粒子状スペーサが用いられていた。ところが、近年のＬＣＤの大型化や高画質化に対しては、粒子状スペーサでは十分な表示品位を得ることが困難であるため、これに代えて、感光性樹脂等の感光性材料を用いたフォトリソグラフィ技術により、フォトレジストとして、いわゆるフォトスペーサと称される、形状精度や寸法精度に優れる柱状等のスペーサを非画素領域に形成する技術（例えば、特許文献１参照。）が多用されるようになっている。
特開平１０−７３８２７号公報

しかし、従来のフォトスペーサでは、ガラス基板（透明基板）の張り合わせや位置合わせ等といったＬＣＤの各種製造工程、または、ＬＣＤの運搬等の取扱い工程において、衝撃や振動などによる応力がフォトスペーサに集中したときに、該フォトスペーサが破壊されやすく、ギャップムラや色ムラが発生し、結果としてＬＣＤの表示品位が低下するという問題があった。
そこで、本発明が解決しようとする課題は、例えば、ＬＣＤの各種製造工程や取扱い工程などの際に掛かる応力を受けても破壊されにくく、ＬＣＤの表示品位の低下を招かないフォトスペーサを形成できるフォトレジスト用組成物、該組成物を用いて形成されたスペーサが配置されている液晶表示装置、および、該組成物を用いて形成されたスペーサが固定されている液晶表示装置用カラーフィルタ基板、を提供することにある。

本発明者は、上記課題を解決するべく鋭意検討を行った。その過程において、フォトスペーサを形成させるために用いる感光性樹脂等の感光性材料に、特定の微粒子を含有させるようにすれば、驚くべきことに、上記課題を一挙に解決できることを見出した。
本発明は、この知見とその確認とに基づき完成されたものである。
すなわち、本発明にかかるフォトレジスト用組成物は、感光性材料中に、平均粒子径が０．２μｍ以下であるシリカ微粒子を含み、該シリカ微粒子は、その表面の少なくとも一部に有機ポリマー残基が結合してなり、該有機ポリマー残基がアルカリ可溶性である、ことを特徴とする。
本発明にかかる液晶表示装置は、対向面に透明電極を有する一対の透明基板の間に液晶層を備え、前記液晶層の厚みを一定にするためのスペーサが前記液晶層中に配置されている液晶表示装置において、前記スペーサが前記本発明にかかるフォトレジスト用組成物から形成されてなることを特徴とする。

本発明にかかる液晶表示装置用カラーフィルタ基板は、カラーフィルタ上に少なくとも透明電極と配向膜とが積層されてなり、非画素領域には液晶層の厚みを一定にするためのスペーサが固定されている液晶表示装置用カラーフィルタ基板において、前記スペーサが前記本発明にかかるフォトレジスト用組成物から形成されてなることを特徴とする。

本発明によれば、例えば、ＬＣＤの各種製造工程や取扱い工程などの際に掛かる応力を受けても破壊されにくく、得られたＬＣＤにおいてギャップムラや色ムラを発生させず、結果としてその表示品位の低下を招かないフォトスペーサを容易に得させることができるなど、優れた性質を備えるフォトレジスト用組成物を提供することができる。本発明によればまた、このフォトレジスト用組成物を用いることにより、スペーサの応力破壊が起きにくい液晶表示装置や液晶表示装置用カラーフィルタ基板を提供することができる。

以下、本発明にかかるフォトレジスト用組成物、液晶表示装置および液晶表示装置用カラーフィルタ基板について詳しく説明するが、本発明の範囲はこれらの説明に拘束されることはなく、以下の例示以外についても、本発明の趣旨を損なわない範囲で適宜変更実施し得る。
〔フォトレジスト用組成物〕
本発明にかかるフォトレジスト用組成物は、感光性材料中に平均粒子径が０．２μｍ以下であるシリカ微粒子を含んでなるものであり、フォトリソグラフィ技術により、露光および現像等の処理を施すことで、所望のフォトレジストのパターン形成をすることができる。

＜感光性材料＞
本発明でいう感光性材料とは、紫外光領域から可視光領域までの範囲内の波長を有する光を照射することによって、現像液に対する溶解性が変化する性質を有する有機系材料であり、いわゆるネガ型とポジ型に分類される。
ネガ型の感光性材料の実施態様としては、限定はされないが、例えば、（１）光照射により架橋や重合等をし現像液に対する耐溶剤性が高くなる感光性樹脂、（２）光照射により重合し、現像液に対する耐溶剤性を発揮するものとなる光重合性モノマー、（３）重合して現像液に対する耐溶剤性を発揮するものとなる重合性モノマー、および、光照射により重合反応を開始させる光重合開始剤、などが挙げられる。本発明においては、これら（１）〜（３）などの実施態様は、１種のみ適用してもよいし２種以上を併せて適用してもよく、限定されない。

ポジ型の感光性材料の実施態様としては、限定はされないが、例えば、光照射により分解等され現像液に対する耐溶剤性が低くなる感光性樹脂などが挙げられる。
上記ネガ型の感光性材料について以下に説明する。
上記（１）の実施態様でいう感光性樹脂としては、限定はされないが、例えば、各種のポリエステル（メタ）アクリレート；エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリアクリルアミドを骨格として備えたウレタン（メタ）アクリレート、および、ポリブタジエンを骨格として備えたウレタン（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリレート化合物等の光重合性のオリゴマー；ポリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリ（メタ）アクリルアミド、ポリスチレンおよびポリ酢酸ビニルなどのポリマー末端に重合性二重結合基を有する化合物等の光重合性のマクロマー；等が挙げられる。これらは、１種のみ用いてもよいし２種以上併用してもよく、限定はされない。

上記（２）の実施態様でいう光重合性モノマーとしては、限定はされないが、例えば、アルコキシポリエチレングリコール（ｎ＝１〜１０）モノ（メタ）アクリレート、アルコキシポリプロピレングリコール（ｎ＝１〜１０）モノ（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジアルキルエチル（メタ）アクリルアシド、Ｎ，Ｎ’−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、（メタ）アクリロイルモルホリン、イソボルニル（メタ）アクリレート等の光重合性の単官能性モノマー；エチレンジグリコール（メタ）アクリレート、プロピレンジグリコール（メタ）アクリレート類、ブチレンジグリコール（メタ）アクリレート類、ヘキシレンジグリコール（メタ）アクリレート類、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート類、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート類、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性グリセロール（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、メタアリル（メタ）アクリレート、トリアリル（イソ）シアヌレート、トリアリルトリメライト、ジビニルベンゼン類、ジ（メタ）アリルフタレート類、ジ（メタ）アクリロイルオキシエチルフタレート、ビニルフェニル（メタ）アリルエーテル、メチレンビス（メタ）アリルアクリルアミド等の光重合性の多官能性モノマー；等が挙げられる。これらは、１種のみ用いてもよいし２種以上併用してもよく、限定はされない。

上記（３）の実施態様でいう重合性モノマーとしては、限定はされないが、例えば、アルキル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレートおよびベンジル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル化合物類；スチレン、α−メチルスチレンおよびビニルナフタレンなどのスチレン類；等が挙げられる。これらは、１種のみ用いてもよいし２種以上併用してもよく、限定はされない。
上記（３）の実施態様でいう光重合開始剤としては、従来公知の光重合開始剤を用いることができ、限定はされないが、例えば、ベンジル、ベンゾインエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、２−ｎ−ブトキシエチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイルフォーメート、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等が挙げられる。これらは１種のみ用いてもよいし２種以上を併用してもよく、限定されない。

上記（３）の実施態様においては、光重合開始剤は重合性モノマーに対して、０．５〜３０重量％の範囲内で使用することが好ましく、より好ましくは２〜１５重量％である。
上記（１）〜（３）の各々の実施態様においては、感光性樹脂、光重合性モノマーあるいは重合性モノマーが、感光性材料全体に対し、６０重量％以上の割合となるように使用することが好ましく、より好ましくは７０重量％以上、さらに好ましくは８０重量％以上である。また、上記（１）〜（３）の実施態様のうちの２種以上を併せて適用した場合においては、感光性樹脂、光重合性モノマーおよび重合性モノマーの合計が、感光性材料全体に対し、６０重量％以上の割合となるように使用するのが好ましく、より好ましくは７０重量％以上、さらに好ましくは８０重量％以上である。

