JP4327911B2 - イミド化合物の製造方法 - Google Patents
イミド化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4327911B2 JP4327911B2 JP05484294A JP5484294A JP4327911B2 JP 4327911 B2 JP4327911 B2 JP 4327911B2 JP 05484294 A JP05484294 A JP 05484294A JP 5484294 A JP5484294 A JP 5484294A JP 4327911 B2 JP4327911 B2 JP 4327911B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- optionally substituted
- formula
- substituted
- atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は農医薬、天然物の合成中間体として有用なイミド化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
本発明により製造される化合物と類似の化合物の製造方法として例えば次式に示したような方法が、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，Ｖｏｌ．３２，Ｎｏ．４９，７２８７〜７２９０〔１９９１〕，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，Ｖｏｌ．２８，Ｎｏ．１，３９〜４２（１９８７）等に報告されている。
【０００３】
【化１０】
【０００４】
また、チタン化合物を用いた類似の方法として、例えば次式に示した方法が、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｖｏｌ．１１３，Ｎｏ．３，１０４７〜１０４９（１９９１）Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，Ｖｏｌ．２７，Ｎｏ．８，８９７〜９００（１９８６）に報告されている。
【０００５】
【化１１】
【０００６】
ここで報告されている方法は収率、立体選択性はよいが、高価なボロントリフレートや光学活性環状イミド化合物を使用しており、必ずしも実用的な方法とは言えない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、農医薬、天然物の合成中間体として有用なイミド化合物を簡便かつ安価に製造する方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は上記の点に鑑み、農医薬、天然物の合成中間体として有用なイミド化合物の製造方法を鋭意検討した結果、本発明を完成するに至ったものである。
即ち、本発明は一般式
【０００９】
【化１２】
【００１０】
（式中、Ａはホルミル基又はその等価体を、Ｒは水素原子又は置換されていてもよいアルキル基、ｎは０又は１を、Ｒ1 ，Ｒ2 ，及びＲ3 はそれぞれ水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいアルキルチオ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子、シアノ基を示し、また、Ｒ1 ，Ｒ2 ，及びＲ3 のうち２つが一緒になって環を形成してもよく、更にＲは一緒になって＝ＣＨを形成し、このＣＨがＲ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 のいずれか一つと一緒になって環を形成してもよい。ただしＲ1 ，Ｒ2 ，及びＲ3 は互いに同一ではない。）で表される化合物と、一般式〔II〕
【００１１】
【化１３】
【００１２】
（式中、Ｒ4 は水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいアルキルチオ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、ハロゲン原子を、Ｒ5 はアルキル基、トリアルキルシリル基、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、シクロアルキル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオレニル基、ベンズチアゾリル基、ナフタリミジル基を、Ｒ6 は電子吸引基を表すか、あるいはＲ5 とＲ6 が一緒になって環を形成する。）で表されるイミド化合物とを一般式〔III 〕
【００１３】
Ｍ（Ｈａｌ）m （Ｒ7 ）l 〔III 〕
（式中、Ｍは金属原子を、Ｈａｌはハロゲン原子を、Ｒ7 は低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェノキシ基又はペンタジエニル基を示し、ｎ及びｍはそれぞれ０，１，２，３，４及び５でかつ、ｎ＋ｍはＭの原子価を示す。）
で表される化合物及び塩基の存在下で反応させることを特徴とする次の一般式〔IV−１〕〜〔IV−４〕のいずれかで表されるイミド化合物の選択的製造方法。
【００１４】
【化１４】
【００１５】
（式中、Ｒ1 〜Ｒ6 及びｎは前記と同じ意味を示し、Ｂは酸素原子、またはＮＨを、Ｒ8 は水素原子、置換していてもよい低級アルキル基、置換していてもよいフェニル基を示す。）
一般式〔Ｉ〕においてＡで表されるホルミル基又はその等価体としては−ＣＨＯ，−ＣＨ＝ＮＲ8 ，−ＣＨ（ＯＲ8 ）2 等が挙げられる。
更に具体的には一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物として下記に示すα位、又はβ位に不斉炭素を有する化合物が例示できる。
【００１６】
【化１５】
【００１７】
【化１６】
【００１８】
【化１７】
【００１９】
【化１８】
【００２０】
（式中、ｒ1 ，ｒ6 及びｒ7 はそれぞれ水素原子、低級アルキル、低級アルコキシ又はフェニル基；ｒ2 は水素原子、低級アルキル、アラルキル、低級アルキルカルボニル、フェニルカルボニル、又はトリアルキルシリル；
ｒ3 及びｒ4 はそれぞれ水素原子、低級アルキル、フェニル、アラルキル、アシル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、低級アルコキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル又はフェノキシカルボニル；）
【００２１】
