JPH06256327A - ４−置換アゼチジノン誘導体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】 （式中、ＲはＨ又は容易に除去できるＮの保護基、Ｒ¹
は（保護）水酸基もしくはハロゲン原子で置換されてい
てもよいアルキル基、Ｚは脱離基を示す。）のアゼチジ
ノン誘導体と （式中、Ｒ² は水素原子又はアルキル基、Ｒ³ はアルキ
ル基、トリアルキルシリル基など、Ｒ⁴ は電子吸引基を
表すかあるいはＲ³ とＲ⁴ が一緒になって環を形成す
る。）のイミド化合物とを Ｍ（Ｈａｌ）_n （Ｒ⁵ ）_m （式中、Ｍは金属原子、Ｈａｌはハロゲン原子、Ｒ⁵ は
低級アルキル基、低級アルコキシ基など、ｎ及びｍはそ
れぞれ０〜５でかつｎ＋ｍはＭの原子価を示す。）のチ
タン化合物及び塩基の存在下で反応させてなる。 の４−置換アゼチジノン誘導体製造方法。 【効果】上記の製造方法は安価でしかも取扱いやすい化
合物を使用する工業的に優れ、これにより製造される４
−置換アゼチジノン誘導体は容易に加水分解されカルバ
ペネム系化合物の重要中間体であるカルボン酸に誘導で
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はカルバペネム系化合物の
合成中間体として重要な４−置換アゼチジノン誘導体の
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カルバペネム系化合物の合成中間体とし
て一般式〔Ｉ′〕

【０００３】

【化１０】

【０００４】（式中、Ｒ¹ は保護されていてもよい水酸
基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよいアルキ
ル基を、Ｒ² は水素原子又はアルキル基を示す。）で表
わされるカルボン酸誘導体が重要でその製造方法がいく
つか提案されている。その中で特開昭６２−２５２７８
６号に一般式〔II′〕

【０００５】

【化１１】

【０００６】〔式中、Ｒ¹ 及びＲ² は前記と同じ意味
を、Ｒは水素原子又は容易に除去できるＮの保護基を示
し、ｒは置換基を有していてもよい隣接する２個の炭素
原子と一緒になって形成する芳香族基を、Ｘは酸素原
子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基又はＮｒ
¹ 基（ｒ¹ は水素原子、アルキル基又はフェニル基を示
す。）を、Ｙは酸素原子、硫黄原子又はＮｒ² 基（ｒ²
は水素原子、アルキル基又はフェニル基を示す。）を示
す。〕で表わされる４−置換アゼチジノンが容易に加水
分解されて一般式〔Ｉ′〕で表わされるカルボン酸誘導
体になることが記載されている。また、Ｔｅｔｒａｈｅ
ｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．Ｖｏｌ．２７ ５６８７〜５６９
０（１９８６）に一般式〔II″〕

【０００７】

【化１２】

【０００８】（式中Ｘは前記と同じ意味を示し、ｒ³ 及
びｒ⁴ はそれぞれ水素原子又はメチル基を示す。）で表
わされる化合物が示されている。しかしながら、これら
の一般式〔II′〕及び〔II″〕で表わされる４−置換ア
ゼチジノン誘導体は高価なボロントリフレートあるいは
スズトリフレートを使用して製造しており工業的に適し
ていない。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は一般式

【００１０】

【化１３】

【００１１】（式中、Ｒは水素原子又は容易に除去でき
るＮの保護基、Ｒ¹ は保護されていてもよい水酸基もし
くはハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基を
Ｚは脱離基を示す。）で表わされるアゼチジノン誘導体
と一般式