上記ネガ型の感光性材料においては、必要に応じ、その他の添加剤等、例えば、高分子結合剤等を含むことができる。上記その他の添加剤等を使用する場合は、感光性材料全体に対し、４０重量％以下の割合で使用することが好ましく、より好ましくは３０重量％以下、さらに好ましくは２０重量％以下である。
ポジ型の感光性材料の形態に当たる感光性樹脂としては、限定はされないが、例えば、ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸ノボラックエステル、ｏ−ジアゾナフトキノンスルホン酸ノボラックエステル、ポリフェニル（メタ）アクリレート、ポリ（ｐ−ホルミロキシスチレン）、ノボラック／ジヒドロピリジン化合物、ノボラック／ニフェジピン、Ｎ−ｔ−ブチロキシカルボニルマレイミド−スチレン共重合体等が挙げられる。また、紫外光によってポリマー主鎖が切断される物質、例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリメチルイソプロペニルケトン、ポリ（ｏ−ニトロベンズアルデヒドグリコールアセタール）なども、ポジ型の感光性材料として使用できる。

上記ポジ型の感光性材料においては、必要に応じ、その他の各種添加剤等を含むことができる。上記その他の添加剤等を使用する場合は、感光性材料全体に対し、４０重量％以下の割合で使用することが好ましく、より好ましくは３０重量％以下、さらに好ましくは２０重量％以下である。
＜シリカ微粒子＞
本発明でいうシリカ微粒子（シリカ系無機微粒子）は、下記一般式：
−Ｓｉ−Ｏ−
で表される構造単位を繰り返し単位とする３次元架橋構造を有する粒子であり、平均粒子径が０．２μｍ以下であるシリカ微粒子であることが重要である。この特定の粒子径のシリカ微粒子を用いることによって、前述した本発明の課題を容易に解決できる。上記シリカ微粒子の平均粒子径は、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０５μｍ以下である。上記平均粒子径が０．２μｍを超える場合、透明性（光の透過性）が低下し、フォトリソグラフィ技術を十分に適用することが困難となり、所望の形状のフォトレジストが得られないおそれがある。

本発明でいうシリカ微粒子は、その表面の少なくとも一部に有機基が結合してなることが好ましい。上記有機基を有することにより、感光性材料として用いる感光性樹脂、あるいは、感光性材料として用いた各種モノマーなどから得られる重合体との親和性を高めることができ、感光性材料中やフォトレジスト中において、シリカ微粒子どうしが凝集し大きな凝集体（二次粒子）となることを防ぐことができる。
上記有機基としては、限定はされないが、例えば、有機ポリマー残基やアルコキシ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基等が好ましく挙げられる。これら有機基は、シリカ微粒子表面への結合にあたり、１種のみ用いられても２種以上併用されていてもよく、限定はされない。

上記有機ポリマー残基としては、限定はされないが、例えば、（メタ）アクリル系ポリマー残基、エポキシ系ポリマー残基、スチレン系ポリマー残基、酢酸ビニル系ポリマー残基、ポリエチレンやポリプロピレン等のオレフィン系ポリマー残基、ポリ塩化ビニル残基、ポリ塩化ビニリデン残基、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル残基、および、これらの共重合体のポリマー残基や、アミノ基、エポキシ基、ヒドロキシ基およびカルボキシル基等の官能基で一部変性させた（置換した）ポリマー残基等が好ましく挙げられる。なかでも、（メタ）アクリル系ポリマー残基やエポキシ系ポリマー残基は、前述した親和性を特に高めることができ、シリカ微粒子どうしの凝集を効果的に抑制できるため、より好ましい。これら有機ポリマー残基は、シリカ微粒子表面へ結合させるに当たり、１種のみ用いてもよいし２種以上併用してもよく、限定はされない。

上記有機ポリマー残基は、アルカリ可溶性であることが好ましい。例えば、上記列挙した有機ポリマー残基のうち、カルボキシル基等の酸基や水酸基等を有するものなどがこれに該当する。アルカリ可溶性であると、現像処理が容易となり所望の形状のフォトレジストが得られやすい、などの効果が得られる。
上記有機ポリマー残基はまた、該残基中に二重結合を含む（二重結合基を有する）ものが好ましい。例えば、上記列挙した有機ポリマー残基のうち、（メタ）アクリル基等を有するものなどがこれに該当する。有機ポリマー残基中に二重結合を含むと、感光性材料として用いる感光性樹脂、あるいは、感光性材料として用いた各種モノマーなどから得られる重合体と反応して結合できるため、より強度の高いフォトレジストが得られやすい、などの効果が得られる。

上記有機ポリマー残基としては、その分子量、形状、組成および官能基の有無は、限定はされない。上記有機ポリマー残基の形状としては、限定はされず、例えば、直鎖状、分岐状および架橋構造等が挙げられる。
上記アルコキシ基としては、例えば、下記一般式（１）：
−（ＯＲ） （１）
（ただし、Ｒは、炭素数１から２０のアルキル基を表す。）
で表されるアルコキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１つであることが好ましいが、なかでも、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基およびｎ−ブトキシ基等は、前述した親和性を特に高めることができ、シリカ微粒子どうしの凝集を効果的に抑制できるため、好ましい。なお、これらアルコキシ基は、シリカ微粒子表面への結合にあたり、１種のみ用いられても２種以上併用されていてもよく、限定はされない。

上記アルキル基、アルケニル基、アリール基としては、例えば、下記一般式（２）：
−Ｒ^ａ （２）
（但し、Ｒ^ａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基のいずれかを表す。）
で表される群から選ばれる少なくとも１つであることが好ましいが、なかでも、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ビニル基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−アクリロキシプロピル基、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基、γ−グリシドキシプロピル基、フェニル基等は、前述した親和性を特に高めることができ、シリカ微粒子どうしの凝集を効果的に抑制できるために好ましい。また、有機基がアルケニル基である場合には、感光性材料として用いる感光性樹脂、あるいは感光性材料として用いた各種モノマーなどから得られる重合体と反応して結合できるため、より強度の高いフォトレジストが得られやすい、などの効果がある。なお、これらアルキル基、アルケニル基、アリール基は、シリカ微粒子表面への結合にあたり、１種のみ用いられても２種以上併用されていてもよく、限定はされない。

本発明でいうシリカ微粒子において、その表面に有機基が結合してなる場合、該有機基の含有割合は、限定はされないが、シリカ微粒子に対して１〜６０重量％であることが好ましく、より好ましくは２〜４５重量％、さらに好ましくは３〜３０重量％である。上記有機基の含有割合が１重量％未満であると、感光性材料中やフォトレジスト中でのシリカ微粒子の分散安定性が不十分になり、二次凝集物を形成するおそれがあり、６０重量％を超えると、シリカ微粒子の内部応力の緩和や減少の効果が十分に発揮されないおそれがあり、いずれにおいても、所望の形状のフォトレジストが得られないおそれがある。
上記有機基が有機ポリマー残基である場合、該有機ポリマー残基の含有割合は、限定はされないが、シリカ微粒子に対して１〜６０重量％であることが好ましく、より好ましくは２〜４５重量％、さらに好ましくは３〜３０重量％である。

上記有機基がアルコキシ基である場合、該アルコキシ基の含有割合は、限定はされないが、シリカ微粒子に対して１〜６０重量％であることが好ましく、より好ましくは２〜４５重量％、さらに好ましくは３〜３０重量％である。
上記有機基が、アルキル基、アルケニル基、アリール基から選ばれる少なくとも１種である場合、該アルキル基、アルケニル基、アリール基の含有割合は、限定はされないが、シリカ微粒子に対して１〜６０重量％であることが好ましく、より好ましくは２〜４５重量％、さらに好ましくは３〜３０重量％である。
本発明でいうシリカ微粒子は、例えば、下記１）〜３）で説明する方法等により調製することができる。以下では、シリカ微粒子の表面に結合させる有機基の種類に応じて説明するが、他の有機基も結合させてよいとする。

１） 有機基として有機ポリマー残基が結合している場合は、具体的には、以下の２つの方法が挙げられる。
１−１） １分子当たりに少なくとも１個のＳｉ−ＯＲ^２基またはポリシロキサン基を有し、さらに、該ポリシロキサン基を有する場合はその中に少なくとも１つのＳｉ−ＯＲ^２基を有する、少なくとも１種の有機ポリマーを、該有機ポリマーのみで、あるいは、加水分解可能なアルコキシシランとともに、加水分解・縮合して得る方法。（ただし、上記Ｒ^２は、水素原子、または、アルキル基およびアシル基から選ばれる置換されていてもよい基であり、Ｓｉ−ＯＲ^２基を１分子中に複数有する場合、複数のＲ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
１−２） アルコキシシランのゾルゲル反応により合成されたシリカ微粒子の表面シラノール基に、該シラノール基と反応し得る官能基（例えば、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基およびエポキシ基等）を１分子当たりに少なくとも１個有する少なくとも１種の有機ポリマーを、結合させて得る方法。