塩基としては第２、第３級アミン類及びピリジン類が挙げられ、たとえばジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のアルキルアミン、Ｎ−メチルアニリン等のアルキルアニリン、ピペリジン、ピロリジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、モルホリン、ピペラジン等の複素環状アミン等の第２級アミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジイソプロピルメチルアミン、トリエチルアミン等のアルキルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等のジアルキルアニリン、１−エチルピペリジン、１−メチルモルホリン、１−エチルピロリジン、１，４−ジアザビシクロ〔２，２，２〕オクタン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデス−７−エン等の複素環状のアミンもしくはＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン等のジアミン類等の第３級アミン、α，βまたはγ−ピリコン、２，３−、２，４−、２，５−、２，６−、３，４−または３，５−ルチジン、２，４，６−コリジン等のアルキルピリジン、ジメチルアミノピリジンのようなジアルキルアミノピリジン、キノリンのような縮合複素環化されたピリジン等のピリジン類が例示できる。
【００２２】
一般式
【００２３】
【化１９】
【００２４】
で表わされる置換基（以下、補助基という。）としては以下のものが例示できる。
【００２５】
【化２０】
【００２６】
【化２１】
【００２７】
【化２２】
【００２８】
【化２３】
【００２９】
【化２４】
【００３０】
【化２５】
【００３１】
【化２６】
【００３２】
【化２７】
【００３３】
Ｍ（Ｈａｌ）n （Ｒ7 ）m で表わされる化合物としてはＴｉＣｌ4 ，ＴｉＣｌ3 （ＯＣＨ3 ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ2 Ｈ5 ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ3 Ｈ7 ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ3 Ｈ7 i ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 i ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 s ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 t ），ＺｒＣｌ4 ，ＺｒＣｌ3 （ＯＣＨ3 ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ2 Ｈ5 ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ3 Ｈ7 n ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ3 Ｈ7 i ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 i ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 s ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 t ），ＳｎＣｌ4 ，ＡｌＣｌ3 ，Ａｌ（ＯＣＨ3 ）3 ，Ａｌ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 ，Ａｌ（ＯＣ3 Ｈ7 i ）3 ，ＡｌＣｌ2 Ｃ2 Ｈ5 ，ＡｌＣｌ（Ｃ2 Ｈ5 ）2 ，Ａｌ（Ｃ2 Ｈ5 ）3 ，ＡｌＣｌ2 ＣＨ3 ，ＡｌＣｌ（ＣＨ3 ）2 ，Ａｌ（ＣＨ3 ）3 等が例示できるが、その中で好ましい化合物としてチタン化合物、特に好ましいものとしてＴｉＣｌ4 が挙げられる。
【００３４】
反応は塩化メチレン、クロロホルム等の塩素系溶媒、クロルベンゼン、トルエン等の芳香族系溶媒、アセトニトリル等の極性溶媒等の有機溶媒中、一般式〔II〕で表わされるイミド化合物と一般式〔III 〕で表わされるチタン化合物及びアミン、アニリン又はピリジン類とでエノレートを生成させこのエノレートと一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物とを反応させる。反応温度はエノレートの生成及びエノレートとアゼチジノン誘導体との反応とも−５０°〜１００℃、好ましくは−２０°〜５０℃で行なう。
【００３５】
反応のモル比は一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物１モルに対し、一般式〔II〕で表されるイミド化合物０．５〜８モル、一般式〔III 〕で表わされる化合物１〜８モル、塩基１〜８モルである。
また、一般式〔II〕で表わされるイミド化合物とチタン化合物あるいはアミンのモル比あるいは補助基の種類により生成するシン−アンチ体の割合が異る。反応終了後は通常の後処理を行なうことにより、目的物を単離することができる。
【００３６】
【実施例】
次に実施例を挙げ、本発明を更に詳細に説明する。
【００３７】
実施例１
〔３−（４−ベンジルオキシカルボキサミド−３−ヒドロキシ−２−メチル−５−フェニル）ペンタノイル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００３８】
【化２８】
【００３９】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（０．９４ｇ，５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（１．０４ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３ｍｌ）溶液を滴下した。０℃で１０分間そのまま攪拌後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．７１ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３ｍｌ）溶液を０℃で滴下した。さらに１０分間同温度で攪拌後、Ｌ−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）フェニルアラニナール（１．５６ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を０〜５℃にて滴下した。同温度で１時間熟成した後、氷水に反応混合液を攪拌下に加えた。塩化メチレン層を分液し、水層を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を一緒にし、よく水洗した後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、無色の粘性オイル１．５ｇを得た。
【００４０】
収率６４％