【００１２】

【化１４】

【００１３】（式中、Ｒ² は水素原子又はアルキル基
を、Ｒ³ はアルキル基、トリアルキルシリル基、アルキ
ル基、アルコキシ基、ニトロ基もしくはハロゲン原子で
置換されていてもよいフェニル基、シクロアルキル基、
ナフチル基、アントラセニル基、フルオレニル基、ベン
ズチアゾリル基、ナフタリミジル基を、Ｒ⁴ は電子吸引
基を表わすかあるいはＲ³ とＲ⁴ が一緒になって環を形
成する。）で表わされるイミド化合物とを一般式

【００１４】 Ｍ（Ｈａｌ）_n （Ｒ⁵ ）_m 〔Ｖ〕 （式中、Ｍは金属原子を、Ｈａｌはハロゲン原子を、Ｒ
⁵ は低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェノキシ
基、置換フェノキシ基、又はシクロペンタジエニル基
を、ｎ及びｍはそれぞれ０，１，２，３，４又は５でか
つｎ＋ｍはＭの原子価を示す。）で表わされる化合物及
び塩基の存在下で反応させることを特徴とする一般式

【００１５】

【化１５】

【００１６】（式中、Ｒ，Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ 及びＲ⁴ は
前記と同じ意味を示す。）で表わされる４−置換アゼチ
ジノン誘導体の製造方法である。Ｒ¹ の水酸基の保護基
とはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチ
ルジフェニルシリル、トリエチルシリル、ジメチルクミ
ルシリル、トリイソプロピルシリル、ジメチルヘキシル
シリル等のオルガノシリル基、ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニ
ル、アリルオキシカルボニル等のカーボネート基、アセ
チル基、トリフェニルメチル基、ベンゾイル基、テトラ
ヒドロピラニル基などが例示される。Ｎの保護基として
は上記で記載したシリル基、ベンジル基、ｐ−ニトロベ
ンジル基、ｐ−ニトロベンゾイルメチル基、ベンズヒド
リル基、ｐ−メトキシベンジル基、２，４−ジメトキシ
ベンジル基などが例示される。Ｚの脱離基としては、直
鎖、分枝または環状のアルカノイルオキシ、単環または
双環のヘテロ原子を有していてもよいアロイルオキシ、
アリールアルカノイルオキシ、アルキルスルホニルオキ
シ、アリールスルホニルオキシ、カルバモイルオキシ、
アルコキシカルボキシ、アラルコキシカルボキシ、アル
コキシアルカノイルオキシなどのアシルオキシ基、アル
カノイルチオ、アロイルチオなどのアシルチオ基、アル
キルチオ、アリールチオなどのスルフェニル基、アルキ
ルスルフィニル、アリールスルフィニルなどのスルフィ
ニル基、アルキルスルホニル、アリールスルホニルなど
のスルホニル基、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原
子等が例示できる。

【００１７】塩基としては第２、３級アミン類及びピリ
ジン類が挙げられ、たとえばジメチルアミン、ジエチル
アミン、ジイソプロピルアミン、ジシクロヘキシルアミ
ン等のアルキルアミン、Ｎ−メチルアニリン等のアルキ
ルアニリン、ピペリジン、ピロリジン、２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン、モルホリン、ピペラジン等
の複素環状アミン等の第２級アミン、ジイソプロピルエ
チルアミン、ジイソプロピルメチルアミン、トリエチル
アミン等のアルキルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン
等のジアルキルアニリン、１−エチルピペリジン、１−
メチルモルホリン、１−エチルピロリジン、１，４−ジ
アザビシクロ〔２，２，２〕オクタン、１，８−ジアザ
ビシクロ〔５，４，０〕ウンデス−７−エン等の複素環
状のアミンもしくはＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル
エチレンジアミン等のジアミン類等の第３級アミン、
α，βまたはγ−ピリコン、２，３−、２，４−、２，
５−、２，６−、３，４−または３，５−ルチジン、
２，４，６−コリジン等のアルキルピリジン、ジメチル
アミノピリジンのようなジアルキルアミノピリジン、キ
ノリンのような縮合複素環化されたピリジン等のピリジ
ン類が例示できる。