２） 有機基としてアルコキシ基が結合している場合は、具体的には、以下の２つの方法が挙げられる。
２−１） アルコキシシランのゾルゲル反応により合成されたシリカ微粒子の表面シラノール基をアルコール置換して得る方法。
２−２） ケイ酸塩から生成したシリカ微粒子の表面シラノール基をアルコキシ基で置換されたオルガノゾル（例えば、日産化学社製のメタノールシリカゾルやＩＰＡ−シリカゾル等。）を用いて得る方法。
３） 有機基としてアルキル基、アルケニル基、アリール基から選ばれる少なくとも１種が結合している場合。具体的には、以下の２つがある。

３−１）アルコキシシランとして、下記一般式（３）：
Ｒ^ｂ _ｎＳｉ（ＯＲ^ｃ）_４−ｎ （３）
（但し、Ｒ^ｂは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基から選ばれる少なくとも１種の有機基を表す。Ｒ^ｃは、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアシル基から選ばれる少なくとも１種の有機基を表す。ｎは１〜３の整数である。）
で示されるアルコキシシランを必須成分として少なくとも１種以上用いて加水分解・縮合反応して得る方法。

３−２）アルコキシシランのゾルゲル反応により合成されたシリカ微粒子の表面シラノール基と上記一般式（３）で示されるアルコキシシランを反応させて、アルキル基、アルケニル基、アリール基から選ばれる少なくとも１種を導入する方法。
上記１）〜３）の調製方法において、シリカ微粒子を得る場合等に用いるアルコキシシランとしては、下記一般式（４）：
Ｒ^ｂ _ｎＳｉ（ＯＲ^ｃ）_４−ｎ （４）
（但し、Ｒ^ｂは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基から選ばれる少なくとも１種の有機基を表す。Ｒ^ｃは、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアシル基から選ばれる少なくとも１種の有機基を表す。ｎは０〜３の整数である。）
で示されるアルコキシシランが用いられ、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラアセトキシシラン等の、上記一般式（４）でｎ＝０の４官能性シラン；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３，４−エポキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等の、上記一般式（４）でｎ＝１の３官能性シラン；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等の、上記一般式（４）でｎ＝２の２官能性シラン；トリメチルメトキシシラン、トリメチルフェノキシシラン等の、上記一般式（４）でｎ＝３の１官能性シラン；などを挙げることができる。これらは１種のみ用いられても２種以上併用されていてもよく、特に限定はされない。

また、シリカ微粒子を得る場合においては、これらアルコキシシランの他に、フォトレジスト（フォトスペーサ等）の屈折率を調整して透明性を高めることを目的として、他の金属アルコキシド、例えば、アルコキシチタン、アルコキシアルミニウムおよびアルコキシジルコニウム等を導入して用いることもできる。上記他の金属酸化物等は、上記硬化体の透明性を失わない範囲で導入することが好ましい。
上記シリカ微粒子の形状は、限定はされることはなく、例えば、球状、針状、板状、鱗片状および破砕粒状などが挙げられる。
＜組成物＞
本発明のフォトレジスト用組成物に含まれる感光性材料およびシリカ微粒子の含有割合は、限定はされないが、フォトレジスト用組成物全体に対して、感光性材料およびシリカ微粒子の合計が、１０重量％以上であることが好ましく、より好ましくは３０重量％以上、さらに好ましくは５０重量％以上である。感光性材料およびシリカ微粒子の含有割合が、１０重量％未満であると、所望の形状・寸法のフォトレジストが得られにくく、例えば、スペーサ形成のために用いた場合、その高さが不十分となるおそれがある。

本発明のフォトレジスト用組成物においてはまた、シリカ微粒子の含有割合は、限定はされないが、感光性材料全体に対して、５〜２００重量％であることが好ましく、より好ましくは１０〜１５０重量％、さらに好ましくは２０〜１００重量％である。感光性材料およびシリカ微粒子の含有割合が、５重量％未満であると、フォトレジストの強度（例えば、スペーサの形成に用いた場合は、フォトスペーサの強度）が不十分となるおそれがあり、２００重量％を超えると、シリカ微粒子どうしが凝集しやすくなり、所望の形状のフォトレジストが得られにくくなるおそれがある。
本発明のフォトレジスト用組成物は、前述のごとく感光性材料およびシリカ微粒子を含むものであるが、限定はされず、必要に応じて他の成分を含んでいてもよい。

上記他の成分として、例えば、溶剤、増粘剤、レベリング剤、消泡剤および増感剤等を含むことができる。これら他の成分を含む場合、その含有割合は、感光性材料およびシリカ微粒子の合計に対して、１０重量％以下の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは５重量％以下、さらに好ましくは３重量％以下である。
上記溶剤としては、限定はされず、例えば、アルコール類、セロソルブ類、ケトン類、セロソルブアセテート類、エーテル類、炭化水素類、および、水等が挙げられる。これらは１種のみ用いてもよいし２種以上併用してもよく、限定はされない。
本発明のフォトレジスト用組成物の形態は、限定はされず、感光性材料、シリカ微粒子および前記他の成分を、予め混合等の公知の手段により一体化させてなる形態であってもよいし、少なくとも１種の成分を分離させた形態であってもよい。分離させた形態としては、例えば、感光性材料やシリカ微粒子や前記他の成分をそれぞれ独立に取り扱えるように別々に包装・梱包しているような組成物が挙げられ、この場合は、その後、実際の使用場面等を考慮して適宜必要なときに混合等の公知の手段により一体化させるようにすればよい。

本発明のフォトレジスト用組成物については、その使用用途は、限定はされないが、後述するように、液晶表示装置用スペーサの形成用や、液晶表示装置用カラーフィルタ基板に固定されているスペーサの形成用などが好ましく挙げられる。また、後述する遮光性物質を併用することにより液晶表示装置用カラーフィルタのブラックマトリクス（非画素領域）の作製用としても好ましく用いることができる。
本発明のフォトレジスト用組成物をブラックマトリクス（非画素領域）の作製に使用する場合、感光性材料としては前述したものと同様のものを使用できるが、光硬化や光重合に必要な光（紫外線等）を、ブラックマトリクス用にさらに含有させている遮光性物質が吸収してしまうおそれがあるため、より高感度な感光性材料を使用することが好ましい。

上記遮光性物質としては、限定はされないが、例えば、カーボンブラック、カーボンブラックグラフトポリマー、黒色有機顔料、チタンブラック、鉄黒、クロム黒等を使用することができる。なかでも、感光性樹脂への分散性に優れる点で、カーボンブラックにポリマーがグラフトしたカーボンブラックグラフトポリマーが好ましく、感光性材料と化学結合して強固なブラックマトリクスが得られる点で、感光性材料と反応可能な官能基を有するポリマーがグラフトしたカーボンブラックグラフトポリマーがより好ましく、二重結合基を有するポリマーがグラフトしたカーボンブラックグラフトポリマーがさらに好ましい。上記遮光性物質の含有割合は、感光性材料に対して、１０〜９０重量％であることが好ましく、より好ましくは２０〜７０重量％である。

本発明のフォトレジスト用組成物を用いて、液晶表示装置用カラーフィルタのブラックマトリクス（非画素領域）を作製するに当たっては、フォトリソグラフィ技術により露光および現像等の処理を行うことが好ましい。
一般に、フォトレジスト用組成物に含まれる感光性材料がネガ型の場合は、露光された部分が現像液に対して耐溶剤性を示すようになり、未露光部分が現像液により除去されるため、スペーサを形成する部分が露光されるようなパターンを有するフォトマスクを用いる。逆に、感光性材料がポジ型の場合は、露光された部分が現像液に対する溶剤性を失うようになり、露光部分が現像液により除去されるため、スペーサを形成しない部分が露光されるようなパターンを有するフォトマスクを用いる。

フォトリソグラフィ技術を用いたブラックマトリクスの作製方法としては、具体的には限定はされないが、例えば次のような方法が挙げられる。すなわち、透明基板上に、各画素を形成した後、この透明基板および画素上の全面に本発明のフォトレジスト用組成物を膜状に塗布する。そして、この塗布膜を、所望のパターンのフォトマスクを介した紫外線照射により露光し、露光後は現像液を用いて不要な部分を除去し、必要に応じてポストベーク処理して、各画素とブラックマトリクスとからなるカラーフィルタを得る方法である。
上記作製方法においては、フォトレジスト用組成物の塗布膜の厚みは、露光および現像等の後に得られるフォトレジストがブラックマトリクスとしての役割を果たし得る範囲であれば、限定はされない。