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ；δ：ｐｐｍ）
１．３０（ｄ，３Ｈ），１．５２＋１．５３（６Ｈ），２．８７〜２．９５（ｄ−ｄ，１Ｈ），３．０６〜３．１３（ｄ−ｄ，１Ｈ），３．１５（ｄ，１Ｈ），３．８６（ｄ，１Ｈ），３．９７（ｍ，１Ｈ），４．１２（ｓ，２Ｈ），４．６６（ｄ，１Ｈ），４．８２（ｍ，１Ｈ），５．０３（ｓ，２Ｈ），７．１〜７．４（ｍ，１０Ｈ）
【００４１】
13 ＣＮＭＲ（ＣＤＣＬ3 ；δ：ｐｐｍ）
１１．００，２３．８９，２４．１９，３６．６７，４０．９３，５２．８４，６６．１０，６６．８０，７２．２８，７９．２７，１２６．５４，１２８．００，１２８．２２，１２８．４８，１２９．０５，１２９．３３，１２９．７８，１３７．２６，１５５．９３，１８０．７９，１８６．４０
【００４２】
ＩＲ（ｎｅａｔ）
３３９６，２９６８，１７０２，１５２０，１４５５，１３３７，１２０８，１１８６，１１６２，９９２
ＭＡＳＳ（ＣＩ）
Ｍ+1＝４７１
【００４３】
実施例２
〔３−（４−ｔ−ブトキシカルボキサミド−３−ヒドロキシ−２−メチル−４−フェニル）ブタノイル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００４４】
【化２９】
【００４５】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（１．４ｇ，７．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（２．１３４ｇ，１１．２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を滴下した。０℃で１０分間そのまま攪拌後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１．３５ｇ，１０．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を０℃で滴下した。さらに１０分間同温度で攪拌後、Ｌ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル）フェニルグリシナール（２．６５ｇ，１１．２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を０〜５℃にて滴下した。同温度で１時間熟成した後、氷水に反応混合液を攪拌下に加えた。塩化メチレン層を分液し、水層を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を一緒にし、よく水洗した後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、無色の結晶１．５ｇを得、また、４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオンを０．４ｇ回収した。収率６６．５％ ｍ．ｐ．１４８〜１４９．５℃
【００４６】
実施例３
｛３−〔３−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルピロリジン−２−イル）−３−ヒドロキシ−２−メチル〕プロピオニル｝−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００４７】
【化３０】
【００４８】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（０．９４ｇ，５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（１．０４ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３ｍｌ）溶液を滴下した。０℃で１０分間そのまま攪拌後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．７１ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３ｍｌ）溶液を０℃で滴下した。さらに１０分間同温度で攪拌後、Ｌ−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）プロリナール（１．２８ｇ，０．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を０〜５℃にて滴下した。同温度で１時間熟成した後、氷水に反応混合液を攪拌下に加えた。塩化メチレン層を分液し、水層を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を一緒にし、よく水洗した後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、無色の結晶１．４ｇを得た。収率６７％ ｍ．ｐ．８３〜８５℃
得られた化合物は下記反応式に従ってビサイクリックラクタム化合物に誘導し、実施例６で立体配置が決定された化合物から誘導される化合物と比較した所、立体配置は（２Ｒ，３Ｒ，２′Ｓ）であった。
【００４９】
【化３１】
【００５０】
実施例４
〔３−（４−ｔ−ブトキシカルボキサミド−３−ヒドロキシ−２−メチル−５−フェニル）ペンタノイル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００５１】
【化３２】
【００５２】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（５．３ｇ）の塩化メチレン（７０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（５．３ｇ）を加え、次いで、トリエチルアミン（２．７ｇ）を滴下した。更に、Ｌ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル）フェニルアラニナール（４．６ｇ）を同温度で加えて、２．０時間熟成した。反応液を氷水にあけ、塩化メチレン層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトにより精製して、５．８ｇを得た。収率 ７１％，融点 ９９〜１００℃
【００５３】
実施例５
｛３−〔（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（ｔ−ブトキシカルボキサミド）−３−ヒドロキシ−２−メチル〕ペンタノイル｝−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００５４】
【化３３】