【００１８】Ｍ（Ｈａｌ）_n （Ｒ⁵ ）_m で表わされる化
合物としてはＺｒＣｌ₄ ，ＺｒＣｌ₃ （ＯＣＨ₃ ），Ｚ
ｒＣｌ₃ （ＯＣ₂ Ｈ₅ ），ＺｒＣｌ₃ （ＯＣ
₃ Ｈ₇ ⁿ ），ＺｒＣｌ₃ （ＯＣ₃ Ｈ₇ ⁱ ），ＺｒＣｌ₃
（ＯＣ₄ Ｈ₉ ⁱ ），ＺｒＣｌ₃ （ＯＣ₄Ｈ₉ ^s ），Ｚｒ
Ｃｌ₃ （ＯＣ₄ Ｈ₉ ^t ），ＳｎＣｌ₄ ，ＡｌＣｌ₃ ，Ａ
ｌ（ＯＣＨ₃ ）₃ ，Ａｌ（ＯＣ₂ Ｈ₅ ）₃ ，Ａｌ（ＯＣ
₃ Ｈ₇ ⁱ ）₃ ，ＡｌＣｌ₂ Ｃ₂ Ｈ₅ ，ＡｌＣｌ（Ｃ₂ Ｈ
₅ ）₂ ，Ａｌ（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₃ ，ＡｌＣｌ₂ ＣＨ₃ ，Ａｌ
Ｃｌ（ＣＨ₃ ）₂ ，Ａｌ（ＣＨ₃ ）₃ 等が例示できる。

【００１９】一般式

【００２０】

【化１６】

【００２１】で表わされる置換基（以下、補助基とい
う。）としては以下のものが例示できる。

【００２２】

【化１７】

【００２３】

【化１８】

【００２４】

【化１９】

【００２５】

【化２０】

【００２６】

【化２１】

【００２７】

【化２２】

【００２８】

【化２３】

【００２９】

【化２４】

【００３０】反応は塩化メチレン、クロロホルム等の塩
素系溶媒、クロロベンゼン、トルエン等の芳香族系溶
媒、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）アセトニトリル等の
極性溶媒等の有機溶媒中、一般式〔IV〕で表わされるイ
ミド化合物と一般式〔Ｖ〕で表わされる化合物及びアミ
ン、アニリン又はピリジン類とでエノレートを生成させ
このエノレートと一般式〔III 〕で表わされるアゼチジ
ノン誘導体とを反応させる。反応温度はエノレートの生
成及びエノレートとアゼチジノン誘導体との反応とも−
５０°〜１００℃、好ましくは−２０°〜５０℃で行な
う。

【００３１】反応のモル比は一般式〔III 〕で表わされ
るアゼチジノン誘導体１モルに対し、一般式〔IV〕で表
わされるイミド化合物１〜８モル、一般式〔Ｖ〕で表わ
される化合物１〜８モル、塩基１〜８モルである。ま
た、Ｒ² がメチル基等のアルキル基の場合、一般式〔I
V〕で表わされるイミド化合物と一般式〔Ｖ〕で表わさ
れる化合物あるいはアミンのモル比あるいは補助基の種
類により生成するα−体とβ−体の割合が異る。ＤＭ
Ｆ、ＴＨＦ、アセトニトリル等の極性溶媒を添加するこ
とにより目的のβ−体の生成比をよくすることができ
る。反応終了後は通常の後処理を行なうことにより、目
的物を単離することができる。また、単離せずにそのま
ま加水分解させ一般式〔Ｉ〕

【００３２】

【化２５】

【００３３】（式中、Ｒ，Ｒ¹ 及びＲ² は前記と同じ意
味を示す。）で表わされるカルボン酸誘導体に導くこと
も可能である。

【００３４】

【実施例】次に実施例を挙げ本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例１β−メチル誘導体（３−〔（Ｒ）−２−〔（３Ｓ，４
Ｒ）−３−〔（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リロキシエチル〕−２−オキソアゼチジン−４−イル〕
プロピオニル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２
−チオン）の製造