上記作製方法においては、フォトリソグラフィ技術を実施するに際しての方法および条件については、後述する方法Ａ１や方法Ｂ１等と同様であることが好ましい。
上記作製方法により得られたカラーフィルタは、液晶表示装置の一方の電極基板（カラーフィルタ側電極基板）の一部として使用されるのが通常の態様である。また、このカラーフィルタの具体的な使用用途は、限定はされず、従来のカラーフィルタと同様の用途、例えば、テレビ、モニター、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、カーナビゲーションシステム、ＤＶＤ、デジタルビデオカメラおよびＰＨＳ（携帯情報端末）などにおける画像表示素子の一部（カラーフィルタ）として好適に使用することができる。

〔液晶表示装置〕
本発明にかかる液晶表示装置は、対向面に透明電極を有する一対の透明基板の間に液晶層を備え、前記液晶層の厚みを一定にするためのスペーサが前記液晶層中に配置されている液晶表示装置において、前記スペーサが本発明にかかるフォトレジスト用組成物から形成されてなるものである。本発明にかかる液晶表示装置はまた、必要に応じて、前記透明基板の片方にカラーフィルタが設けられている。
本発明の液晶表示装置の実施態様を表す概略断面図を、図１および図２により２つ例示するが、これらに限定はされるわけではない。

図１に示す液晶表示装置は、液晶層７を介して（挟んで）対向配置された一対の電極基板（第１電極基板１１０と第２電極基板１２０）と、面内スペーサ８とを備える。第１電極基板１１０は、第１透明基板１１と、第１透明基板１１の表面に形成された透明電極５とを有する。第２電極基板１２０は、第２透明基板１２と、その上に形成されたカラーフィルタ２３（赤、緑および青の各画素２２とブラックマトリクス２１とからなる。）と、さらにその上に形成されたカラーフィルタ表面の凹凸を埋めるための絶縁性の平坦化膜２４と、さらにその上に形成された透明電極５と、さらにその上に形成された配向膜２５とを有する。第１電極基板１１０と第２電極基板１２０とはその周辺部でシール材２によって接着されている。図１に示す液晶表示装置では、面内スペーサ８は、前記配向膜２５の表面の非画素領域に対応する部分に選択的に形成され、前記液晶層７中に分散配置されており、前記液晶層の厚み（ひいては前記透明基板の間隔）を保持するものである。シール材２中に分散するシール部スペーサ（図示せず）も面内スペーサ８と同様の役割を担う。液晶層７は、第１電極基板１１０と第２電極基板１２０との間に封入されており、第１電極基板１１０と第２電極基板１２０とシール材２とで囲まれた空間に充填されている。なお、図１では、カラーフィルタを有する液晶表示装置を示すが、カラー表示対応でない場合にはカラーフィルタは不要である。

図２に示す液晶表示装置は、液晶層７を介して（挟んで）対向配置された一対の電極基板（第１電極基板１１０と第２電極基板１２０）と、面内スペーサ８とを備える。第１電極基板１１０は、第１透明基板１１と、第１透明基板１１の表面に形成された透明電極５とを有する。第２電極基板１２０は、第２透明基板１２と、その上に形成されたカラーフィルタ２３（赤、緑および青の各画素２２とブラックマトリクス２１とからなる。）と、さらにその上に形成されたカラーフィルタ表面の凹凸を埋めるための絶縁性の平坦化膜２４と、さらにその上に形成された透明電極５と、さらにその上に形成された配向膜２５とを有する。第１電極基板１１０と第２電極基板１２０とはその周辺部でシール材２によって接着されている。図２に示す液晶表示装置では、面内スペーサ８は、直接、前記カラーフィルタ２３のブラックマトリクス２１（非画素領域）部分に選択的に形成され、その一部が配向膜２５の上に突出して前記液晶層７中に介在するかたちで分散配置されており、前記液晶層の厚み（ひいては前記透明基板の間隔）を保持するものである。シール材２中に分散するシール部スペーサ（図示せず）も面内スペーサ８と同様の役割を担う。液晶層７は、第１電極基板１１０と第２電極基板１２０との間に封入されており、第１電極基板１１０と第２電極基板１２０とシール材２とで囲まれた空間に充填されている。なお、図２の液晶表示装置では、面内スペーサ８は、カラーフィルタ２３のブラックマトリクス２１の作製とは別の工程で形成されたものであってもよいし、ブラックマトリクス２１の作製の工程において予めブラックマトリクスとしてだけではなく面内スペーサとしての役割をも担うように形成されたものであってもよく、限定はされない。後者の場合、ブラックマトリクス２１の作製材料として、本発明のフォトレジスト用組成物を用いればよいが、ブラックマトリクスとしての役割を担うよう、遮光性物質等の各種必要な成分を配合しておくようにする。

本発明の液晶表示装置においては、上述のごとく、面内スペーサ８は非画素領域に形成され配置されることが好ましい。画素領域にスペーサが存在すると、スペーサの存在部分が不透明となって表示されず、また、スペーサ自身やその周囲の液晶の配向乱れにより、スペーサ部分またはスペーサ周囲にバックライトの光抜けが発生するおそれもある。したがって、スペーサを非画素領域に形成することについて液晶表示装置の表示方式ごと説明すると、ＴＮモードの場合は、文字や図案の周辺や間隙等、表示に直接かかわらない領域のみにスペーサを形成し配置することが好ましく、ＳＴＮモードの場合は、電極基板の透明電極がストライプ状に配列されているので、それらの透明電極の間隙にスペーサを形成し配置することが好ましく、ＴＦＴやＳＴＮのカラー表示の場合は、カラーフィルタの画素（赤、緑および青）以外の部分（すなわちブラックマトリクス）またはその上部に形成し配置することが好ましい。そして、カラーフィルタを備える電極基板と対向する相手方の電極基板上にスペーサを設ける場合は、ブラックマトリクスに対応する位置に形成し配置することが好ましい。

本発明の液晶表示装置は、前記スペーサ（上記面内スペーサ８）の形成が、本発明にかかるフォトレジスト用組成物を用い、フォトリソグラフィ技術により露光および現像等の処理を行って、なされていることが好ましい。
一般に、フォトレジスト用組成物に含まれる感光性材料がネガ型の場合は、露光された部分が現像液に対して耐溶剤性を示すようになり、未露光部分が現像液により除去されるため、スペーサを形成する部分が露光されるようなパターンを有するフォトマスクを用いる。逆に、感光性材料がポジ型の場合は、露光された部分が現像液に対する溶剤性を失うようになり、露光部分が現像液により除去されるため、スペーサを形成しない部分が露光されるようなパターンを有するフォトマスクを用いる。

図１に示す液晶表示装置における、フォトリソグラフィ技術を用いた前記スペーサの形成方法（方法Ａ１）としては、具体的には限定はされないが、例えば次のような方法が挙げられる。すなわち、透明基板上に、各画素とブラックマトリクスとからなるカラーフィルタ、平坦化膜、透明電極および配向膜を常法にしたがって形成し積層した後、上記配向膜上の全面に本発明のフォトレジスト用組成物を、スペーサとしての役割を考慮し所望の厚みとなるように層状に塗布する。そして、この塗布層を、所望のパターンのフォトマスクを介した紫外線照射により露光し、露光後は現像液を用いて不要な部分を除去し、必要に応じてポストベーク処理する方法である。

方法Ａ１においては、フォトレジスト用組成物の塗布層の厚みは、露光および現像等の後に得られるフォトレジストがスペーサとしての役割を果たし得る範囲であれば、限定はされないが、例えば、得られたフォトレジストの厚みが１〜１５μｍとなるようにすることが好ましく、より好ましくは１〜１０μｍ、さらに好ましくは１〜８μｍである。上記範囲を下回る場合は、第１および第２の両電極基板が折衝しやすくなり、ショートして表示できなくなるおそれがあり、上記範囲を上回る場合は、液晶の応答速度が遅くなり表示性能が低下するおそれがある。
方法Ａ１において、フォトリソグラフィ技術における露光、現像およびポストベーク処理を実施するに際しては、公知の方法および条件を適宜採用すればよく、限定はされない。

図２に示す液晶表示装置における、フォトリソグラフィ技術を用いた前記スペーサの形成方法（方法Ａ２）としては、具体的には限定はされないが、例えば次のような方法が挙げられる。すなわち、透明基板上に、各画素とブラックマトリクスとからなるカラーフィルタを作製した後（または、ブラックマトリクスの作製をも兼ねる態様で）、このカラーフィルタの全面に本発明のフォトレジスト用組成物を、スペーサとしての役割を考慮し所望の厚みとなるように層状に塗布する。そして、この塗布層を、所望のパターンのフォトマスクを介した紫外線照射により露光し、露光後は現像液を用いて不要な部分を除去し、必要に応じてポストベーク処理した後、フォトレジスト部分の一部（上部）がスペーサとしての役割を担い得るよう突出するように、フォトレジスト以外の部分に平坦化膜、透明電極および配向膜を常法にしたがって形成し積層する方法である。この場合、上下電極基板間のショートを回避するため、前記突出部分の上に透明電極が存在することのないように注意する必要がある。