【００５５】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（２．８ｇ）の塩化メチレン（３５ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（２．８５ｇ）を加え、次いで、ジイソプロピルエチルアミン（１．８１ｇ）を滴下した。更に、Ｌ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル）アラニナール（１．７ｇ）を同温度で加えて、４時間熟成した。反応液を氷水にあけ、塩化メチレン層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣にヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒を加えて晶析・濾過して、白色結晶２．８ｇを得た。また、濾液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトにより精製して、更に０．５ｇを得た。収率 ９１．５％，融点 １３２〜１３４℃
得られた化合物は、下記反応式に従ってメタノール中、ナトリウムメトキシド存在下に反応させて物性既知のメチルエステル体とし、そのＮＭＲスペクトルを文献値と比較したところ、立体配置は（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）であった。（ｌｉｔ． Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，２４（４４），４８０５〜４８０８，１９８３）
【００５６】
【化３４】
【００５７】
実施例６
〔３−｛（２Ｒ，３Ｒ）−３−〔（２′Ｓ）−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボニルピロリジン−２−イル〕−３−ヒドロキシ−２−メチル｝プロピオニル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００５８】
【化３５】
【００５９】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（３．８ｇ）の塩化メチレン（６０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（５．７ｇ）を加え、次いで、ジイソプロピルエチルアミン（３．５ｇ）を滴下した。更に、Ｌ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル）プロリナール（４．０ｇ）を同温度で加えて、１．５時間熟成した。反応液を氷水にあけ、塩化メチレン層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトにより精製して、４．４ｇを得た。収率 ５７％，融点 １１４〜１１６℃
得られた化合物は、下記反応式に従って加水分解によりカルボン酸とし、その融点、比旋光度共に文献値と一致し、立体配置は（２Ｒ，３Ｒ，２′Ｓ）であった。（ｌｉｔ． Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，３２（７），９３１〜９３４，１９９１）
【００６０】
【化３６】
【００６１】
【発明の効果】
本発明の製造方法は安価でしかも後処理で除去も容易な一般式〔III 〕で表される化合物を使用した工業的に優れた製造方法である。
また、モル比の調整、あるいは補助基を適宜選択することによりシン、アンチ体を選択的に得ることができる。
【産業上の利用分野】
本発明は農医薬、天然物の合成中間体として有用なイミド化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
本発明により製造される化合物と類似の化合物の製造方法として例えば次式に示したような方法が、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，Ｖｏｌ．３２，Ｎｏ．４９，７２８７〜７２９０〔１９９１〕，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，Ｖｏｌ．２８，Ｎｏ．１，３９〜４２（１９８７）等に報告されている。
【０００３】
【化１０】
また、チタン化合物を用いた類似の方法として、例えば次式に示した方法が、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｖｏｌ．１１３，Ｎｏ．３，１０４７〜１０４９（１９９１）Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，Ｖｏｌ．２７，Ｎｏ．８，８９７〜９００（１９８６）に報告されている。
【０００５】
【化１１】
ここで報告されている方法は収率、立体選択性はよいが、高価なボロントリフレートや光学活性環状イミド化合物を使用しており、必ずしも実用的な方法とは言えない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、農医薬、天然物の合成中間体として有用なイミド化合物を簡便かつ安価に製造する方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は上記の点に鑑み、農医薬、天然物の合成中間体として有用なイミド化合物の製造方法を鋭意検討した結果、本発明を完成するに至ったものである。
即ち、本発明は一般式
【０００９】
【化１２】
（式中、Ａはホルミル基又はその等価体を、Ｒは水素原子又は置換されていてもよいアルキル基、ｎは０又は１を、Ｒ1 ，Ｒ2 ，及びＲ3 はそれぞれ水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいアルキルチオ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子、シアノ基を示し、また、Ｒ1 ，Ｒ2 ，及びＲ3 のうち２つが一緒になって環を形成してもよく、更にＲは一緒になって＝ＣＨを形成し、このＣＨがＲ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 のいずれか一つと一緒になって環を形成してもよい。ただしＲ1 ，Ｒ2 ，及びＲ3 は互いに同一ではない。）で表される化合物と、一般式〔II〕
【００１１】
【化１３】
（式中、Ｒ4 は水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいアルキルチオ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、ハロゲン原子を、Ｒ5 はアルキル基、トリアルキルシリル基、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、シクロアルキル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオレニル基、ベンズチアゾリル基、ナフタリミジル基を、Ｒ6 は電子吸引基を表すか、あるいはＲ5 とＲ6 が一緒になって環を形成する。）で表されるイミド化合物とを一般式〔III 〕
【００１３】