【００３５】

【化２６】

【００３６】４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキ
サゾリジン−２−チオン（３７５ｍｇ，２ミリモル）の
塩化メチレン（２ｍｌ）溶液を−２０℃に冷却し、四塩
化ジルコニウム（４６６ｍｇ，２ミリモル）を加えた。
−２０℃で３０分間熟成した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピ
ルエチルアミン（２５９ｍｇ，２ミリモル）の塩化メチ
レン（１ｍｌ）溶液および（３Ｒ，４Ｒ）−４−アセト
キシ−３−〔（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リロキシエチル〕アゼチジン−２−オン（２８７．５ｍ
ｇ，１ミリモル）の塩化メチレン（１ｍｌ）溶液を同温
度で加えた。得られた混合液を−２０℃で１時間熟成し
た後２０℃に昇温し、さらに５時間熟成した。得られた
混合液を０℃に冷却し、１０％炭酸水素ナトリウム水溶
液（１０ｍｌ）を攪拌しながら添加した。不溶物を濾過
によって取り除き、濾液から分離した有機層をＨＰＬＣ
分析した結果、β−メチル誘導体２００ｍｇ（β−メチ
ル誘導体：α−メチル誘導体＝９９：１）を含有してい
た。

【００３７】実施例２β−メチル誘導体（３−〔（Ｒ）−２−〔（３Ｓ，４
Ｒ）−３−〔（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リロキシエチル〕−２−オキソアゼチジン−４−イル〕
プロピオニル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２
−チオン）の製造

【００３８】

【化２７】

【００３９】４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキ
サゾリジン−２−チオン（３７５ｍｇ，２ミリモル）の
塩化メチレン（２ｍｌ）溶液を−２０℃に冷却し、塩化
アルミニウム（２６６ｍｇ，２ミリモル）を加えた。−
２０℃で３０分間熟成した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル
エチルアミン（２５９ｍｇ，２ミリモル）の塩化メチレ
ン（１ｍｌ）溶液および（３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキ
シ−３−〔（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ロキシエチル〕アゼチジン−２−オン（２８７．５ｍ
ｇ，１ミリモル）の塩化メチレン（１ｍｌ）溶液を同温
度で加えた。得られた混合液を−２０℃で１時間熟成し
た後２０℃に昇温し、さらに５時間熟成した。得られた
混合液を０℃に冷却し、１０％炭酸水素ナトリウム水溶
液（１０ｍｌ）を攪拌しながら添加した。不溶物を濾過
によって取り除き、濾液から分離した有機層をＨＰＬＣ
分析した結果、β−メチル誘導体９４ｍｇ（β−メチル
誘導体：α−メチル誘導体＝６７：３３）含有してい
た。

【００４０】実施例３β−メチル誘導体（３−〔（Ｒ）−２−〔（３Ｓ，４
Ｒ）−３−〔（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リロキシエチル〕−２−オキソアゼチジン−４−イル〕
プロピオニル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２
−チオン）の製造

【００４１】

【化２８】

【００４２】４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキ
サゾリジン−２−チオン（３７５ｍｇ，２ミリモル）の
塩化メチレン（２ｍｌ）溶液を−２０℃に冷却し、エチ
ルジクロロアルミニウム／ｎ−ヘキサン溶液（１Ｍ，２
ｍｌ，２ミリモル）を加えた。−２０℃で３０分間熟成
した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（２５９
ｍｇ，２ミリモル）の塩化メチレン（１ｍｌ）溶液およ
び（３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１
−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチ
ジン−２−オン（２８７．５ｍｇ，１ミリモル）の塩化
メチレン（１ｍｌ）溶液を同温度で加えた。得られた混
合液を−２０℃で１時間熟成した後２０℃に昇温し、さ
らに５時間熟成した。得られた混合液を０℃に冷却し、
１０％炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）を攪拌し
ながら添加した。不溶物を濾過によって取り除き、濾液
から分離した有機層をＨＰＬＣ分析した結果、β−メチ
ル誘導体１０２ｍｇ（β−メチル誘導体：α−メチル誘
導体＝７３：２７）を含有していた。