方法Ａ２においては、フォトレジスト用組成物の塗布層の厚みは、露光および現像等の後に得られるフォトレジストがスペーサとしての役割を果たし得る範囲であれば、限定はされないが、例えば、得られたフォトレジストの厚みは、その配向膜上に突出した部分のみの厚みが上記方法Ａ１で記載した好ましい厚みの範囲を満たしていることが好ましい。
方法Ａ２において、フォトリソグラフィ技術における露光、現像およびポストベーク処理を実施するに際しては、公知の方法および条件を適宜採用すればよく、限定はされない。
本発明の液晶表示装置においては、上述した各種方法等により形成させるスペーサの形状（断面形状）は、限定されるわけではないが、柱状および半円状が液晶層の厚みをより確実に一定に保つことができるため好ましい。

本発明の液晶表示装置において、面内スペーサ以外の各構成部品・構成材料（電極基板（透明基板、カラーフィルタ、平坦化膜、透明電極および配向膜等）、偏光膜、シール材および液晶材料（液晶および媒体等）等）については、従来公知の液晶表示装置に用いられていたものと同様のものを適宜選択し、従来と同様に使用することができ、限定はされない。例えば、透明基板としては、ガラス基板およびフィルム基板などが使用できる。
本発明の液晶表示装置は、前記方法Ａ１や方法Ａ２等の方法により、面内スペーサを形成した一方の電極基板を得た後、この電極基板に、シール部分にスクリーン印刷等の手段によりシール材（必要に応じてシール部スペーサを分散させてなる接着シール材）を塗布してなるもう一方の電極基板を載せて、適度の圧力を加えた状態で、１００〜１８０℃の温度で１〜６０分間加熱するか、または、照射量４０〜３００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射することにより、前記シール材を硬化させた後、電極基板間に液晶材料を注入し、さらに注入部を封止することで製造することができるが、この方法に限定されるわけではなく、適宜所望の手順や条件を採用して製造できる。

本発明の液晶表示装置の使用用途は、限定はされず、従来の液晶表示装置と同様の用途、例えば、テレビ、モニター、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、カーナビゲーションシステム、ＤＶＤ、デジタルビデオカメラおよびＰＨＳ（携帯情報端末）などにおける画像表示素子として好適に使用することができる。
〔液晶表示装置用カラーフィルタ基板〕
本発明にかかる液晶表示装置用カラーフィルタ基板（以下、本発明のカラーフィルタ基板と称することがある。）は、カラーフィルタ上に少なくとも透明電極と配向膜とが積層されてなり、非画素領域には液晶層の厚みを一定にするためのスペーサが固定されている液晶表示装置用カラーフィルタ基板において、前記スペーサが本発明にかかるフォトレジスト用組成物から形成されてなるものである。なお、本発明のカラーフィルタ基板においては、カラーフィルタ自体が、透明基板等の液晶表示装置に用い得る各種部材上に備えられ一体化している形態も含むものとする。

本発明のカラーフィルタ基板の具体的な実施態様としては、限定はされないが、（１）前記配向膜上の非画素領域に当たる部分に前記スペーサが固定されている態様や、（２）前記カラーフィルタ上の非画素領域に前記スペーサが固定されている態様、などが好ましく挙げられる。以下に、これら２つの実施態様を図１および図２を用いて説明するが、これらに限定されるわけではない。
上記（１）の態様のカラーフィルタ基板を、図１の液晶表示装置の中で説明すると、カラーフィルタ２３（赤、緑および青の各画素２２とブラックマトリクス２１とからなる。）と、さらにその上に形成されたカラーフィルタ表面の凹凸を埋めるための絶縁性の平坦化膜２４と、さらにその上に形成された透明電極５と、さらにその上に形成された配向膜２５とを有するとともに、配向膜２５の上の非画素領域に当たる部分に、本発明にかかるフォトレジスト用組成物から形成された面内スペーサ８を所望の厚みで有する、カラーフィルタ基板を挙げることができる。

上記（２）の態様のカラーフィルタ基板を、図２の液晶表示装置の中で説明すると、カラーフィルタ２３（赤、緑および青の各画素２２とブラックマトリクス２１とからなる。）と、さらにその上に形成されたカラーフィルタ表面の凹凸を埋めるための絶縁性の平坦化膜２４と、さらにその上に形成された透明電極５と、さらにその上に形成された配向膜２５とを有するとともに、カラーフィルタ２３のブラックマトリクス２１（非画素領域）部分に、本発明にかかるフォトレジスト用組成物から形成された面内スペーサ８を所望の厚みで有する、カラーフィルタ基板を挙げることができる。なお、このカラーフィルタ基板においては、面内スペーサ８は、カラーフィルタ２３のブラックマトリクス２１の作製とは別の工程で形成されたものであってもよいし、ブラックマトリクス２１の作製の工程において予めブラックマトリクスとしてだけではなく面内スペーサとしての役割をも担うように形成されたものであってもよく、限定はされない。後者の場合、ブラックマトリクス２１の作製材料として、本発明のフォトレジスト用組成物を用いればよいが、ブラックマトリクスとしての役割を担うよう、遮光性物質等の各種必要な成分を配合しておくようにする。

本発明のカラーフィルタ基板においては、上述のごとく、面内スペーサ８は非画素領域に形成され配置されることが好ましい。画素領域にスペーサが存在すると、このカラーフィルタ基板を液晶表示装置に用いた場合に、スペーサの存在部分が不透明となって表示されず、また、スペーサ自身やその周囲の液晶の配向乱れにより、スペーサ部分またはスペーサ周囲にバックライトの光抜けが発生するおそれもある。したがって、ＴＦＴやＳＴＮのカラー表示の場合は、カラーフィルタの画素（赤、緑および青）以外の部分（すなわちブラックマトリクス）またはその上部に形成し配置することが好ましい。
本発明のカラーフィルタ基板は、前記スペーサ（上記面内スペーサ８）の形成が、本発明にかかるフォトレジスト用組成物を用い、フォトリソグラフィ技術により露光および現像等の処理を行って、なされていることが好ましい。

一般に、フォトレジスト用組成物に含まれる感光性材料がネガ型の場合は、露光された部分が現像液に対して耐溶剤性を示すようになり、未露光部分が現像液により除去されるため、スペーサを形成する部分が露光されるようなパターンを有するフォトマスクを用いる。逆に、感光性材料がポジ型の場合は、露光された部分が現像液に対する溶剤性を失うようになり、露光部分が現像液により除去されるため、スペーサを形成しない部分が露光されるようなパターンを有するフォトマスクを用いる。
上記（１）の態様のカラーフィルタ基板における、フォトリソグラフィ技術を用いた前記スペーサの形成方法（方法Ｂ１）としては、具体的には限定はされないが、例えば次のような方法が挙げられる。すなわち、各画素とブラックマトリクスとからなるカラーフィルタ、平坦化膜、透明電極および配向膜を常法にしたがって形成し積層した後、上記配向膜上の全面に本発明のフォトレジスト用組成物を、スペーサとしての役割を考慮し所望の厚みとなるように層状に塗布する。そして、この塗布層を、所望のパターンのフォトマスクを介した紫外線照射により露光し、露光後は現像液を用いて不要な部分を除去し、必要に応じてポストベーク処理する方法である。

方法Ｂ１においては、フォトレジスト用組成物の塗布層の厚みや、フォトリソグラフィ技術を実施するに際しての方法および条件については、前述した方法Ａ１と同様である。
上記（２）の態様のカラーフィルタ基板における、フォトリソグラフィ技術を用いた前記スペーサの形成方法（方法Ｂ２）としては、具体的には限定はされないが、例えば次のような方法が挙げられる。すなわち、各画素とブラックマトリクスとからなるカラーフィルタを作製した後（または、ブラックマトリクスの作製をも兼ねる態様で）、このカラーフィルタの全面に本発明のフォトレジスト用組成物を、スペーサとしての役割を考慮し所望の厚みとなるように層状に塗布する。そして、この塗布層を、所望のパターンのフォトマスクを介した紫外線照射により露光し、露光後は現像液を用いて不要な部分を除去し、必要に応じてポストベーク処理した後、フォトレジスト部分の一部（上部）がスペーサとしての役割を担い得るよう突出するように、フォトレジスト以外の部分に平坦化膜、透明電極および配向膜を常法にしたがって形成し積層する方法である。この場合、得られたカラーフィルタ基板を液晶表示装置に用いた際の、上下電極基板間のショートを回避するため、前記突出部分の上に透明電極が存在することのないように注意する必要がある。