Ｍ（Ｈａｌ）m （Ｒ7 ）l 〔III 〕
（式中、Ｍは金属原子を、Ｈａｌはハロゲン原子を、Ｒ7 は低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェノキシ基又はペンタジエニル基を示し、ｎ及びｍはそれぞれ０，１，２，３，４及び５でかつ、ｎ＋ｍはＭの原子価を示す。）
で表される化合物及び塩基の存在下で反応させることを特徴とする次の一般式〔IV−１〕〜〔IV−４〕のいずれかで表されるイミド化合物の選択的製造方法。
【００１４】
【化１４】
（式中、Ｒ1 〜Ｒ6 及びｎは前記と同じ意味を示し、Ｂは酸素原子、またはＮＨを、Ｒ8 は水素原子、置換していてもよい低級アルキル基、置換していてもよいフェニル基を示す。）
一般式〔Ｉ〕においてＡで表されるホルミル基又はその等価体としては−ＣＨＯ，−ＣＨ＝ＮＲ8 ，−ＣＨ（ＯＲ8 ）2 等が挙げられる。
更に具体的には一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物として下記に示すα位、又はβ位に不斉炭素を有する化合物が例示できる。
【００１６】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】
（式中、ｒ1 ，ｒ6 及びｒ7 はそれぞれ水素原子、低級アルキル、低級アルコキシ又はフェニル基；ｒ2 は水素原子、低級アルキル、アラルキル、低級アルキルカルボニル、フェニルカルボニル、又はトリアルキルシリル；
ｒ3 及びｒ4 はそれぞれ水素原子、低級アルキル、フェニル、アラルキル、アシル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、低級アルコキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル又はフェノキシカルボニル；）
【００２１】
塩基としては第２、第３級アミン類及びピリジン類が挙げられ、たとえばジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のアルキルアミン、Ｎ−メチルアニリン等のアルキルアニリン、ピペリジン、ピロリジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、モルホリン、ピペラジン等の複素環状アミン等の第２級アミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジイソプロピルメチルアミン、トリエチルアミン等のアルキルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等のジアルキルアニリン、１−エチルピペリジン、１−メチルモルホリン、１−エチルピロリジン、１，４−ジアザビシクロ〔２，２，２〕オクタン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデス−７−エン等の複素環状のアミンもしくはＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン等のジアミン類等の第３級アミン、α，βまたはγ−ピリコン、２，３−、２，４−、２，５−、２，６−、３，４−または３，５−ルチジン、２，４，６−コリジン等のアルキルピリジン、ジメチルアミノピリジンのようなジアルキルアミノピリジン、キノリンのような縮合複素環化されたピリジン等のピリジン類が例示できる。
【００２２】
一般式
【００２３】
【化１９】
で表わされる置換基（以下、補助基という。）としては以下のものが例示できる。
【００２５】
【化２０】
【化２１】
【化２２】
【化２３】
【化２４】
【化２５】
【化２６】
【化２７】
Ｍ（Ｈａｌ）n （Ｒ7 ）m で表わされる化合物としてはＴｉＣｌ4 ，ＴｉＣｌ3 （ＯＣＨ3 ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ2 Ｈ5 ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ3 Ｈ7 ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ3 Ｈ7 i ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 i ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 s ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 t ），ＺｒＣｌ4 ，ＺｒＣｌ3 （ＯＣＨ3 ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ2 Ｈ5 ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ3 Ｈ7 n ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ3 Ｈ7 i ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 i ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 s ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 t ），ＳｎＣｌ4 ，ＡｌＣｌ3 ，Ａｌ（ＯＣＨ3 ）3 ，Ａｌ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 ，Ａｌ（ＯＣ3 Ｈ7 i ）3 ，ＡｌＣｌ2 Ｃ2 Ｈ5 ，ＡｌＣｌ（Ｃ2 Ｈ5 ）2 ，Ａｌ（Ｃ2 Ｈ5 ）3 ，ＡｌＣｌ2 ＣＨ3 ，ＡｌＣｌ（ＣＨ3 ）2 ，Ａｌ（ＣＨ3 ）3 等が例示できるが、その中で好ましい化合物としてチタン化合物、特に好ましいものとしてＴｉＣｌ4 が挙げられる。
【００３４】
反応は塩化メチレン、クロロホルム等の塩素系溶媒、クロルベンゼン、トルエン等の芳香族系溶媒、アセトニトリル等の極性溶媒等の有機溶媒中、一般式〔II〕で表わされるイミド化合物と一般式〔III 〕で表わされるチタン化合物及びアミン、アニリン又はピリジン類とでエノレートを生成させこのエノレートと一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物とを反応させる。反応温度はエノレートの生成及びエノレートとアゼチジノン誘導体との反応とも−５０°〜１００℃、好ましくは−２０°〜５０℃で行なう。
【００３５】
反応のモル比は一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物１モルに対し、一般式〔II〕で表されるイミド化合物０．５〜８モル、一般式〔III 〕で表わされる化合物１〜８モル、塩基１〜８モルである。