【００４３】実施例４β−メチル誘導体（３−〔（Ｒ）−２−〔（３Ｓ，４
Ｒ）−３−〔（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リロキシエチル〕−２−オキソアゼチジン−４−イル〕
プロピオニル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２
−チオン）の製造

【００４４】

【化２９】

【００４５】４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキ
サゾリジン−２−チオン（３７５ｍｇ，２ミリモル）の
塩化メチレン（２ｍｌ）溶液を−２０℃に冷却し、ジエ
チルクロロアルミニウム／ｎ−ヘキサン溶液（１Ｍ，２
ｍｌ，２ミリモル）を加えた。−２０℃で３０分間熟成
した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（２５９
ｍｇ，２ミリモル）の塩化メチレン（１ｍｌ）溶液およ
び（３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１
−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチ
ジン−２−オン（２８７．５ｍｇ，１ミリモル）の塩化
メチレン（１ｍｌ）溶液を同温度で加えた。得られた混
合液を−２０℃で１時間熟成した後２０℃に昇温し、さ
らに５時間熟成した。得られた混合液を０℃に冷却し、
１０％炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）を攪拌し
ながら添加した。不溶物を濾過によって取り除き、濾液
から分離した有機層をＨＰＬＣ分析した結果、β−メチ
ル誘導体２２７ｍｇ（β−メチル誘導体：α−メチル誘
導体＝８６：１４）を含有していた。

【００４６】実施例５β−メチル誘導体（３−〔（Ｒ）−２−〔（３Ｓ，４
Ｒ）−３−〔（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リロキシエチル〕−２−オキソアゼチジン−４−イル〕
プロピオニル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２
−チオン）の製造

【００４７】

【化３０】

【００４８】４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキ
サゾリジン−２−チオン（３７５ｍｇ，２ミリモル）の
塩化メチレン（２ｍｌ）溶液を−２０℃に冷却し、トリ
エチルアルミニウム／ｎ−ヘキサン溶液（１Ｍ，２ｍ
ｌ，２ミリモル）を加えた。−２０℃で３０分間熟成し
た後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（２５９ｍ
ｇ，２ミリモル）の塩化メチレン（１ｍｌ）溶液および
（３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチジ
ン−２−オン（２８７．５ｍｇ，１ミリモル）の塩化メ
チレン（１ｍｌ）溶液を同温度で加えた。得られた混合
液を−２０℃で１時間熟成した後２０℃に昇温し、さら
に５時間熟成した。得られた混合液を０℃に冷却し、１
０％炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）を攪拌しな
がら添加した。不溶物を濾過によって取り除き、濾液か
ら分離した有機層をＨＰＬＣ分析した結果、β−メチル
誘導体１３１ｍｇ（β−メチル誘導体：α−メチル誘導
体＝９１：９）を含有していた。

【００４９】実施例６α−メチル誘導体（３−〔（Ｓ）−２−〔（３Ｓ，４
Ｒ）−３−〔（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リロキシエチル〕−２−オキソアゼチジン−４−イル〕
プロピオニル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２
−チオン）の製造