方法Ｂ２においては、フォトレジスト用組成物の塗布層の厚みや、フォトリソグラフィ技術を実施するに際しての方法および条件については、前述した方法Ａ２と同様である。
本発明のカラーフィルタ基板においては、上述した各種方法等により形成させるスペーサの形状（断面形状）は、限定されるわけではないが、柱状および半円状が液晶層の厚みをより確実に一定に保つことができるため好ましい。
本発明のカラーフィルタ基板において、面内スペーサ以外の各構成部品・構成材料（カラーフィルタ、平坦化膜、透明電極および配向膜等）については、従来公知のカラーフィルタ基板に用いられていたものと同様のものを適宜選択し、従来と同様に使用することができ、限定はされない。具体的には、本発明の液晶表示装置の説明における例示が同様に適用できる。

本発明のカラーフィルタ基板は、前記方法Ｂ１や方法Ｂ２等の方法により得た後、液晶表示装置の一方の電極基板の一部として使用されるのが通常の態様である。また、本発明のカラーフィルタ基板の具体的な使用用途は、限定はされず、従来のカラーフィルタ基板と同様の用途、例えば、テレビ、モニター、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、カーナビゲーションシステム、ＤＶＤ、デジタルビデオカメラおよびＰＨＳ（携帯情報端末）などにおける画像表示素子の一部（カラーフィルタ基板）として好適に使用することができる。

以下に、実施例および比較例によって本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下では、便宜上、「重量部」を単に「部」と、「リットル」を単に「Ｌ」と記すことがある。また、「重量％」を「ｗｔ％」と記すことがある。
〔合成例１〕 重合性ポリシロキサン（Ｓ−１）の合成
撹拌機、温度計および冷却管を備えた３００ｍＬの四つ口フラスコに、テトラメトキシシラン１４４．５ｇ、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２３．６ｇ、水１９ｇ、メタノール３０．０ｇおよびアンバーリスト１５（ローム・アンド・ハース・ジャパン社製の陽イオン交換樹脂）５．０ｇを入れ、６５℃で２時間撹拌し、反応させた。

反応混合物を室温まで冷却した後、冷却管に代えて、蒸留塔およびこれに接続させた冷却管および流出口を設け、常圧下、８０℃まで２時間かけて昇温し、メタノールが流出しなくなるまで同温度で保持した。
さらに、２７ｋＰａの圧力下、９０℃の温度で、メタノールが流出しなくなるまで同温度で保持し、反応をさらに進行させた。再び、室温まで冷却した後、アンバーリスト１５を濾別し、数平均分子量が１，８００の重合性ポリシロキサン（Ｓ−１）を得た。
〔合成例２〕 有機ポリマー（Ｐ−１）の合成
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えた１Ｌのフラスコに、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下では、「ＰＧＭＥＡ」と略する。）２００ｇを入れ、窒素ガスを導入し、撹拌しながらフラスコ内温を１１０℃まで加熱した。

次いで、合成例１で得られた重合性ポリシロキサン（Ｓ−１）２０ｇ、メチルメタクリレート１００ｇ、２−エチルヘキシルメタクリレート６０ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２０ｇおよび２，２’−アゾビスイソブチロニトリル６ｇを混合した溶液を滴下口より２時間かけて滴下した。滴下後も同温度で１時間撹拌し続けた後、１，１’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロへキサン０．４ｇを３０分おきに２回添加し、さらに２時間加熱して共重合を行い、数平均分子量が１０，０００の有機ポリマー（Ｐ−１）のＰＧＭＥＡ溶液を得た。
〔合成例３〕 有機ポリマー残基結合シリカ微粒子分散体（Ｚ−１）の合成
撹拌機、２つの滴下口（滴下口（イ）および（ロ））、温度計を備えた１Ｌの四つ口フラスコに、ＰＧＭＥＡ４００ｇ、メタノール１００ｇを入れておき、内温を２０℃に調整した。

次いで、フラスコ内を撹拌しながら、合成例２で得られた有機ポリマー（Ｐ−１）のＰＧＭＥＡ溶液１２ｇ、テトラメトキシシラン６０ｇおよびＰＧＭＥＡ４０ｇの混合液（原料液Ａ）を滴下口（イ）から、２５％アンモニア水４０ｇおよびメタノール４０ｇの混合液（原料液Ｂ）を滴下口（ロ）から、それぞれ１時間かけて滴下した。滴下後は、同温度で２時間撹拌を続けた。
その後、１５ｋＰａの圧力下、フラスコ内の温度を１００℃まで昇温し、アンモニア、水、メタノールおよびＰＧＭＥＡを固形分濃度が３０ｗｔ％になるまで留去することにより、有機ポリマー残基が表面に結合してなるシリカ微粒子がＰＧＭＥＡに分散した分散体（Ｚ−１）を得た。該微粒子の平均粒子径は０．０２５μｍであった。

〔合成例４〕 有機ポリマー（Ｐ−２）の合成
合成例２において、有機モノマーとしてさらにメタクリル酸１０ｇを共に用いるようにした以外は、合成例２と同様にして、数平均分子量が１１，０００の有機ポリマー（Ｐ−２）のＰＧＭＥＡ溶液を得た。
〔合成例５〕有機ポリマー残基結合シリカ微粒子分散体（Ｚ−２）の合成
合成例３において、有機ポリマー（Ｐ−１）のＰＧＭＥＡ溶液の代わりに、有機ポリマー（Ｐ−２）のＰＧＭＥＡ溶液を用いるようにした以外は、合成例３と同様にして、カルボキシル残基を有する有機ポリマー残基が表面に結合してなるシリカ微粒子がＰＧＭＥＡに分散した分散体（Ｚ−２）を得た。該微粒子の平均粒子径は０．０３０μｍであった。

〔合成例６〕 有機ポリマー残基結合シリカ微粒子分散体（Ｚ−３）の合成
合成例５で得られた分散体（Ｚ−２）に対し、該分散体（Ｚ−２）中のシリカ微粒子表面の有機ポリマー残基に含有される水酸基と当量の、メタクリルイソシアネートを混合し、室温中で５時間撹拌を続け、二重結合基およびカルボキシル残基を有する有機ポリマー残基が表面に結合してなるシリカ微粒子がＰＧＭＥＡに分散した分散体（Ｚ−３）を得た。該微粒子の平均粒子径は０．０３０μｍであった。
〔合成例７〕 シリカ微粒子分散体（Ｚ−４）の合成
撹拌機、２つの滴下口（滴下口（イ）および（ロ））、温度計を備えた１Ｌの四つ口フラスコに、ＰＧＭＥＡ４００ｇおよびエタノール１００ｇを入れておき、内温を２０℃に調整した。ついでフラスコ内を撹拌しながら、ＰＧＭＥＡ溶液４０ｇ、テトラメトキシシラン６０ｇおよびＰＧＭＥＡ４０ｇの混合液（原料液Ａ）を滴下口（イ）から、２５％アンモニア水４０ｇおよびメタノール４０ｇの混合液（原料液Ｂ）を滴下口（ロ）から、それぞれ１時間かけて滴下した。滴下後、同温度で２時間撹拌を続けた。

その後、１５ｋＰａの圧力下、フラスコ内の温度を１００℃まで昇温し、アンモニア、水、エタノールおよびＰＧＭＥＡを固形分濃度が３０ｗｔ％になるまで留去することにより、シリカ微粒子がＰＧＭＥＡに分散した分散体（Ｚ−４）を得た。該微粒子の平均粒子径は０．０４０μｍであった。
〔合成例８〕 シラノール基と反応可能な有機ポリマー（Ｐ−３）の合成
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えた１Ｌのフラスコに、有機溶剤としてＰＧＭＥＡ２００ｇを入れ、窒素ガスを導入し、撹拌しながらフラスコ内温を１１０℃まで加熱した。

次いで、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２０ｇ、メチルメタクリレート１００ｇ、２−エチルヘキシルメタクリレート６０ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２０ｇおよび２，２’−アゾビスイソブチロニトリル６ｇを混合した溶液を滴下口より２時間かけて滴下した。滴下後も同温度で１時間撹拌し続けた後、１，１’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロへキサン０．４ｇを３０分おきに２回添加し、さらに２時間加熱して共重合を行い、数平均分子量が１２，０００の有機ポリマー（Ｐ−３）のＰＧＭＥＡ溶液を得た。
〔合成例９〕 有機ポリマー残基結合シリカ微粒子分散体（Ｚ−５）の合成
撹拌機、温度計および冷却管を備えた３００ｍＬの四つ口フラスコに、合成例７で得られた分散体（Ｚ−４）１００ｇと、合成例８で得られた有機ポリマー（Ｐ−３）のＰＧＭＥＡ溶液１０ｇを入れ、１１０℃で２時間加熱した。

その後、１５ｋＰａの圧力下、フラスコ内の温度を１００℃で、メタノール、トルエンおよびＰＧＭＥＡを固形分濃度が３０ｗｔ％になるまで留去することにより、有機ポリマー残基が表面に結合してなるシリカ微粒子がＰＧＭＥＡに分散した分散体（Ｚ−５）を得た。該微粒子の平均粒子径は０．０３４μｍであった。
〔合成例１０〕 有機ポリマー（Ｐ−４）の合成
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えた１Ｌのフラスコに、有機溶剤としてＰＧＭＥＡ２００ｇを入れ、窒素ガスを導入し、撹拌しながらフラスコ内温を１１０℃まで加熱した。次いで、メチルメタクリレート１００ｇ、２−エチルヘキシルメタクリレート６０ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート６０ｇおよび２，２’−アゾビスイソブチロニトリル６ｇを混合した溶液を滴下口より２時間かけて滴下した。滴下後も同温度で１時間撹拌し続けた後、１，１’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロへキサン０．４ｇを３０分おきに２回添加し、さらに２時間加熱して共重合を行い、数平均分子量が１０，０００の有機ポリマー（Ｐ−４）のＰＧＭＥＡ溶液を得た。

〔合成例１１〕 有機ポリマー残基結合シリカ微粒子分散体（Ｚ−６）の合成
撹拌機、温度計および冷却管を備えた３００ｍＬの四つ口フラスコに、合成例７で得られた分散体（Ｚ−４）１００ｇと、合成例１０で得られた有機ポリマー（Ｐ−４）のＰＧＭＥＡ溶液１０ｇを入れ、１１０℃で２時間加熱した。
その後、１５ｋＰａの圧力下、フラスコ内の温度を１００℃で、水、メタノール、ＰＧＭＥＡを固形分濃度が３０ｗｔ％になるまで留去することにより、有機ポリマー残基が表面に結合してなるシリカ微粒子がＰＧＭＥＡに分散した分散体（Ｚ−６）を得た。該微粒子の平均粒子径は０．０４０μｍであった。

〔合成例１２〕 アルコキシ基結合シリカ微粒子分散体（Ｚ−７）の合成
１Ｌのナス型フラスコに、日産化学社製のメタノールシリカゾル（平均粒子径：０．０２０μｍ、メタノール：３０ｗｔ％）１５０ｇおよびＰＧＭＥＡ１５０ｇを投入した後、ロータリーエバポレーターを使って、１５ｋＰａの圧力下、フラスコ内の温度を１００℃で、メタノールおよびＰＧＭＥＡを固形分濃度３０ｗｔ％になるまで留去することにより、メトキシ基が表面に結合してなるシリカ微粒子がＰＧＭＥＡに分散した分散体（Ｚ−７）を得た。該微粒子の平均粒子径は０．０２０μｍであった。
〔合成例１３〕 有機基結合シリカ微粒子分散体（Ｚ−８）の合成
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管を備えた１Ｌのフラスコに、水酸化ナトリウム水溶液（０．０２４重量％）４５０ｇを入れ、塩化ベンゼトニウム９ｇを加えて室温で溶解させた。次に、メチルトリメトキシシラン９０ｇを滴下口より２時間かけて滴下し、そのまま３時間攪拌を行った後、さらに滴下口よりトリメチルフェノキシシラン１０ｇを３０分かけて滴下し、そのまま１時間攪拌を行うことにより、メチル基が結合したシリカ微粒子の水分散体が得られた。続いて、反応液にメタノール１０００ｇを加えてシリカ微粒子を凝集させた後、遠心分離により固液分離を行い、水、メタノールを除去した。得られたケーキを攪拌機を備えた１Ｌのフラスコに移し、メチルイソブチルケトン１０００ｇを加えて３時間攪拌を行い、シリカ微粒子をメチルイソブチルケトンに分散させた。続いて、固形分濃度が３０重量％になるまでメチルイソブチルケトンの濃縮を行い、メチル基結合シリカ微粒子がメチルイソブチルケトンに分散した分散体（Ｚ−８）を得た。該微粒子の平均粒子径は０．０２５μｍであった。

〔合成例１４〕 有機基結合シリカ微粒子分散体（Ｚ−９）の合成
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管を備えた１Ｌのフラスコに、水酸化ナトリウム水溶液（０．０２４重量％）４５０ｇを入れ、塩化ベンゼトニウム９ｇを加えて室温で溶解させた。次に、ビニルトリメトキシシラン９０ｇを滴下口より２時間かけて滴下し、そのまま３時間攪拌を行った後、さらに滴下口よりトリメチルフェノキシシラン１０ｇを３０分かけて滴下し、そのまま１時間攪拌を行うことにより、メチル基およびビニル基が結合したシリカ微粒子の水分散体が得られた。続いて、反応液にメタノール１０００ｇを加えてシリカ微粒子を凝集させた後、遠心分離により固液分離を行い、水、メタノールを除去した。得られたケーキを攪拌機を備えた１Ｌのフラスコに移し、メチルイソブチルケトン１０００ｇを加えて３時間攪拌を行い、シリカ微粒子をメチルイソブチルケトンに分散させた。続いて、固形分濃度が３０重量％になるまでメチルイソブチルケトンの濃縮を行い、メチル基およびビニル基が結合したシリカ微粒子がメチルイソブチルケトンに分散した分散体（Ｚ−９）を得た。該微粒子の平均粒子径は０．０３０μｍであった。

〔実施例１〕
ガラス基板上の所定の位置に、フォトリソグラフィ技術により所定の形状のブラックマトリクス（非画素領域）を作製した後、該ガラス基板上のブラックマトリクス以外の部分に、同様にフォトリソグラフィ技術により、赤色、緑色および青色の画素領域を作製することにより、ガラス基板上にカラーフィルタを作製した。このカラーフィルタ上に、絶縁性の平坦化膜と、走査電極を有する透明導電膜とを順に積層し、さらにその上に配向膜を積層することにより、カラーフィルタ側電極基板を作製した。
次に、感光性材料としての、エポキシアクリレートオリゴマー１０部およびペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０部の混合溶液に、合成例３で得られた分散体（Ｚ−１）６８部を混合した後、光重合開始剤としてのヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン２部を混合して溶解させ、ネガ型のスペーサ形成用フォトレジスト用組成物（１）を調製した。

上記カラーフィルタ側電極基板の配向膜上の全面に、フォトレジスト用組成物（１）をスピンコート法により塗布し、この塗布層をレベリングしてプリベークした。次いで、ブラックマトリクス上にのみ光が照射されるパターンを有するフォトマスクを上記塗布層に被せて紫外線を照射し、ブラックマトリクス上に存在するフォトレジスト組成物（１）のみを露光した後、アルカリ性の現像液へ浸漬して未硬化部分（未露光部分）を溶解させ除去して現像を行った。現像後、ポストベーク処理を行って、ブラックマトリクスの部分にのみ、高さ５μｍのフォトレジストの層からなるスペーサ（１）を形成した。このようにして、面内スペーサを備えた液晶表示装置用のカラーフィルタ基板（カラーフィルタ側電極基板（１））を作製した。

カラーフィルタ側電極基板（１）と、ＴＦＴ側電極基板とを、シール材で貼り合わせて液晶セルを組み立て、両電極基板の隙間にフッ素系ＴＮ液晶を封入し、封入孔を封止することにより、表示面の大きさが２０インチの液晶表示装置（１）を作製した。
液晶表示装置（１）を駆動させたところ、ギャップムラや色ムラは認められず、コントラストが高く、表示のざらつき感の無い、全体として高い表示品位を有する液晶表示装置であることが確認された。
液晶表示装置（１）について、Ｘ、ＹおよびＺの各方向に２Ｇの加速度でそれぞれ１時間振動させる振動試験を行ったところ、ギャップ均一性、コントラストおよび表示のざらつき感については、試験前と変化無く、高い表示品位を維持していた。さらに、上記振動試験を３Ｇおよび４Ｇの加速度でも行った。これらの結果を表１に示す。

〔実施例２〕
実施例１において、分散体（Ｚ−１）の代わりに、合成例５で得られた分散体（Ｚ−２）を用いた以外は、実施例１と同様にして、ネガ型のスペーサ形成用フォトレジスト用組成物（２）を調製し、高さ５μｍのフォトレジストの層からなるスペーサ（２）を形成し、さらに、２０インチの液晶表示装置（２）を作製した。
フォトレジスト用組成物（２）は、フォトレジスト用組成物（１）よりも露光性および現像性の感度が高く、スペーサ（２）はスペーサ（１）よりも形状精度に優れていた。
液晶表示装置（２）を駆動させたところ、ギャップムラや色ムラは認められず、コントラストが高く、表示のざらつき感の無い、全体として高い表示品位を有する液晶表示装置であることが確認された。

液晶表示装置（２）について、実施例１と同様に２Ｇの加速度で振動試験を行ったところ、ギャップ均一性、コントラストおよび表示のざらつき感については、試験前と変化無く、高い表示品位を維持していた。さらに、上記振動試験を３Ｇおよび４Ｇの加速度でも行った。これらの結果を表１に示す。
〔実施例３〕
実施例１において、分散体（Ｚ−１）の代わりに、合成例６で得られた分散体（Ｚ−３）を用いた以外は、実施例１と同様にして、ネガ型のスペーサ形成用フォトレジスト用組成物（３）を調製し、高さ５μｍのフォトレジストの層からなるスペーサ（３）を形成し、さらに、２０インチの液晶表示装置（３）を作製した。

フォトレジスト用組成物（３）は、フォトレジスト用組成物（１）よりも露光性および現像性の感度が高く、スペーサ（３）はスペーサ（１）よりも形状精度に優れていた。また、分散体（Ｚ−３）中のシリカ微粒子は、分散体（Ｚ−２）中のシリカ微粒子よりも感光性材料との反応性が高いため、スペーサ（３）はスペーサ（２）よりも機械的強度が向上していた。
液晶表示装置（３）を駆動させたところ、ギャップムラや色ムラは認められず、コントラストが高く、表示のざらつき感の無い、全体として高い表示品位を有する液晶表示装置であることが確認された。

液晶表示装置（３）について、３Ｇの加速度とした以外は実施例１と同様の振動試験を行ったところ、ギャップ均一性、コントラストおよび表示のざらつき感については、試験前と変化無く、高い表示品位を維持していた。さらに、上記振動試験を４Ｇの加速度でも行った。これらの結果を表１に示す。
〔実施例４〕
実施例１において、分散体（Ｚ−１）の代わりに、合成例９で得られた分散体（Ｚ−５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、ネガ型のスペーサ形成用フォトレジスト用組成物（４）を調製し、高さ５μｍのフォトレジストの層からなるスペーサ（４）を形成し、さらに、２０インチの液晶表示装置（４）を作製した。

液晶表示装置（４）を駆動させたところ、ギャップムラや色ムラは認められず、コントラストが高く、表示のざらつき感の無い、全体として高い表示品位を有する液晶表示装置であることが確認された。
液晶表示装置（４）について、実施例１と同様に２Ｇの加速度で振動試験を行ったところ、ギャップ均一性、コントラストおよび表示のざらつき感については、試験前と変化無く、高い表示品位を維持していた。さらに、上記振動試験を３Ｇの加速度でも行った。これらの結果を表１に示す。
〔実施例５〜９〕
実施例１において、分散体（Ｚ−１）の代わりに、合成例７、１１、１２、１３および１４で得られた分散体（Ｚ−４）、分散体（Ｚ−６）、分散体（Ｚ−７）、分散体（Ｚ−８）および分散体（Ｚ−９）をそれぞれ用いた以外は、実施例１と同様にして、ネガ型のスペーサ形成用フォトレジスト用組成物（５）〜（９）を調製し、高さ５μｍのフォトレジストの層からなるスペーサ（５）〜（７）を形成し、さらに、２０インチの液晶表示装置（５）〜（９）を作製した。

液晶表示装置（５）〜（９）を駆動させたところ、ギャップムラや色ムラは認められず、コントラストが高く、表示のざらつき感の無い、全体として高い表示品位を有する液晶表示装置であることが確認された。
液晶表示装置（５）〜（９）について、１．５Ｇの加速度とした以外は実施例１と同様の振動試験を行ったところ、ギャップ均一性、コントラストおよび表示のざらつき感については、試験前と変化無く、高い表示品位を維持していた。さらに、上記振動試験を２Ｇや３Ｇの加速度でも行った。これらの結果を表１に示す。
〔比較例１〕
実施例１において、分散体（Ｚ−１）を用いない以外は、実施例１と同様にして、ネガ型のスペーサ形成用フォトレジスト用組成物（ｃ１）を調製し、高さ５μｍのフォトレジストの層からなるスペーサ（ｃ１）を形成し、さらに、２０インチの液晶表示装置（ｃ１）を作製した。

液晶表示装置（ｃ１）を駆動させたところ、ギャップムラや色ムラが認められ、コントラストが低く、表示のざらつき感が有り、全体として表示品位の低い液晶表示装置であることが確認された。スペーサ（ｃ１）を観察したところ、一部に破壊が認められ、スペーサ（ｃ１）の強度はスペーサ（１）〜（７）に比べて非常に低いことが判った。
〔比較例２〕
実施例１において、分散体（Ｚ−１）の代わりに、粒度分布がシャープな球状シリカ微粒子（平均粒子径：０．５０μｍ）をＰＧＭＥＡに単分散させた分散体（固形分濃度：３０ｗｔ％）を用いた以外は、実施例１と同様にして、ネガ型のスペーサ形成用フォトレジスト用組成物（ｃ２）を調製し、高さ５μｍのフォトレジストの層からなるスペーサ（ｃ２）を形成し、さらに、２０インチの液晶表示装置（ｃ２）を作製した。

液晶表示装置（ｃ２）を駆動させたところ、ギャップムラや色ムラが認められ、コントラストが低く、表示のざらつき感が有り、全体として表示品位の低い液晶表示装置であることが確認された。スペーサ（ｃ２）を観察したところ、一部に破壊が認められ、スペーサ（ｃ２）の強度はスペーサ（１）〜（７）に比べて非常に低いことが判った。

表中の評価基準については、以下のとおりである。
＜スペーサの形状精度＞
◎：形状精度に非常に高い。
○：形状精度が高い。
×：形状精度が低い。
＜液晶表示装置の表示品位＞
前述した振動試験の前後で評価した。
○：ギャップムラ等が認められず、ＬＣＤとして非常に高い表示品位を有する。

△：ギャップムラ等が若干認められるが、ＬＣＤとして十分な表示品位を有する。
×：ギャップムラ等が認められ、ＬＣＤとしての表示品位が不十分である。

本発明にかかるフォトレジスト用組成物は、液晶表示装置用スペーサの形成用の組成物として好適に使用され、特にフォトリソグラフィ技術によって露光および現像等の処理を行ってスペーサを形成する際に好適に使用される。また、液晶表示装置用カラーフィルタのブラックマトリクス形成用の組成物としても使用することもできる。
本発明にかかる液晶表示装置は、例えば、テレビ、モニター、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、カーナビゲーションシステム、ＤＶＤ、デジタルビデオカメラ、ＰＨＳ（携帯情報端末）などの画像表示素子に好適に使用することができ、本発明にかかる液晶表示装置用カラーフィルタ基板は、例えば、上記画像表示素子の一部（カラーフィルタ基板）に好適に使用することができる。

本発明にかかる液晶表示装置の一実施例を表す概略断面図である。 本発明にかかる液晶表示装置の他の一実施例を表す概略断面図である。

符号の説明

２ シール材
４ 配向膜
５ 透明電極
６ 偏光膜
７ 液晶
８ 面内スペーサー
１１ 下側ガラス基板
１２ 上側ガラス基板
２１ ブラックマトリクス
２２ 画素
２３ カラーフィルタ
２４ 平坦化膜
２５ 配向膜
１１０ 下側電極基板
１２０ 上側電極基板（カラーフィルタ基板）

Claims (7)

1. 感光性材料中に、平均粒子径が０．２μｍ以下であるシリカ微粒子を含み、
   該シリカ微粒子は、その表面の少なくとも一部に有機ポリマー残基が結合してなり、
   該有機ポリマー残基がアルカリ可溶性である、
   フォトレジスト用組成物。
2. 前記有機ポリマー残基中に二重結合を含む、請求項１に記載のフォトレジスト用組成物。
3. 液晶表示装置用スペーサの形成に用いる、請求項１または２に記載のフォトレジスト用組成物。
4. 対向面に透明電極を有する一対の透明基板の間に液晶層を備え、前記液晶層の厚みを一定にするためのスペーサが前記液晶層中に配置されている液晶表示装置において、前記スペーサが請求項３に記載のフォトレジスト用組成物から形成されてなることを特徴とする、液晶表示装置。
5. 前記形成がフォトリソグラフィ技術によりなされている、請求項４に記載の液晶表示装置。
6. カラーフィルタ上に少なくとも透明電極と配向膜とが積層されてなり、非画素領域には液晶層の厚みを一定にするためのスペーサが固定されている液晶表示装置用カラーフィルタ基板において、前記スペーサが請求項３に記載のフォトレジスト用組成物から形成されてなることを特徴とする、液晶表示装置用カラーフィルタ基板。
7. 前記形成がフォトリソグラフィ技術によりなされている、請求項６に記載の液晶表示装置用カラーフィルタ基板。

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