また、一般式〔II〕で表わされるイミド化合物とチタン化合物あるいはアミンのモル比あるいは補助基の種類により生成するシン−アンチ体の割合が異る。反応終了後は通常の後処理を行なうことにより、目的物を単離することができる。
【００３６】
【実施例】
次に実施例を挙げ、本発明を更に詳細に説明する。
【００３７】
実施例１
〔３−（４−ベンジルオキシカルボキサミド−３−ヒドロキシ−２−メチル−５−フェニル）ペンタノイル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００３８】
【化２８】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（０．９４ｇ，５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（１．０４ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３ｍｌ）溶液を滴下した。０℃で１０分間そのまま攪拌後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．７１ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３ｍｌ）溶液を０℃で滴下した。さらに１０分間同温度で攪拌後、Ｌ−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）フェニルアラニナール（１．５６ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を０〜５℃にて滴下した。同温度で１時間熟成した後、氷水に反応混合液を攪拌下に加えた。塩化メチレン層を分液し、水層を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を一緒にし、よく水洗した後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、無色の粘性オイル１．５ｇを得た。
【００４０】
収率６４％
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ；δ：ｐｐｍ）
１．３０（ｄ，３Ｈ），１．５２＋１．５３（６Ｈ），２．８７〜２．９５（ｄ−ｄ，１Ｈ），３．０６〜３．１３（ｄ−ｄ，１Ｈ），３．１５（ｄ，１Ｈ），３．８６（ｄ，１Ｈ），３．９７（ｍ，１Ｈ），４．１２（ｓ，２Ｈ），４．６６（ｄ，１Ｈ），４．８２（ｍ，１Ｈ），５．０３（ｓ，２Ｈ），７．１〜７．４（ｍ，１０Ｈ）
【００４１】
13 ＣＮＭＲ（ＣＤＣＬ3 ；δ：ｐｐｍ）
１１．００，２３．８９，２４．１９，３６．６７，４０．９３，５２．８４，６６．１０，６６．８０，７２．２８，７９．２７，１２６．５４，１２８．００，１２８．２２，１２８．４８，１２９．０５，１２９．３３，１２９．７８，１３７．２６，１５５．９３，１８０．７９，１８６．４０
【００４２】
ＩＲ（ｎｅａｔ）
３３９６，２９６８，１７０２，１５２０，１４５５，１３３７，１２０８，１１８６，１１６２，９９２
ＭＡＳＳ（ＣＩ）
Ｍ+1＝４７１
【００４３】
実施例２
〔３−（４−ｔ−ブトキシカルボキサミド−３−ヒドロキシ−２−メチル−４−フェニル）ブタノイル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００４４】
【化２９】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（１．４ｇ，７．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（２．１３４ｇ，１１．２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を滴下した。０℃で１０分間そのまま攪拌後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１．３５ｇ，１０．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を０℃で滴下した。さらに１０分間同温度で攪拌後、Ｌ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル）フェニルグリシナール（２．６５ｇ，１１．２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を０〜５℃にて滴下した。同温度で１時間熟成した後、氷水に反応混合液を攪拌下に加えた。塩化メチレン層を分液し、水層を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を一緒にし、よく水洗した後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、無色の結晶１．５ｇを得、また、４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオンを０．４ｇ回収した。収率６６．５％ ｍ．ｐ．１４８〜１４９．５℃
【００４６】
実施例３
｛３−〔３−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルピロリジン−２−イル）−３−ヒドロキシ−２−メチル〕プロピオニル｝−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００４７】
【化３０】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（０．９４ｇ，５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（１．０４ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３ｍｌ）溶液を滴下した。０℃で１０分間そのまま攪拌後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．７１ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３ｍｌ）溶液を０℃で滴下した。さらに１０分間同温度で攪拌後、Ｌ−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）プロリナール（１．２８ｇ，０．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を０〜５℃にて滴下した。同温度で１時間熟成した後、氷水に反応混合液を攪拌下に加えた。塩化メチレン層を分液し、水層を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を一緒にし、よく水洗した後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、無色の結晶１．４ｇを得た。収率６７％ ｍ．ｐ．８３〜８５℃