【００５０】

【化３１】

【００５１】４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキ
サゾリジン−２−チオン（３７５ｍｇ，２ミリモル）の
塩化メチレン（２ｍｌ）溶液を−２０℃に冷却し、塩化
スズ（IV）（５２１ｍｇ，２ミリモル）の塩化メチレン
溶液（１ｍｌ）を加えた。−２０℃で３０分間熟成した
後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（２５９ｍ
ｇ，２ミリモル）の塩化メチレン（１ｍｌ）溶液および
（３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチジ
ン−２−オン（２８７．５ｍｇ，１ミリモル）の塩化メ
チレン（１ｍｌ）溶液を同温度で加えた。得られた混合
液を−２０℃で１時間熟成した後２０℃に昇温し、さら
に５時間熟成した。得られた混合液を０℃に冷却し、１
０％炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）を攪拌しな
がら添加した。不溶物を濾過によって取り除き、濾液か
ら分離した有機層をＨＰＬＣ分析した結果、α−メチル
誘導体２４ｍｇ（β−メチル誘導体：α−メチル誘導体
＝１４：８６）を含有していた。

【００５２】実施例７β−メチル誘導体（３−〔（Ｒ）−２−〔（３Ｓ，４
Ｒ）−３−〔（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リロキシエチル〕−２−オキソアゼチジン−４−イル〕
プロピオニル〕ベンゾキサゾリン−２−オン）の製造

【００５３】

【化３２】

【００５４】３−プロピオニルベンゾキサゾリン−２−
オン（３８２ｍｇ，２ミリモル）の塩化メチレン（２ｍ
ｌ）溶液を−２０℃に冷却し、四塩化ジルコニウム（４
６６ｍｇ，２ミリモル）を加えた。−２０℃で３０分間
熟成した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（２
５９ｍｇ，２ミリモル）の塩化メチレン（１ｍｌ）溶液
および（３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）
−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕ア
ゼチジン−２−オン（２８７．５ｍｇ， ミリモル）の
塩化メチレン（１ｍｌ）溶液を同温度で加えた。得られ
た混合液を−２０℃で５時間熟成した後０℃に昇温し、
１０％炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）を攪拌し
ながら添加した。不溶物を濾過によって取り除き、濾液
から分離した有機層をＨＰＬＣ分析した結果、β−メチ
ル誘導体２５９ｍｇ（β−メチル誘導体：α−メチル誘
導体＝９０：１０）を含有していた。

