JP4347354B2 - 露光装置、製造システム及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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- G03F7/70533—Controlling abnormal operating mode, e.g. taking account of waiting time, decision to rework or rework flow
Description
ΔT1=K×D1・・・数式1
により予め求められたものとする。ここで、Kは、露光量を露光時間に換算するための係数である。
RT=(n−i+1)×ΔTav・・・数式2
により求める(推定する)。
OD=OD1+OD2・・・数式3
により求める。露光量計算部102jは、基準露光量BDを用いて、露光対象のショット領域の露光量D2を
D2=BD+OD=BD+OD1+OD2・・・数式4
により求める。
ΔT2=K×D2=K(BD+OD1+OD2)・・・数式5
により求める。これにより、制御部102bは、ショット領域露光開始推定時刻情報301cが示す時刻から露光時間ΔT2の間だけ露光対象のショット領域を露光するように、露光部102cを制御する。
D3=BD+0.01・・・数式6
により求める。露光量計算部102jは、計算した露光量情報310を制御部102bへ渡す。
ΔT3=K×D3=K(BD+0.01)・・・数式7
により求める。これにより、制御部102bは、ショット領域露光開始推定時刻情報301cが示す時刻から露光時間ΔT3の間だけ、露光対象のショット領域を露光する。
D4=BD−0.10・・・数式8
により求める。露光量計算部102jは、計算した露光量情報310を制御部102bへ渡す。
ΔT4=K×D4=K(BD−0.10)・・・数式9
により求める。これにより、制御部102bは、ショット領域露光開始推定時刻情報301cが示す時刻から露光時間ΔT4の間だけ、露光対象のショット領域を露光する。
D5=BD+0.01−0.10=BD−0.09・・・数式10
により求める。露光量計算部102jは、計算した露光量情報310を制御部102bへ渡す。
ΔT5=K×D5=K(BD−0.09)・・・数式11
により求める。これにより、制御部102bは、ショット領域露光開始推定時刻情報301cが示す時刻から露光時間ΔT5の間だけ、露光対象のショット領域を露光する。
101 コータ
102 露光装置
103 デベロッパ
106 ネットワーク
107 コンピュータ
Claims (5)
- 複数の第1のショット領域を含む第1の基板に塗布された感光材料を前記第1のショット領域ごとに露光して前記感光材料に原版のパターンを転写する露光部と、
前記第1の基板に前記感光材料が塗布された時刻に関する塗布時刻情報を取得する取得部と、
前記露光部が前記第1のショット領域を露光する前記第1のショット領域ごとの予定時刻に関するショット露光時刻情報と、前記予定時刻から前記露光部が前記複数の第1のショット領域の露光を完了するまでの前記第1のショット領域ごとの時間に関する基板露光残時間情報とを生成する生成部と、
前記第1の基板の前に処理された複数の第2のショット領域を含む第2の基板における前記露光部が前記複数の第2のショット領域の露光を完了した時刻から前記第2の基板が現像された時刻までの時間に関する履歴情報を、前記第2の基板が現像された時刻から前記第1の基板の前記ショット露光時刻情報と前記基板露光残時間情報とが生成され始める時刻までの期間に記憶する記憶部と、
前記塗布時刻情報と前記ショット露光時刻情報とに応じて定まる前記第1のショット領域ごとの第1の露光量オフセットと、前記履歴情報と前記基板露光残時間情報とに応じて定まる前記第1のショット領域ごとの第2の露光量オフセットとを基準露光量に加えることにより、前記第1のショット領域ごとの露光量を求める露光量計算部と、
前記露光量計算部により求められた前記第1のショット領域ごとの露光量にしたがって、前記露光部に前記第1のショット領域ごとの露光を行わせる制御部と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記取得部は、送受信部を含み、
前記送受信部は、前記第2の基板が現像装置により現像された際にネットワークを介して前記第2の基板の前記履歴情報を前記現像装置から受信し、
前記記憶部は、前記送受信部により受信された前記第2の基板の前記履歴情報を記憶し、
前記送受信部は、前記第2の基板の前記履歴情報を受信した後に、前記ネットワークを介して前記第1の基板の前記塗布時刻情報を塗布装置から受信する
ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記送受信部は、前記第2の基板の前記履歴情報を受信した後に、前記ネットワークを介して前記塗布装置、前記露光装置及び前記現像装置を管理する管理装置から前記ネットワークを介して前記第1の基板の露光指示を受信し、
前記生成部は、前記送受信部により受信された前記第1の基板の露光指示に応じて、前記第1の基板に対する前記ショット露光時刻情報と前記基板露光残時間情報とを生成する
ことを特徴とする請求項2に記載の露光装置。 - 基板に感光材料を塗布する塗布装置と、
前記感光材料が塗布された前記基板を露光する請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の露光装置と、
前記露光された前記基板を現像する現像装置と、
ネットワークを介して前記塗布装置、前記露光装置及び前記現像装置を管理する管理装置と、
を備えたことを特徴とする製造システム。 - 基板に感光材料を塗布する塗布工程と、
前記感光材料が塗布された前記基板を、請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の露光装置を用いて露光する露光工程と、
前記露光された前記基板を現像する現像工程と、
を備えたことを特徴とするデバイスの製造方法。
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