得られた化合物は下記反応式に従ってビサイクリックラクタム化合物に誘導し、実施例６で立体配置が決定された化合物から誘導される化合物と比較した所、立体配置は（２Ｒ，３Ｒ，２′Ｓ）であった。
【００４９】
【化３１】
実施例４
〔３−（４−ｔ−ブトキシカルボキサミド−３−ヒドロキシ−２−メチル−５−フェニル）ペンタノイル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００５１】
【化３２】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（５．３ｇ）の塩化メチレン（７０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（５．３ｇ）を加え、次いで、トリエチルアミン（２．７ｇ）を滴下した。更に、Ｌ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル）フェニルアラニナール（４．６ｇ）を同温度で加えて、２．０時間熟成した。反応液を氷水にあけ、塩化メチレン層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトにより精製して、５．８ｇを得た。収率 ７１％，融点 ９９〜１００℃
【００５３】
実施例５
｛３−〔（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（ｔ−ブトキシカルボキサミド）−３−ヒドロキシ−２−メチル〕ペンタノイル｝−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００５４】
【化３３】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（２．８ｇ）の塩化メチレン（３５ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（２．８５ｇ）を加え、次いで、ジイソプロピルエチルアミン（１．８１ｇ）を滴下した。更に、Ｌ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル）アラニナール（１．７ｇ）を同温度で加えて、４時間熟成した。反応液を氷水にあけ、塩化メチレン層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣にヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒を加えて晶析・濾過して、白色結晶２．８ｇを得た。また、濾液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトにより精製して、更に０．５ｇを得た。収率 ９１．５％，融点 １３２〜１３４℃
得られた化合物は、下記反応式に従ってメタノール中、ナトリウムメトキシド存在下に反応させて物性既知のメチルエステル体とし、そのＮＭＲスペクトルを文献値と比較したところ、立体配置は（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）であった。（ｌｉｔ． Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，２４（４４），４８０５〜４８０８，１９８３）
【００５６】
【化３４】
実施例６
〔３−｛（２Ｒ，３Ｒ）−３−〔（２′Ｓ）−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボニルピロリジン−２−イル〕−３−ヒドロキシ−２−メチル｝プロピオニル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００５８】
【化３５】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（３．８ｇ）の塩化メチレン（６０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（５．７ｇ）を加え、次いで、ジイソプロピルエチルアミン（３．５ｇ）を滴下した。更に、Ｌ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル）プロリナール（４．０ｇ）を同温度で加えて、１．５時間熟成した。反応液を氷水にあけ、塩化メチレン層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトにより精製して、４．４ｇを得た。収率 ５７％，融点 １１４〜１１６℃
得られた化合物は、下記反応式に従って加水分解によりカルボン酸とし、その融点、比旋光度共に文献値と一致し、立体配置は（２Ｒ，３Ｒ，２′Ｓ）であった。（ｌｉｔ． Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，３２（７），９３１〜９３４，１９９１）
【００６０】
【化３６】
【発明の効果】
本発明の製造方法は安価でしかも後処理で除去も容易な一般式〔III 〕で表される化合物を使用した工業的に優れた製造方法である。
また、モル比の調整、あるいは補助基を適宜選択することによりシン、アンチ体を選択的に得ることができる。
Claims (3)
- 式
で表される化合物と、式
で表されるイミド化合物とを、式
-
で表される化合物と、式
で表されるイミド化合物とを、式
- 式
で表される化合物と、式
で表されるイミド化合物とを、式
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05484294A JP4327911B2 (ja) | 1993-03-03 | 1994-03-01 | イミド化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-67573 | 1993-03-03 | ||
| JP6757393 | 1993-03-03 | ||
| JP05484294A JP4327911B2 (ja) | 1993-03-03 | 1994-03-01 | イミド化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06340642A JPH06340642A (ja) | 1994-12-13 |
| JP4327911B2 true JP4327911B2 (ja) | 2009-09-09 |
Family
ID=26395656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05484294A Expired - Lifetime JP4327911B2 (ja) | 1993-03-03 | 1994-03-01 | イミド化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4327911B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6448409B1 (en) * | 1999-11-12 | 2002-09-10 | The Regents Of The University Of California | Method for the synthesis of chiral allylic alcohols utilizing selone based chiral derivatizing agents |