【００５５】

【発明の効果】本発明の製造方法は安価でしかも取扱い
やすい一般式〔Ｖ〕で表わされる化合物を使用した工業
的に優れた製造方法である。また、Ｒ² がメチル基等の
アルキル基の場合、モル比の調整、あるいは補助基を適
宜選択することによりカルバペネム系化合物の中間体と
して重要なβ−体を選択的に得ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 403/06 ２０５ 7602−4Ｃ 413/06 ２０５ 7602−4Ｃ 417/06 ２０５ 9051−4Ｃ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式 【化１】 （式中、Ｒは水素原子又は容易に除去できるＮの保護
   基、Ｒ¹ は保護されていてもよい水酸基もしくはハロゲ
   ン原子で置換されていてもよいアルキル基をＺは脱離基
   を示す。）で表わされるアゼチジノン誘導体と一般式 【化２】 （式中、Ｒ² は水素原子又はアルキル基を、 Ｒ³ はアルキル基、トリアルキルシリル基、アルキル
   基、アルコキシ基、ニトロ基もしくはハロゲン原子で置
   換されていてもよいフェニル基、シクロアルキル基、ナ
   フチル基、アントラセニル基、フルオレニル基、ベンズ
   チアゾリル基、ナフタリミジル基を、 Ｒ⁴ は電子吸引基を表わすかあるいはＲ³ とＲ⁴ が一緒
   になって環を形成する。）で表わされるイミド化合物と
   を一般式 Ｍ（Ｈａｌ）_n （Ｒ⁵ ）_m 〔Ｖ〕 （式中、Ｍは金属原子を、Ｈａｌはハロゲン原子を、Ｒ
   ⁵ は低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェノキシ
   基、置換フェノキシ基、又はシクロペンタジエニル基
   を、ｎ及びｍはそれぞれ０，１，２，３，４又は５でか
   つ、ｎ＋ｍはＭの原子価を示す。）で表わされる化合物
   及び塩基の存在下で反応させることを特徴とする一般式 【化３】 （式中、Ｒ，Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ 及びＲ⁴ は前記と同じ意
   味を示す。）で表わされる４−置換アゼチジノン誘導体
   の製造方法。
2. 【請求項２】 ＭがＺｒ、又はＳｎであり、ｍ＋ｎが４
   である請求項１の製造方法。
3. 【請求項３】 ＭがＡｌであり、ｍ＋ｎが３である請求
   項１の製造方法。
4. 【請求項４】 Ｒ⁴ が一般式 【化４】 〔式中、Ｘは酸素原子、硫黄原子またはＮＲ⁷ 基（Ｒ⁷
   は水素原子、アルキル基又はフェニル基を示す。）を、
   Ｙは酸素原子、硫黄原子又はＮＲ⁸ 基（Ｒ⁸ は水素原
   子、アルキル基又はフェニル基を示す。）をＲ⁶ はアル
   キル基、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基もしくは
   ハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、シク
   ロアルキル基、ナフチル基、又はＲ³ と一緒になって５
   〜６員環を形成する。〕で表わされる置換基である請求
   項１，２，又は３記載の製造方法。
5. 【請求項５】 【化５】 〔式中、Ｒ⁹ ，Ｒ¹⁰，Ｒ¹¹及びＲ¹²はそれぞれ水素原
   子、アルキル基、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基
   又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、
   シクロアルキル基、ナフチル基、Ｒ⁹ ，Ｒ¹⁰もしくはＲ
   ¹¹，Ｒ¹²が一緒になってオキソ基又はシクロアルキル基
   を、又はＲ⁹ ，Ｒ¹⁰，Ｒ¹¹，Ｒ¹²及びこれらの置換基の
   付根の隣接する２個の炭素原子と一緒になって形成する
   芳香族基を、Ｘ及びＹは前記と同じ意味を示す。）で表
   わされる５員環である請求項１，２，３，又は４記載の
   製造方法。
6. 【請求項６】 Ｒ⁴ が一般式−ＳＯ₂ Ｒ¹³（式中、Ｒ¹³
   はアルキル基、ハロアルキル基、アルキル基、アルコキ
   シ基、ニトロ基もしくはハロゲン原子で置換されていて
   もよいフェニル基、シクロアルキル基、ナフチル基又は
   Ｒ³ と一緒になって環を形成する。）で表される置換基
   である請求項１，２又は３記載の製造方法。
7. 【請求項７】 一般式 【化６】 〔式中、Ｒ¹⁴，Ｒ¹⁵，Ｒ¹⁶，Ｒ¹⁷，Ｒ¹⁸，Ｒ¹⁹，Ｒ²⁰，
   Ｒ²¹，Ｒ²²，Ｒ²³，Ｒ²⁴及びＲ²⁵はそれぞれ水素原子、
   アルキル基、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基もし
   くはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、
   シクロアルキル基又はＲ¹⁴とＲ¹⁵、Ｒ¹⁶とＲ¹⁷、Ｒ¹⁸と
   Ｒ¹⁹、Ｒ²⁰とＲ²¹、Ｒ²²とＲ²³もしくはＲ ²⁴とＲ²⁵が一
   緒になってオキソ基又はシクロアルキル基を、更にＲ¹⁶
   とＲ¹⁸、Ｒ¹⁴とＲ²⁰、Ｒ¹⁶とＲ²²、Ｒ²²とＲ²⁴、又はＲ
   ¹⁴とＲ²⁴が一緒になって環を形成してもよく、更にその
   際Ｒ¹⁷とＲ¹⁹、Ｒ¹⁵とＲ²¹、Ｒ¹⁷とＲ²³、Ｒ²³とＲ²⁵あ
   るいはＲ¹⁵とＲ²⁵が一緒になって２重結合を形成しても
   よい。ＱはＯ，Ｓ又はＮＲ²⁶（式中、Ｒ²⁶は水素原子、
   アルキル基又はフェニル基を示す。）で表される環であ
   る請求項１，２，３又は６記載の製造方法。
8. 【請求項８】 Ｒ⁴ が一般式 【化７】 （式中、Ｘは前記と同じ意味を表し、Ｒ²⁷はアルキル
   基、ハロアルキル基、アルキル基、アルコキシ基、ニト
   ロ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよいフェ
   ニル基、シクロアルキル基、ナフチル基又はＲ³ と一緒
   になって環を形成する。）で表わされる置換基である請
   求項１，２又は３記載の製造方法。
9. 【請求項９】 一般式 【化８】 〔式中、Ｘは前記と同じ意味を表し、Ｒ²⁸，Ｒ²⁹，
   Ｒ³⁰，Ｒ³¹，Ｒ³²，Ｒ³³，Ｒ³⁴，Ｒ³⁵はそれぞれ水素原
   子、アルキル基、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基
   もしくはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル
   基、シクロアルキル基、ナフチル基又はＲ²⁸とＲ²⁹、Ｒ
   ³⁰とＲ³¹、Ｒ³²とＲ³³もしくはＲ³⁴とＲ³⁵が一緒になっ
   てオキソ基又はシクロアルキル基を、但し、Ｒ³⁰と
   Ｒ³²、Ｒ²⁸とＲ³⁴又はＲ³²とＲ³⁴が一緒になって環を形
   成してもよく、更にその際Ｒ³¹とＲ³³、Ｒ²⁸とＲ³⁵ある
   いはＲ³³とＲ³⁵は２重結合を形成してもよい。ＵはＯ，
   Ｓ又はＮＲ³⁶（式中、Ｒ³⁶は水素原子、アルキル基又は
   フェニル基を示す。）を表す。〕で表わされる環である
   請求項１，２，３又は８記載の製造方法。
10. 【請求項１０】 Ｒ⁴ が一般式ＳＯ₂ −Ｔ−Ｒ³⁷で〔式
    中、ＴはＯ，Ｓ又はＮＲ³⁸（式中、Ｒ³⁸は水素原子又は
    アルキル基を示す。）を、Ｒ³⁷はアルキル基、アルキル
    基、アルコキシ基、ニトロ基、もしくはハロゲン原子で
    置換されていてもよいフェニル基、シクロアルキル基、
    ナフチル基又はＲ³ と一緒になって５〜６員環を形成す
    る。〕で表わされる置換基である請求項１，２又は３記
    載の製造方法。
11. 【請求項１１】 一般式 【化９】 〔式中、Ｒ³⁹，Ｒ⁴⁰，Ｒ⁴¹，Ｒ⁴²，Ｒ⁴³及びＲ⁴⁴はそれ
    ぞれ水素原子、アルキル基、アルキル基、アルコキシ
    基、ニトロ基もしくはハロゲン原子で置換されていても
    よいフェニル基、シクロアルキル基、ナフチル基又はＲ
    ³⁹とＲ⁴⁰、Ｒ⁴¹とＲ⁴²又はＲ⁴³とＲ⁴⁴が一緒になってオ
    キソ基又はシクロアルキル基を、但し、Ｒ³⁹とＲ⁴¹又は
    Ｒ⁴¹とＲ⁴³が一緒になって環を形成してもよく、更にそ
    の際Ｒ⁴⁰とＲ⁴²あるいはＲ⁴²とＲ⁴⁴は２重結合を形成し
    てもよい。Ｔは前記と同じ意味を示し、ＷはＯ，Ｓ又は
    ＮＲ⁴⁵（式中、Ｒ⁴⁵は水素原子、アルキル基又はフェニ
    ル基を示す。）を表す。〕で表される環である請求項
    １，２，３又は１０記載の製造方法。
12. 【請求項１２】 Ｒ⁴ がニトロ基である請求項１，２又
    は３記載の製造方法。