| ES2910071T3 (es) | 2018-03-08 | 2022-05-11 | Incyte Corp | Compuestos de aminopirazina diol como inhibidores de PI3K-Y |
| WO2020010003A1 (en) | 2018-07-02 | 2020-01-09 | Incyte Corporation | AMINOPYRAZINE DERIVATIVES AS PI3K-γ INHIBITORS |
-
1994
- 1994-03-01 JP JP05484294A patent/JP4327911B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06340642A (ja) | 1994-12-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3220985B2 (ja) | ４−置換アゼチジノン誘導体の製造方法 | |
| JP3787819B2 (ja) | アゼチジノン化合物及びその製造方法 | |
| JP3639449B2 (ja) | ３−アミノ−ピロリジン誘導体の製造方法 | |
| JP4327911B2 (ja) | イミド化合物の製造方法 | |
| EP0632037B1 (en) | Process for the production of 4-substituted azetidinone derivatives | |
| ES2241102T3 (es) | Procedimiento para la preparacion de amidas y esteres heteroaril-carboxilicos. | |
| JP4173599B2 (ja) | ６−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリンの製造方法 | |
| US6320053B1 (en) | Preparation of heteroarylcarboxamides | |
| JP3750122B2 (ja) | アゼチジノン化合物の製造方法 | |
| JPH0782249A (ja) | ４−置換アゼチジノン誘導体の製造法 | |
| KR100515905B1 (ko) | 피롤아미드의 새로운 제조방법 | |
| JPS6019763A (ja) | アゼチジノンチオエステル類の製造法 | |
| JP4000758B2 (ja) | ２−（５−ハロゲノ−２−ニトロフェニル）−２−置換酢酸エステル誘導体の製造法 | |
| JP4616770B2 (ja) | 選択的なアミノ置換基導入法 | |
| JP4663105B2 (ja) | ２−スルホニル−４−オキシピリジン誘導体の製造方法 | |
| US5021587A (en) | Synthesis of N,3,4-trisubstituted-3-azoline-2-ones | |
| JP3609907B2 (ja) | 光学活性テトラヒドロキノリン誘導体の製造方法 | |
| JPH0725848A (ja) | ４−置換アゼチジノン誘導体の製造方法 | |
| JPH06256327A (ja) | ４−置換アゼチジノン誘導体の製造方法 | |
| HU199136B (en) | Process for producing 2-oxo-4-amino-3,4,5,6-tetrahydro-2h-pyran-5-carboxylic acids | |
| JPH0782248A (ja) | ４−置換アゼチジノン誘導体の製造方法 | |
| JP4507390B2 (ja) | １−アルキル−１−置換−３−有機スルホニルオキシアゼチジニウム塩及びその製法 | |
| JPH08169875A (ja) | アゼチジノン化合物及びその製造方法 | |
| IE50071B1 (en) | Preparation of azetidin-2-ones suitable for the synthesis of thienamycin and azetidin-2-ones useful in a synthesis of that kind | |
| JPH03246274A (ja) | 光学活性１，３―ジ置換アゼチジノンの新規製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050215 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050418 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060227 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20060313 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060426 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20060522 |
|
| A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20060623 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090406 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090422 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090612 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120619 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120619 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130619 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130619 Year of fee payment: 4 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |