JP2604897B2 - β―ラクタム化合物の製造法 - Google Patents
β―ラクタム化合物の製造法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は３位に水酸基が保護されたヒドロキシエチル
基を有し、４位にシリルエーテル基あるいは置換メルカ
プト基を有するβ−ラクタム化合物の製造法に関する。
基を有し、４位にシリルエーテル基あるいは置換メルカ
プト基を有するβ−ラクタム化合物の製造法に関する。
本発明によるβ−ラクタム化合物は、４位に反応性に
富む官能基を有し、様々の誘導体に変換できる有用な中
間体である。たとえば、４位の活性な官能基をさらに変
換することにより、第４世代のβ−ラクタム系抗生物質
として知られているチエナマイシン製造に有用な４−ア
セトキシ−３−（１−ヒドロキシエチル）−アゼチジン
−２−オン、３−（１−ヒドロキシエチル）−４−ハロ
アゼチジン−２−オン、３−（１−ヒドロキシエチル）
−４−スルホニルアゼチジン−２−オンなどが取得でき
る。
富む官能基を有し、様々の誘導体に変換できる有用な中
間体である。たとえば、４位の活性な官能基をさらに変
換することにより、第４世代のβ−ラクタム系抗生物質
として知られているチエナマイシン製造に有用な４−ア
セトキシ−３−（１−ヒドロキシエチル）−アゼチジン
−２−オン、３−（１−ヒドロキシエチル）−４−ハロ
アゼチジン−２−オン、３−（１−ヒドロキシエチル）
−４−スルホニルアゼチジン−２−オンなどが取得でき
る。
［従来の技術・発明が解決しようとする課題］ ハロスルホニルイソシアナートは反応性が高く、入手
が容易な反応剤としてβ−ラクタム合成に広く用いられ
る。しかし生成したＮ−ハロスルホニル−β−ラクタム
が４位に活性な官能基を有するばあい、Ｎ上のハロスル
ホニル基を脱離させ、無保護のβ−ラクタムを収率良く
うるための反応剤としては、工業生産上取り扱いにくい
ものや後処理の際に反応剤より生じる副生物の除去が困
難になったりするものが多い。
が容易な反応剤としてβ−ラクタム合成に広く用いられ
る。しかし生成したＮ−ハロスルホニル−β−ラクタム
が４位に活性な官能基を有するばあい、Ｎ上のハロスル
ホニル基を脱離させ、無保護のβ−ラクタムを収率良く
うるための反応剤としては、工業生産上取り扱いにくい
ものや後処理の際に反応剤より生じる副生物の除去が困
難になったりするものが多い。
４位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物
とその製造法に関しては特開昭61−18791号公報、４位
に置換メルカプト基を有するβ−ラクタム化合物とその
製造法に関しては特開昭61−207373号公報に報告されて
いるがその製造過程でのβ−ラクタム環のＮ上のクロロ
スルホニル基の脱離においては、脱離に使用した反応剤
より生成してくるアルミ化合物、メトキシエタノール、
ジスルフィドなどの除去あるいは処理において工業的な
面から大きな問題点があった。
とその製造法に関しては特開昭61−18791号公報、４位
に置換メルカプト基を有するβ−ラクタム化合物とその
製造法に関しては特開昭61−207373号公報に報告されて
いるがその製造過程でのβ−ラクタム環のＮ上のクロロ
スルホニル基の脱離においては、脱離に使用した反応剤
より生成してくるアルミ化合物、メトキシエタノール、
ジスルフィドなどの除去あるいは処理において工業的な
面から大きな問題点があった。
この問題を解決するために、本発明者らは鋭意検討を
行なった結果、硫化水素もしくはメルカプトベンゾチア
ゾールと塩基により還元反応を行なうことにより、簡単
に上記の１位窒素原子上のハロスルホニル基を効率的に
脱離させ、しかも収率よく目的とするβ−ラクタム化合
物（II）がえられ、しかも反応剤より副生するのは硫化
水素のばあいは反応性のないイオウであり、メルカプト
ベンゾチアゾールのばあいはそのジスルフィドであり、
いずれも溶媒に溶けにくいことを利用し、ろ過操作だけ
で容易に除去することができることを見出し本発明を完
成するにいたった。
行なった結果、硫化水素もしくはメルカプトベンゾチア
ゾールと塩基により還元反応を行なうことにより、簡単
に上記の１位窒素原子上のハロスルホニル基を効率的に
脱離させ、しかも収率よく目的とするβ−ラクタム化合
物（II）がえられ、しかも反応剤より副生するのは硫化
水素のばあいは反応性のないイオウであり、メルカプト
ベンゾチアゾールのばあいはそのジスルフィドであり、
いずれも溶媒に溶けにくいことを利用し、ろ過操作だけ
で容易に除去することができることを見出し本発明を完
成するにいたった。
［課題を解決するための手段および作用］ 本発明は一般式（II）： （式中、R1は水酸基の保護基を示し、Ａは酸素原子また
はイオウ原子であり、Ａが酸素原子のばあい、R2は （式中、R3、R4およびR5は炭素数１〜６の低級アルキル
基、フェニル基またはアラルキル基を示す）を示し、Ａ
がイオウ原子のばあい、R2はトリフェニルメチル基、ｔ
−ブチル基、フェニル基、低級アルキルフェニル基、低
級アルコキシフェニル基またはハロゲン置換フェニル基
を示し、Ｘはハロゲンを示す）で表わされるβ−ラクタ
ム化合物の製造法に関する。
はイオウ原子であり、Ａが酸素原子のばあい、R2は （式中、R3、R4およびR5は炭素数１〜６の低級アルキル
基、フェニル基またはアラルキル基を示す）を示し、Ａ
がイオウ原子のばあい、R2はトリフェニルメチル基、ｔ
−ブチル基、フェニル基、低級アルキルフェニル基、低
級アルコキシフェニル基またはハロゲン置換フェニル基
を示し、Ｘはハロゲンを示す）で表わされるβ−ラクタ
ム化合物の製造法に関する。
前記一般式（II）中の３位のヒドロキシエチル基の０
−保護基であるR1としては、一般式（III） （式中、R6、R7およびR8は炭素数１〜６の低級アルキル
基、フェニル基またはアラルキル基を示す）で表わされ
るトリアルキルシリル基、たとえばtert−ブチルジメチ
ルシリル基、トリイソプロピルシリル基、イソプロピル
ジメチルシリル基、イソブチルジメチルシリル基、ジメ
チル−（1,2−ジメチルプロピル）シリル基、ジメチル
−（1,1,2−トリメチルプロピル）シリル基や、その他t
ert−ブチル基、ベンジル基、トリクロロエトキシカル
ボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル基などがあげられる。
−保護基であるR1としては、一般式（III） （式中、R6、R7およびR8は炭素数１〜６の低級アルキル
基、フェニル基またはアラルキル基を示す）で表わされ
るトリアルキルシリル基、たとえばtert−ブチルジメチ
ルシリル基、トリイソプロピルシリル基、イソプロピル
ジメチルシリル基、イソブチルジメチルシリル基、ジメ
チル−（1,2−ジメチルプロピル）シリル基、ジメチル
−（1,1,2−トリメチルプロピル）シリル基や、その他t
ert−ブチル基、ベンジル基、トリクロロエトキシカル
ボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル基などがあげられる。
すなわち、本発明は一般式（Ｉ）： （式中、R1は水酸基の保護基を示し、Ａは酸素原子また
はイオウ原子であり、Ａが酸素原子のばあい、R2は （R3、R4およびR5は炭素数１〜６の低級アルキル基、フ
ェニル基またはアラルキル基を示す）を示し、Ａがイオ
ウ原子のばあい、R2はトリフェニルメチル基、ｔ−ブチ
ル基、フェニル基、低級アルキルフェニル基、低級アル
コキシフェニル基またはハロゲン置換フェニル基を示
し、Ｘはハロゲンを示す）で表わされるＮ−ハロスルホ
ニル−β−ラクタム化合物をチオール化合物と塩基を使
用して還元し、一般式（II）： （式中、R1、ＡおよびR2は前記と同じ）で表わされるβ
−ラクタム化合物を製造する方法において、チオール化
合物として硫化水素もしくはメルカプトベンゾチアゾー
ルを使用し、有機溶媒中および／または水溶媒中にて還
元し、還元後有機溶媒により一般式（II）のβ−ラクタ
ム化合物を採取する一般式（II）のβ−ラクタム化合物
の製造法に関するものである。さらには、反応後反応液
を濾過したのち、濾液より有機溶媒により一般式（II）
のβ−ラクタム化合物を採取する前記方法に関するもの
である。
はイオウ原子であり、Ａが酸素原子のばあい、R2は （R3、R4およびR5は炭素数１〜６の低級アルキル基、フ
ェニル基またはアラルキル基を示す）を示し、Ａがイオ
ウ原子のばあい、R2はトリフェニルメチル基、ｔ−ブチ
ル基、フェニル基、低級アルキルフェニル基、低級アル
コキシフェニル基またはハロゲン置換フェニル基を示
し、Ｘはハロゲンを示す）で表わされるＮ−ハロスルホ
ニル−β−ラクタム化合物をチオール化合物と塩基を使
用して還元し、一般式（II）： （式中、R1、ＡおよびR2は前記と同じ）で表わされるβ
−ラクタム化合物を製造する方法において、チオール化
合物として硫化水素もしくはメルカプトベンゾチアゾー
ルを使用し、有機溶媒中および／または水溶媒中にて還
元し、還元後有機溶媒により一般式（II）のβ−ラクタ
ム化合物を採取する一般式（II）のβ−ラクタム化合物
の製造法に関するものである。さらには、反応後反応液
を濾過したのち、濾液より有機溶媒により一般式（II）
のβ−ラクタム化合物を採取する前記方法に関するもの
である。
本発明を反応式で示すと以下の通りである。
本反応における原料のＮ−ハロスルホニル−β−ラク
タム類（Ｉ）としては３−（１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−
（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン、３−
（１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−
１−クロロスルホニル−４−（トリエチルシリロキシ）
アゼチジン−２−オン、３−（１−（tert−ブチルジメ
チルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４
−（ジメチルイソプロピルシリロキシ）アゼチジン−２
−オン、３−（１−（tert−ブチルジメチルシリロキ
シ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−（tert−ブ
チルジメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン、１−
クロロスルホニル−３−（１−（ジメチルイソプロピル
シリロキシ）エチル）−４−トリメチルシリロキシ）ア
ゼチジン−２−オン、１−クロロスルホニル−３−（１
−（ジメチル（1,1,2−トリメチルプロピル）シリロキ
シ）エチル）−４−トリメチルシリロキシ）アゼチジン
−２−オン、１−クロロスルホニル−３−（１−（tert
−ブチルジフェニルシリロキシ）エチル）−４−（トリ
メチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン、１−クロロ
スルホニル−３−（１−（ジメチル（1,2−ジメチルプ
ロピル）シリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリ
ロキシ）アゼチジン−２−オン、３−（１−tert−ブト
キシエチル）−１−クロロスルホニル−４−（トリエチ
ルシリロキシ）アゼチジン−２−オン、３−（１−tert
−ブトキシエチル）−１−クロロスルホニル−４−（ト
リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン、３−（１
−（tert−ブチルカルボニルオキシ）エチル）−１−ク
ロロスルホニル−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチ
ジン−２−オン、３−（１−tert−ブトキシエチル）−
１−クロロスルホニル−４−（トリエチルシリロキシ）
アゼチジン−２−オン、１−クロロスルホニル−４−ト
リエチルシリロキシ−３−（１−（トリメチルシリロキ
シ）エチル）アゼチジン−２−オン、３−（１−（tert
−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロス
ルホニル−４−（フェニルチオ）アゼチジン−２−オ
ン、３−（１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−１−クロロスルホニル−４−（ｐ−メトキシフ
ェニルチオ）アゼチジン−２−オン、３−（１−（tert
−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロス
ルホニル−４−ｐ−クロロフェニルチオ）アゼチジン−
２−オン、３−（１−（tert−ブチルジメチルシリロキ
シ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−（ｐ−メト
キシフェニルチオ）アゼチジン−２−オン、３−（１−
（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−１−ク
ロロスルホニル−４−（ｐ−メチルフェニルチオ）アゼ
チジン−２−オン、３−（１−（tert−ブチルジメチル
シリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−
（ｐ−フルオロフェニルチオ）アゼチジン−２−オン、
３−（１−tert−ブチルジメチルシリロキシエチル）−
１−クロロスルホニル−４−（3,4−ジクロロフェニル
チオ）アゼチジン−２−オンがあげられる。
タム類（Ｉ）としては３−（１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−
（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン、３−
（１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−
１−クロロスルホニル−４−（トリエチルシリロキシ）
アゼチジン−２−オン、３−（１−（tert−ブチルジメ
チルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４
−（ジメチルイソプロピルシリロキシ）アゼチジン−２
−オン、３−（１−（tert−ブチルジメチルシリロキ
シ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−（tert−ブ
チルジメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン、１−
クロロスルホニル−３−（１−（ジメチルイソプロピル
シリロキシ）エチル）−４−トリメチルシリロキシ）ア
ゼチジン−２−オン、１−クロロスルホニル−３−（１
−（ジメチル（1,1,2−トリメチルプロピル）シリロキ
シ）エチル）−４−トリメチルシリロキシ）アゼチジン
−２−オン、１−クロロスルホニル−３−（１−（tert
−ブチルジフェニルシリロキシ）エチル）−４−（トリ
メチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン、１−クロロ
スルホニル−３−（１−（ジメチル（1,2−ジメチルプ
ロピル）シリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリ
ロキシ）アゼチジン−２−オン、３−（１−tert−ブト
キシエチル）−１−クロロスルホニル−４−（トリエチ
ルシリロキシ）アゼチジン−２−オン、３−（１−tert
−ブトキシエチル）−１−クロロスルホニル−４−（ト
リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン、３−（１
−（tert−ブチルカルボニルオキシ）エチル）−１−ク
ロロスルホニル−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチ
ジン−２−オン、３−（１−tert−ブトキシエチル）−
１−クロロスルホニル−４−（トリエチルシリロキシ）
アゼチジン−２−オン、１−クロロスルホニル−４−ト
リエチルシリロキシ−３−（１−（トリメチルシリロキ
シ）エチル）アゼチジン−２−オン、３−（１−（tert
−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロス
ルホニル−４−（フェニルチオ）アゼチジン−２−オ
ン、３−（１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−１−クロロスルホニル−４−（ｐ−メトキシフ
ェニルチオ）アゼチジン−２−オン、３−（１−（tert
−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロス
ルホニル−４−ｐ−クロロフェニルチオ）アゼチジン−
２−オン、３−（１−（tert−ブチルジメチルシリロキ
シ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−（ｐ−メト
キシフェニルチオ）アゼチジン−２−オン、３−（１−
（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−１−ク
ロロスルホニル−４−（ｐ−メチルフェニルチオ）アゼ
チジン−２−オン、３−（１−（tert−ブチルジメチル
シリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−
（ｐ−フルオロフェニルチオ）アゼチジン−２−オン、
３−（１−tert−ブチルジメチルシリロキシエチル）−
１−クロロスルホニル−４−（3,4−ジクロロフェニル
チオ）アゼチジン−２−オンがあげられる。
これらの原料は特開昭61−18791号および同61−20737
3号公報に報告されている方法で合成した。つぎに、本
反応により生成したβ−ラクタム化合物の窒素上の置換
基を脱離させ、目的化合物（II）をうる反応について述
べる。
3号公報に報告されている方法で合成した。つぎに、本
反応により生成したβ−ラクタム化合物の窒素上の置換
基を脱離させ、目的化合物（II）をうる反応について述
べる。
本反応の化合物（Ｉ）および化合物（II）においてＡ
が酸素原子のばあい、R2はトリメチルシリル基、トリエ
チルシリル基、ジメチルイソプロピルシリル基、tert−
ブチルジメチルシリル基などがあげられ、Ａがイオウ原
子のばあい、R2はフェニル基、ｐ−メトキシフェニル
基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ
−フルオロフェニル基、3,4−ジクロロフェニル基、ト
リフェニルメチル基、ｔ−ブチル基などがあげられる。
また、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子などのハロゲンであり、好ましくは塩素原子である。
が酸素原子のばあい、R2はトリメチルシリル基、トリエ
チルシリル基、ジメチルイソプロピルシリル基、tert−
ブチルジメチルシリル基などがあげられ、Ａがイオウ原
子のばあい、R2はフェニル基、ｐ−メトキシフェニル
基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ
−フルオロフェニル基、3,4−ジクロロフェニル基、ト
リフェニルメチル基、ｔ−ブチル基などがあげられる。
また、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子などのハロゲンであり、好ましくは塩素原子である。
この反応は有機溶媒中、あるいは水溶媒中、一般式
（Ｉ）に示した化合物に硫化水素もしくはメルカプトベ
ンゾチアゾールと塩基を作用させることにより行なわれ
る。塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジ
ン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジエチルアミ
ン、アニリン、シクロヘキシルアミン等の一級、二級、
三級アミン、およびアンモニア、水酸化ナトリウムなど
の無機塩基が用いられる。
（Ｉ）に示した化合物に硫化水素もしくはメルカプトベ
ンゾチアゾールと塩基を作用させることにより行なわれ
る。塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジ
ン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジエチルアミ
ン、アニリン、シクロヘキシルアミン等の一級、二級、
三級アミン、およびアンモニア、水酸化ナトリウムなど
の無機塩基が用いられる。
反応溶媒としては、たとえばトルエン、ヘキサン、エ
ーテルなどの有機溶媒、および水溶媒が使用できる。
ーテルなどの有機溶媒、および水溶媒が使用できる。
反応は−100℃から溶媒沸点付近の任意の温度で行な
えるが、好ましくは−50℃から室温程度である。原料で
あるハロスルホニルラクタムを反応試剤に添加してもよ
く、またはハロスルホニルラクタムの溶媒中に反応試剤
を添加してもよい。硫化水素もしくはメルカプトベンゾ
チアゾールと塩基の量としてはハロスルホニルラクタム
の当量に対してそれぞれ１当量以上であればよい。この
還元反応を行なったのちに水洗処理、濃縮、ろ過等を行
なうことにより目的とするＮ−無置換のβ−ラクタム化
合物を収率よく簡単にうることができる。
えるが、好ましくは−50℃から室温程度である。原料で
あるハロスルホニルラクタムを反応試剤に添加してもよ
く、またはハロスルホニルラクタムの溶媒中に反応試剤
を添加してもよい。硫化水素もしくはメルカプトベンゾ
チアゾールと塩基の量としてはハロスルホニルラクタム
の当量に対してそれぞれ１当量以上であればよい。この
還元反応を行なったのちに水洗処理、濃縮、ろ過等を行
なうことにより目的とするＮ−無置換のβ−ラクタム化
合物を収率よく簡単にうることができる。
［実施例］ 次に実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明するが
本発明はこれらの実施例にのみ限定されるものではな
い。
本発明はこれらの実施例にのみ限定されるものではな
い。
参考例 ３−（１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチ
ル）−１−クロロスルホニル−４−（トリメチルシリロ
キシ）アゼチジン−２−オン生成の確認 クロロスルホニルイソシアナート35μをトルエンd8
に溶解し、アルゴンガス雰囲気下、−78℃に冷却しなが
ら３−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）ブテ−１−
ニルトリメチルシリルエーテル100mgを添加した。１時
間後、この反応液の一部を抜き取り、−70℃に液体窒素
で冷却しながら1H−NMRスペクトルを測定すると原料で
ある３−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）ブテ−１
−ニルトリメチルシリルエーテルの１位プロトン（6.5p
pm付近、ｄ）と、２位プロトン（5.2ppm付近、ｍ）のシ
グナルが消失し、6.2ppm（d,ラクタム４位）、2.8ppm
（m,ラクタム３位）に新たなシグナルが生成しているこ
とより、３−（１−（tert−ブチルジメチルシリロキ
シ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−（トリメチ
ルシリロキシ）アゼチジン−２−オンの生成を確認し
た。
ル）−１−クロロスルホニル−４−（トリメチルシリロ
キシ）アゼチジン−２−オン生成の確認 クロロスルホニルイソシアナート35μをトルエンd8
に溶解し、アルゴンガス雰囲気下、−78℃に冷却しなが
ら３−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）ブテ−１−
ニルトリメチルシリルエーテル100mgを添加した。１時
間後、この反応液の一部を抜き取り、−70℃に液体窒素
で冷却しながら1H−NMRスペクトルを測定すると原料で
ある３−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）ブテ−１
−ニルトリメチルシリルエーテルの１位プロトン（6.5p
pm付近、ｄ）と、２位プロトン（5.2ppm付近、ｍ）のシ
グナルが消失し、6.2ppm（d,ラクタム４位）、2.8ppm
（m,ラクタム３位）に新たなシグナルが生成しているこ
とより、３−（１−（tert−ブチルジメチルシリロキ
シ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−（トリメチ
ルシリロキシ）アゼチジン−２−オンの生成を確認し
た。
実施例１ （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−トリメチルシリロキシ）
アゼチジン−２−オンの合成 クロロスルホニルイソシアナート0.35mlをトルエン5m
lに加えた溶液を、アルゴンガス雰囲気下、−70℃に冷
却しながら、３−（（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリ
ロキシ）ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル1gを
反応液の内温を−70℃以下に保ちながら約10分間で滴下
後、１時間攪拌を行なった。
ルシリロキシ）エチル）−４−トリメチルシリロキシ）
アゼチジン−２−オンの合成 クロロスルホニルイソシアナート0.35mlをトルエン5m
lに加えた溶液を、アルゴンガス雰囲気下、−70℃に冷
却しながら、３−（（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリ
ロキシ）ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル1gを
反応液の内温を−70℃以下に保ちながら約10分間で滴下
後、１時間攪拌を行なった。
これとは別の反応容器に、硫化水素0.31g、トリエチ
ルアミン1.1ml、トルエン15ccの混合物を室温下で調製
し、アルゴン雰囲気下−20℃に冷却しておいた。先に調
製した３−（１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）
エチル）−１−クロロスルホニル−４−（トリメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンのトルエン溶液を、こ
の還元反応剤中へ温度が上がらないように注意深く移送
した。
ルアミン1.1ml、トルエン15ccの混合物を室温下で調製
し、アルゴン雰囲気下−20℃に冷却しておいた。先に調
製した３−（１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）
エチル）−１−クロロスルホニル−４−（トリメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンのトルエン溶液を、こ
の還元反応剤中へ温度が上がらないように注意深く移送
した。
移送終了後、−20℃で30分攪拌し、氷水50cc中に注い
だ。15分間攪拌し、トルエン25ccで洗い込みながら分液
ロートに移した。
だ。15分間攪拌し、トルエン25ccで洗い込みながら分液
ロートに移した。
分液後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、トルエン層を
ガスクロマトグラフィーにより定量分析すると目的物で
ある（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンが0.67g生成していることが
分かった。（反応収率63％）。
ガスクロマトグラフィーにより定量分析すると目的物で
ある（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンが0.67g生成していることが
分かった。（反応収率63％）。
このトルエン層をロータリーエバポレーターで濃縮し
たのち、ヘキサン3ccを加え、−30℃で１晩放置するこ
とにより析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ
過、乾燥することにより純粋な（3R,4R）−３−
（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２
−オン0.5gをえた。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.09（6H,s）、0.20（6H,s）、0.90（9H,s）、1.26（3
H,d）、2.96（1H,dd）、5.33（1H,d）、7.23（1H） m.p.:95〜96℃ ▲［α］25 D▼：−9.5゜（ｃ＝1.0、CHCl3） 実施例２ （3R,4R）−３−［（Ｒ）−１−［ジメチル（1,1,2−ト
リメチルプロピル）シリロキシ］エチル］−４−（トリ
メチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１の３−（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルおよびト
リエチルアミンの代わりに、３−（（Ｒ）−ジメチル
（1,1,2−トリメチルプロピル）シリロキシ）ブテ−１
−ニルトリメチルシリルエーテル1gおよびジノルマルプ
ロピルアミン0.8gをそれぞれ用い、実施例１と同様の操
作をすることにより、目的物0.67gを含むトルエン溶液
をえた（収率60％）。えられたトルエン溶液を、実施例
１と同様に濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶することに
よって、純粋な（3R,4R）−３−［（Ｒ）−１−［ジメ
チル（1,1,2−トリメチルプロピル）シリロキシ］エチ
ル］−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−
オン0.3gをえた。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.08（6H,s）、0.20（6H,s）、0.83（6H,s）、1.20（3
H,d）、1.50（1H,m）、3.0（1H,dd）、4.1（1H,m）、5.
35（1H,d）、6.5（1H,broad） 実施例３ （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（ジメチルイソプロピ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１の３−（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルの代わり
に、３−（（Ｒ）−ジメチルイソプロピルシリロキシ）
ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル0.95gを用
い、実施例１と同様の操作をすることにより、（3R,4
R）−３−（（Ｒ）−１−ジメチルイソプロピルシリロ
キシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチ
ジン−２−オン（0.5g）を含むトルエン溶液をえた（反
応収率45％）。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.08（6H,s）、0.21（9H,s）、1.29（3H,d）、1.75（1
H,m）、1.98（6H,d）、3.05（1H,dd）、4.20（1H,m）、
5.35（1H,d）、6.9（1H,broad） 実施例４ （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１のトリエチルアミンの代わりに、ジノルマル
プロピルアミン0.8gを用い、実施例１と同様の操作をす
ることにより、目的物0.67gを含むトルエン溶液をえた
（収率63％）。えられたトルエン溶液を、実施例１と同
様に濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶することによっ
て、純粋な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチル
シリロキシ）アゼチジン−２−オン0.5gをえた。
たのち、ヘキサン3ccを加え、−30℃で１晩放置するこ
とにより析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ
過、乾燥することにより純粋な（3R,4R）−３−
（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２
−オン0.5gをえた。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.09（6H,s）、0.20（6H,s）、0.90（9H,s）、1.26（3
H,d）、2.96（1H,dd）、5.33（1H,d）、7.23（1H） m.p.:95〜96℃ ▲［α］25 D▼：−9.5゜（ｃ＝1.0、CHCl3） 実施例２ （3R,4R）−３−［（Ｒ）−１−［ジメチル（1,1,2−ト
リメチルプロピル）シリロキシ］エチル］−４−（トリ
メチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１の３−（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルおよびト
リエチルアミンの代わりに、３−（（Ｒ）−ジメチル
（1,1,2−トリメチルプロピル）シリロキシ）ブテ−１
−ニルトリメチルシリルエーテル1gおよびジノルマルプ
ロピルアミン0.8gをそれぞれ用い、実施例１と同様の操
作をすることにより、目的物0.67gを含むトルエン溶液
をえた（収率60％）。えられたトルエン溶液を、実施例
１と同様に濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶することに
よって、純粋な（3R,4R）−３−［（Ｒ）−１−［ジメ
チル（1,1,2−トリメチルプロピル）シリロキシ］エチ
ル］−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−
オン0.3gをえた。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.08（6H,s）、0.20（6H,s）、0.83（6H,s）、1.20（3
H,d）、1.50（1H,m）、3.0（1H,dd）、4.1（1H,m）、5.
35（1H,d）、6.5（1H,broad） 実施例３ （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（ジメチルイソプロピ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１の３−（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルの代わり
に、３−（（Ｒ）−ジメチルイソプロピルシリロキシ）
ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル0.95gを用
い、実施例１と同様の操作をすることにより、（3R,4
R）−３−（（Ｒ）−１−ジメチルイソプロピルシリロ
キシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチ
ジン−２−オン（0.5g）を含むトルエン溶液をえた（反
応収率45％）。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.08（6H,s）、0.21（9H,s）、1.29（3H,d）、1.75（1
H,m）、1.98（6H,d）、3.05（1H,dd）、4.20（1H,m）、
5.35（1H,d）、6.9（1H,broad） 実施例４ （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１のトリエチルアミンの代わりに、ジノルマル
プロピルアミン0.8gを用い、実施例１と同様の操作をす
ることにより、目的物0.67gを含むトルエン溶液をえた
（収率63％）。えられたトルエン溶液を、実施例１と同
様に濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶することによっ
て、純粋な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチル
シリロキシ）アゼチジン−２−オン0.5gをえた。
実施例５ （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１のトリエチルアミンの代わりに、シクロヘキ
シルアミン0.7gを用い、実施例１と同様の操作をするこ
とにより、目的物0.60gを含むトルエン溶液をえた（収
率56％）。えられたトルエン溶液を、実施例１と同様に
濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶することによって、純
粋な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロ
キシ）アゼチジン−２−オン0.45gをえた。
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１のトリエチルアミンの代わりに、シクロヘキ
シルアミン0.7gを用い、実施例１と同様の操作をするこ
とにより、目的物0.60gを含むトルエン溶液をえた（収
率56％）。えられたトルエン溶液を、実施例１と同様に
濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶することによって、純
粋な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロ
キシ）アゼチジン−２−オン0.45gをえた。
実施例６ （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１のトリエチルアミンの代わりに、トリブチル
アミン1.50gを用い、実施例１と同様の操作をすること
により、目的物0.67gを含むトルエン溶液をえた（収率6
3％）。えられたトルエン溶液を、実施例１と同様に濃
縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶することによって、純粋
な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメ
チルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オン0.5gをえた。
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１のトリエチルアミンの代わりに、トリブチル
アミン1.50gを用い、実施例１と同様の操作をすること
により、目的物0.67gを含むトルエン溶液をえた（収率6
3％）。えられたトルエン溶液を、実施例１と同様に濃
縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶することによって、純粋
な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメ
チルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オン0.5gをえた。
実施例７ （3S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（フェニルチオ）アゼチ
ジン−２−オンの合成 クロロスルホニルイソシアナート0.35mlをトルエン5m
lに加えた溶液を、アルゴンガス雰囲気下、15℃に冷却
しながら、（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリルオ
キシ−１−フェニルチオ−１−ブテン1gを反応液の内温
を15℃以下に保ちながら約10分間で滴下後、１時間攪拌
を行なった。
ルシリロキシ）エチル）−４−（フェニルチオ）アゼチ
ジン−２−オンの合成 クロロスルホニルイソシアナート0.35mlをトルエン5m
lに加えた溶液を、アルゴンガス雰囲気下、15℃に冷却
しながら、（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリルオ
キシ−１−フェニルチオ−１−ブテン1gを反応液の内温
を15℃以下に保ちながら約10分間で滴下後、１時間攪拌
を行なった。
これとは別の反応容器に、硫化水素0.52g、トリエチ
ルアミン1.2ml、トルエン25ccの混合物を室温下で調製
し、アルゴン雰囲気下−20℃に冷却していた。先に調製
した３−（１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−１−クロロスルホニル−４−フェニルチオ）ア
ゼチジン−２−オンのトルエン溶液を、この還元反応剤
中へ温度が上がらないように注意深く移送した。
ルアミン1.2ml、トルエン25ccの混合物を室温下で調製
し、アルゴン雰囲気下−20℃に冷却していた。先に調製
した３−（１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−１−クロロスルホニル−４−フェニルチオ）ア
ゼチジン−２−オンのトルエン溶液を、この還元反応剤
中へ温度が上がらないように注意深く移送した。
移送終了後、−20℃で30分間攪拌し、氷水50cc中に注
いだ。15分間攪拌し、トルエン25ccで洗い込みながら分
液ロートに移した。
いだ。15分間攪拌し、トルエン25ccで洗い込みながら分
液ロートに移した。
分液後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、トルエン層を
液体クロマトグラフィーにより定量分析すると目的物で
ある（3S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−（フェニルチオ）ア
ゼチジン−２−オンが0.46g生成していることが分かっ
た（反応収率40％）。
液体クロマトグラフィーにより定量分析すると目的物で
ある（3S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−（フェニルチオ）ア
ゼチジン−２−オンが0.46g生成していることが分かっ
た（反応収率40％）。
このトルエン層をロータリーエバポレーターで濃縮し
た後、ヘキサン3ccを加え、−30℃で１晩放置すること
により析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ過、
乾燥することにより純粋な（3S,4R）−３−（（Ｒ）−
１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル−４−
（フェニルチオ）アゼチジン−２−オン0.38gをえた。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.05（6H,s）、0.87（9H,s）、1.18（3H,d）、3.01（1
H,dd）、4.21（1H,d）、5.02（1H）、6.75（1H）、7.35
（5H,m） m.p.:126〜127℃ ▲［α］20 D▼：＋77.5゜（ｃ＝0.11、CHCl3） 実施例８ （3S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（クロロフェニルチオ）
アゼチジン−２−オンの合成 実施例７の（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリル
オキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わりに、
（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−１−
（４−クロロフェニルチオ）−１−ブテン1.12gを用
い、実施例７と同様の操作をすることにより、（3S,4
R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリ
ロキシ）エチル）−４−（４−クロロフェニルチオ）ア
ゼチジン−２−オン（0.5g）を含むトルエン溶液をえた
（反応収率40％）。
た後、ヘキサン3ccを加え、−30℃で１晩放置すること
により析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ過、
乾燥することにより純粋な（3S,4R）−３−（（Ｒ）−
１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル−４−
（フェニルチオ）アゼチジン−２−オン0.38gをえた。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.05（6H,s）、0.87（9H,s）、1.18（3H,d）、3.01（1
H,dd）、4.21（1H,d）、5.02（1H）、6.75（1H）、7.35
（5H,m） m.p.:126〜127℃ ▲［α］20 D▼：＋77.5゜（ｃ＝0.11、CHCl3） 実施例８ （3S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（クロロフェニルチオ）
アゼチジン−２−オンの合成 実施例７の（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリル
オキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わりに、
（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−１−
（４−クロロフェニルチオ）−１−ブテン1.12gを用
い、実施例７と同様の操作をすることにより、（3S,4
R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリ
ロキシ）エチル）−４−（４−クロロフェニルチオ）ア
ゼチジン−２−オン（0.5g）を含むトルエン溶液をえた
（反応収率40％）。
えられたトルエン溶液を、実施例７と同様に濃縮後、
ｎ−ヘキサンより再結晶することによって、純粋な（3
S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシ
リロキシ）エチル）−４−（４−クロロフェニルチオ）
アゼチジン−２−オン0.4gをえた。
ｎ−ヘキサンより再結晶することによって、純粋な（3
S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシ
リロキシ）エチル）−４−（４−クロロフェニルチオ）
アゼチジン−２−オン0.4gをえた。
実施例９ （3S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェニル
チオ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例７の（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリル
オキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わりに、
（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−１−
（４−メトキシフェニルチオ）−１−ブテン1.10gを用
い、実施例７と同様の操作をすることにより、（3S,4
R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリ
ロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェニルチオ）
アゼチジン−２−オン（0.5g）を含むトルエン溶液をえ
た（反応収率40％）。
ルシリロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェニル
チオ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例７の（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリル
オキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わりに、
（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−１−
（４−メトキシフェニルチオ）−１−ブテン1.10gを用
い、実施例７と同様の操作をすることにより、（3S,4
R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリ
ロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェニルチオ）
アゼチジン−２−オン（0.5g）を含むトルエン溶液をえ
た（反応収率40％）。
えられたトルエン溶液を、実施例７と同様に濃縮後、
ｎ−ヘキサンより再結晶することによって、純粋な（3
S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシ
リロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェニルチ
オ）アゼチジン−２−オン0.4gをえた。
ｎ−ヘキサンより再結晶することによって、純粋な（3
S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシ
リロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェニルチ
オ）アゼチジン−２−オン0.4gをえた。
実施例10 （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 クロロスルホニルイソシアナート1.14gとトルエン10m
lよりなる溶液を窒素ガス雰囲気下−70℃に冷却した。
この溶液に３−（（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシ）ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル2.18g
を反応液の内温を−70℃以下に保ちながら約５分間で滴
下し、１時間攪拌を行なった。
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 クロロスルホニルイソシアナート1.14gとトルエン10m
lよりなる溶液を窒素ガス雰囲気下−70℃に冷却した。
この溶液に３−（（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシ）ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル2.18g
を反応液の内温を−70℃以下に保ちながら約５分間で滴
下し、１時間攪拌を行なった。
これとは別の反応容器に硫化水素2.27g、29％アンモ
ニア水4.28gの溶液を調製し、５℃に冷却した。この溶
液に先に調製した３−（１−（tert−ブチルジメチルシ
リロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−トリ
メチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンのトルエン溶
液を温度が上がらないように注意深く加えた。
ニア水4.28gの溶液を調製し、５℃に冷却した。この溶
液に先に調製した３−（１−（tert−ブチルジメチルシ
リロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−トリ
メチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンのトルエン溶
液を温度が上がらないように注意深く加えた。
添加終了後、10℃で10分間攪拌し、トルエン10mlで洗
い込みながら分液ロートに移した。
い込みながら分液ロートに移した。
分液後、トルエン層をガスクロマトグラフィーにより
定量分析すると目的物である（3R,4R）−３（（Ｒ）−
１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４
−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンが9.
85g生成していることがわかった（反応収率46％）。
定量分析すると目的物である（3R,4R）−３（（Ｒ）−
１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４
−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンが9.
85g生成していることがわかった（反応収率46％）。
このトルエン層をロータリーエバポレーターで濃縮し
たのち、ヘキサン44mlを加え、−30℃で１晩放置して析
出した結晶をグラスフィルターでろ過、真空乾燥するこ
とにより純粋な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert
−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメ
チルシリロキシ）アゼチジン−２−オン8.86gをえた。
たのち、ヘキサン44mlを加え、−30℃で１晩放置して析
出した結晶をグラスフィルターでろ過、真空乾燥するこ
とにより純粋な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert
−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメ
チルシリロキシ）アゼチジン−２−オン8.86gをえた。
実施例11 （3R,4R）−３（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチル
シリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキシ）
アゼチジン−２−オンの合成 クロロスルホニルイソシアナート1.12gとトルエン10m
lよりなる溶液を窒素ガス雰囲気下−70℃に冷却した。
この溶液に３−（（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシ）ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル1.82g
を反応液の内温を−70℃以下に保ちながら約５分間で滴
下し、１時間攪拌を行なった。
シリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキシ）
アゼチジン−２−オンの合成 クロロスルホニルイソシアナート1.12gとトルエン10m
lよりなる溶液を窒素ガス雰囲気下−70℃に冷却した。
この溶液に３−（（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシ）ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル1.82g
を反応液の内温を−70℃以下に保ちながら約５分間で滴
下し、１時間攪拌を行なった。
これとは別の反応容器に硫化水素2.12g、トリエチル
アミン7.37g、水20mlの溶液を調製し５℃に冷却した。
この溶液に先に調製した３−（１−（tert−ブチルジメ
チルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４
−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンのト
ルエン溶液を温度が上がらないように注意深く加えた。
アミン7.37g、水20mlの溶液を調製し５℃に冷却した。
この溶液に先に調製した３−（１−（tert−ブチルジメ
チルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４
−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンのト
ルエン溶液を温度が上がらないように注意深く加えた。
添加終了後、10℃で10分間攪拌し、トルエン10mlで洗
い込みながら分液ロートに移した。
い込みながら分液ロートに移した。
分液後、トルエン層をガスクロマトグラフィーにより
定量分析すると目的物である（3R,4R）−３−（（Ｒ）
−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−
４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンが
0.63g生成していることがわかった（反応収率30.1
％）。
定量分析すると目的物である（3R,4R）−３−（（Ｒ）
−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−
４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンが
0.63g生成していることがわかった（反応収率30.1
％）。
このトルエン層をロータリーエバポレーターで濃縮し
たのち、ヘキサン44mlを加え、−30℃で１晩放置して析
出した結晶をグラスフィルターでろ過、真空乾燥するこ
とにより純粋な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert
−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメ
チルシリロキシ）アゼチジン−２−オン0.56gをえた。
たのち、ヘキサン44mlを加え、−30℃で１晩放置して析
出した結晶をグラスフィルターでろ過、真空乾燥するこ
とにより純粋な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert
−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメ
チルシリロキシ）アゼチジン−２−オン0.56gをえた。
実施例12 （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 クロロスルホニルイソシアナート5.62gとトルエン50m
lよりなる溶液を窒素ガス雰囲気下−70℃に冷却した。
この溶液に３−（（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシ）ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル9.20g
を反応液の内温を−70℃以下に保ちながら約10分間で滴
下し、１時間攪拌を行なった。
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 クロロスルホニルイソシアナート5.62gとトルエン50m
lよりなる溶液を窒素ガス雰囲気下−70℃に冷却した。
この溶液に３−（（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシ）ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル9.20g
を反応液の内温を−70℃以下に保ちながら約10分間で滴
下し、１時間攪拌を行なった。
これとは別の反応容器に硫化水素2.98g、ジエチルア
ミン7.99g、水5mlの溶液を調製し５℃に冷却した。この
溶液に先に調製した３−（１−（tert−ブチルジメチル
シリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−
（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンのトル
エン溶液を温度が上がらないように注意深く加えた。
ミン7.99g、水5mlの溶液を調製し５℃に冷却した。この
溶液に先に調製した３−（１−（tert−ブチルジメチル
シリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−
（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンのトル
エン溶液を温度が上がらないように注意深く加えた。
添加終了後、10℃で10分間攪拌し、トルエン10mlで洗
い込みながら分液ロートに移した。
い込みながら分液ロートに移した。
分液後、トルエン層をガスクロマトグラフィーにより
定量分析すると目的物である（3R,4R）−３−（（Ｒ）
−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−
４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンが
6.53g生成していることがわかった（反応収率61.4
％）。
定量分析すると目的物である（3R,4R）−３−（（Ｒ）
−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−
４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンが
6.53g生成していることがわかった（反応収率61.4
％）。
実施例13 （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 クロロスルホニルイソシアナート0.35mlを、トルエン
5mlに加えた溶液をアルゴンガス雰囲気下、−70℃に冷
却しながら３−（（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシ）ブテ−１−ニトリルメチルシリルエーテル1gを反
応液の内温を−70℃以下に保ちながら約10分間で滴下
後、１時間攪拌を行なった。
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 クロロスルホニルイソシアナート0.35mlを、トルエン
5mlに加えた溶液をアルゴンガス雰囲気下、−70℃に冷
却しながら３−（（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシ）ブテ−１−ニトリルメチルシリルエーテル1gを反
応液の内温を−70℃以下に保ちながら約10分間で滴下
後、１時間攪拌を行なった。
これとは別の反応容器に、２−メルカプトベンゾチア
ゾール1.34g、トリエチルアミン1.1mlおよびトルエン2.
5ccの混合物を室温下で調製し、アルゴン雰囲気下−20
℃に冷却しておいた。先に調製した３−（１−（tert−
ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロスル
ホニル−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２
−オンのトルエン溶液をこの還元反応剤中へ温度が上ら
ないように注意深く移送した。
ゾール1.34g、トリエチルアミン1.1mlおよびトルエン2.
5ccの混合物を室温下で調製し、アルゴン雰囲気下−20
℃に冷却しておいた。先に調製した３−（１−（tert−
ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロスル
ホニル−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２
−オンのトルエン溶液をこの還元反応剤中へ温度が上ら
ないように注意深く移送した。
移送終了後、−20℃で30分間攪拌し、氷水50cc中に注
いだ。析出した沈澱物をろ過により除去し、トルエン50
ccで洗い込みながら分液ロートに移した。
いだ。析出した沈澱物をろ過により除去し、トルエン50
ccで洗い込みながら分液ロートに移した。
分液後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、トルエン層を
ガスクロマトグラフィーにより定量分析すると目的物で
ある（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンが0.67g生成していることが
わかった（反応収率60％）。
ガスクロマトグラフィーにより定量分析すると目的物で
ある（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンが0.67g生成していることが
わかった（反応収率60％）。
このトルエン層をロータリーエバポレーターで濃縮し
たのち、ヘキサン3ccを加え、−30℃で１晩放置するこ
とにより析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ
過、乾燥することにより純粋な（3R,4R）−３−
（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２
−オン0.3gをえた。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.09（6H,s）、0.20（6H,s）、0.90（9H,s）、1.26（3
H,d）、2.96（1H,dd）、5.33（1H,d）、7.23（1H） m.p.:95〜96℃ ▲［α］25 D▼：−9.5゜（ｃ＝1.0、CHCl3） 実施例14 （3R,4R）−３−［（Ｒ）−１−［ジメチル（1,1,2−ト
リメチルプロピル）シリロキシ］エチル］−４−（トリ
メチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例13の３−（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルおよびト
リエチルアミンの代わりに、３−（（Ｒ）−ジメチル
（1,1,2−トリメチルプロピル）シリロキシ）ブテ−１
−ニルトリメチルシリルエーテル1gおよびジノルマルプ
ロピルアミン0.8gをそれぞれ用い、実施例13と同様の操
作をすることにより、目的物0.67gを含むトルエン溶液
をえた（収率60％）。えられたトルエン溶液を、実施例
13と同様に濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶することに
よって、純粋な（3R,4R）−３−［（Ｒ）−１−［ジメ
チル（1,1,2−トリメチルプロピル）シリロキシ］エチ
ル］−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−
オン0.3gをえた。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.08（6H,s）、0.20（6H,s）、0.83（6H,s）、1.20（3
H,d）、1.50（1H,m）、3.0（1H,dd）、4.1（1H,m）、5.
35（1H,d）、6.5（1H,broad） 実施例15 （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（ジメチルイソプロピ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例13の３−（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルの代わり
に、３−（（Ｒ）−ジメチルイソプロピルシリロキシ）
ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル0.95gを用
い、実施例13と同様の操作をすることにより、（3R,4
R）−３−（（Ｒ）−１−（ジメチルイソプロピルシリ
ロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキシ）アゼ
チジン−２−オン（0.5g）を含むトルエン溶液をえた
（反応収率45％）。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.08（6H,s）、0.21（9H,s）、1.29（3H,d）、1.75（1
H,m）、1.98（6H,d）、3.05（1H,dd）、4.20（1H,m）、
5.35（1H,d）、6.9（1H,broad） 実施例16 （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例13のトリエチルアミンの代わりに、ジノルマル
プロピルアミン0.8gを用い、実施例13と同様の操作をす
ることにより、目的物0.67gを含むトルエン溶液をえた
（収率63％）。えられたトルエン溶液を、実施例13と同
様に濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶することによっ
て、純粋な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチル
シリロキシ）アゼチジン−２−オン0.5gをえた。
たのち、ヘキサン3ccを加え、−30℃で１晩放置するこ
とにより析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ
過、乾燥することにより純粋な（3R,4R）−３−
（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２
−オン0.3gをえた。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.09（6H,s）、0.20（6H,s）、0.90（9H,s）、1.26（3
H,d）、2.96（1H,dd）、5.33（1H,d）、7.23（1H） m.p.:95〜96℃ ▲［α］25 D▼：−9.5゜（ｃ＝1.0、CHCl3） 実施例14 （3R,4R）−３−［（Ｒ）−１−［ジメチル（1,1,2−ト
リメチルプロピル）シリロキシ］エチル］−４−（トリ
メチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例13の３−（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルおよびト
リエチルアミンの代わりに、３−（（Ｒ）−ジメチル
（1,1,2−トリメチルプロピル）シリロキシ）ブテ−１
−ニルトリメチルシリルエーテル1gおよびジノルマルプ
ロピルアミン0.8gをそれぞれ用い、実施例13と同様の操
作をすることにより、目的物0.67gを含むトルエン溶液
をえた（収率60％）。えられたトルエン溶液を、実施例
13と同様に濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶することに
よって、純粋な（3R,4R）−３−［（Ｒ）−１−［ジメ
チル（1,1,2−トリメチルプロピル）シリロキシ］エチ
ル］−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−
オン0.3gをえた。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.08（6H,s）、0.20（6H,s）、0.83（6H,s）、1.20（3
H,d）、1.50（1H,m）、3.0（1H,dd）、4.1（1H,m）、5.
35（1H,d）、6.5（1H,broad） 実施例15 （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（ジメチルイソプロピ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例13の３−（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリロ
キシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルの代わり
に、３−（（Ｒ）−ジメチルイソプロピルシリロキシ）
ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル0.95gを用
い、実施例13と同様の操作をすることにより、（3R,4
R）−３−（（Ｒ）−１−（ジメチルイソプロピルシリ
ロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキシ）アゼ
チジン−２−オン（0.5g）を含むトルエン溶液をえた
（反応収率45％）。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.08（6H,s）、0.21（9H,s）、1.29（3H,d）、1.75（1
H,m）、1.98（6H,d）、3.05（1H,dd）、4.20（1H,m）、
5.35（1H,d）、6.9（1H,broad） 実施例16 （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例13のトリエチルアミンの代わりに、ジノルマル
プロピルアミン0.8gを用い、実施例13と同様の操作をす
ることにより、目的物0.67gを含むトルエン溶液をえた
（収率63％）。えられたトルエン溶液を、実施例13と同
様に濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶することによっ
て、純粋な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチル
シリロキシ）アゼチジン−２−オン0.5gをえた。
実施例17 （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例13のトリエチルアミンの代わりに、シクロヘキ
シルアミン0.7gを用い、実施例13と同様の操作をするこ
とにより、目的物0.60gを含むトルエン溶液をえた（収
率56％）。えられたトルエン溶液を、実施例13と同様に
濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶することによって、純
粋な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロ
キシ）アゼチジン−２−オン0.45gをえた。
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例13のトリエチルアミンの代わりに、シクロヘキ
シルアミン0.7gを用い、実施例13と同様の操作をするこ
とにより、目的物0.60gを含むトルエン溶液をえた（収
率56％）。えられたトルエン溶液を、実施例13と同様に
濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶することによって、純
粋な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロ
キシ）アゼチジン−２−オン0.45gをえた。
実施例18 （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例13のトリエチルアミンの代わりに、トリブチル
アミン1.50gを用い、実施例13と同様の操作をすること
により、目的物0.67gを含むトルエン溶液をえた（収率6
3％）。えられたトルエン溶液を、実施例13と同様に濃
縮後、ｎ−ヘキサンよりも再結晶することによって、純
粋な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロ
キシ）アゼチジン−２−オン0.5gをえた。
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例13のトリエチルアミンの代わりに、トリブチル
アミン1.50gを用い、実施例13と同様の操作をすること
により、目的物0.67gを含むトルエン溶液をえた（収率6
3％）。えられたトルエン溶液を、実施例13と同様に濃
縮後、ｎ−ヘキサンよりも再結晶することによって、純
粋な（3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロ
キシ）アゼチジン−２−オン0.5gをえた。
実施例19 （3S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（フェニルチオ）アゼチ
ジン−２−オンの合成 クロロスルホニルイソシアナート0.35mlを、トルエン
5mlに加えた溶液をアルゴンガス雰囲気下、15℃に冷却
しながら（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ−１−フェニルチオ−１−ブテン1gを反応液の内温を
15℃以下に保ちながら約10分間で滴下後、１時間攪拌を
行なった。
ルシリロキシ）エチル）−４−（フェニルチオ）アゼチ
ジン−２−オンの合成 クロロスルホニルイソシアナート0.35mlを、トルエン
5mlに加えた溶液をアルゴンガス雰囲気下、15℃に冷却
しながら（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ−１−フェニルチオ−１−ブテン1gを反応液の内温を
15℃以下に保ちながら約10分間で滴下後、１時間攪拌を
行なった。
これとは別の反応容器に、２−メルカプトベンゾチア
ゾール1.46g、トリエチルアミン1.2ml、トルエン25ccの
混合物を室温下で調製し、アルゴン雰囲気下−20℃に冷
却しておいた。先に調製した（３−（１−（tert−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニ
ル−４−（フェニルチオ）アゼチジン−２−オンのトル
エン溶液を、この還元反応剤中へ温度が上がらないよう
に注意深く移送した。
ゾール1.46g、トリエチルアミン1.2ml、トルエン25ccの
混合物を室温下で調製し、アルゴン雰囲気下−20℃に冷
却しておいた。先に調製した（３−（１−（tert−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニ
ル−４−（フェニルチオ）アゼチジン−２−オンのトル
エン溶液を、この還元反応剤中へ温度が上がらないよう
に注意深く移送した。
移送終了後、−20℃で30分間攪拌し、氷水50cc中に注
いだ。析出した沈澱物をろ過により除去し、トルエン50
ccで洗い込みながら分液ロートに移した。
いだ。析出した沈澱物をろ過により除去し、トルエン50
ccで洗い込みながら分液ロートに移した。
分液後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、トルエン層を
液体クロマトグラフィーにより定量分析すると目的物で
ある（3S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−（フェニルチオ）ア
ゼチジン−２−オンが0.46g生成していることがわかっ
た（反応収率40％）。
液体クロマトグラフィーにより定量分析すると目的物で
ある（3S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−（フェニルチオ）ア
ゼチジン−２−オンが0.46g生成していることがわかっ
た（反応収率40％）。
このトルエン層をロータリーエバポレーターで濃縮し
たのち、ヘキサン3ccを加え、−30℃で１晩放置するこ
とにより析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ
過、乾燥することにより純粋な（3S,4R）−３−
（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−４−（フェニルチオ）アゼチジン−２−オン0.
38gをえた。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.05（6H,s）、0.87（9H,s）、1.18（3H,d）、3.01（1
H,dd）、4.21（1H,d）、5.02（1H）、6.75（1H）、7.35
（5H,m） m.p.:126〜127℃ ▲［α］20 D▼：＋77.5゜（ｃ＝0.11、CHCl3） 実施例20 （3S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（４−クロロフェニルチ
オ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例19の（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリル
オキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わりに、
（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−１−
（４−クロロフェニルチオ）−１−ブテン1.12gを用
い、実施例19と同様の操作をすることにより、（3S,4
R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリ
ロキシ）エチル）−４−（４−クロロフェニルチオ）ア
ゼチジン−２−オン（0.5g）を含むトルエン溶液をえ
た。（反応収率40％）。
たのち、ヘキサン3ccを加え、−30℃で１晩放置するこ
とにより析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ
過、乾燥することにより純粋な（3S,4R）−３−
（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−４−（フェニルチオ）アゼチジン−２−オン0.
38gをえた。1 H−NMR（90MHz、CDCl3）δ（ppm）： 0.05（6H,s）、0.87（9H,s）、1.18（3H,d）、3.01（1
H,dd）、4.21（1H,d）、5.02（1H）、6.75（1H）、7.35
（5H,m） m.p.:126〜127℃ ▲［α］20 D▼：＋77.5゜（ｃ＝0.11、CHCl3） 実施例20 （3S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（４−クロロフェニルチ
オ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例19の（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリル
オキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わりに、
（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−１−
（４−クロロフェニルチオ）−１−ブテン1.12gを用
い、実施例19と同様の操作をすることにより、（3S,4
R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリ
ロキシ）エチル）−４−（４−クロロフェニルチオ）ア
ゼチジン−２−オン（0.5g）を含むトルエン溶液をえ
た。（反応収率40％）。
えられたトルエン溶液を、実施例19と同様に濃縮後、
ｎ−ヘキサンより再結晶することによって、純粋な（3
S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシ
リロキシ）エチル）−４−（４−クロロフェニルチオ）
アゼチジン−２−オン0.4gをえた。
ｎ−ヘキサンより再結晶することによって、純粋な（3
S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシ
リロキシ）エチル）−４−（４−クロロフェニルチオ）
アゼチジン−２−オン0.4gをえた。
実施例21 （3S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェニル
チオ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例19の（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリル
オキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わりに、
（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−１−
（４−メトキシフェニルチオ）−１−ブテン1.10gを用
い、実施例19と同様の操作をすることにより、（3S,4
R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリ
ロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェニルチオ）
アゼチジン−２−オン（0.5g）を含むトルエン溶液をえ
た（反応収率40％）。
ルシリロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェニル
チオ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例19の（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリル
オキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わりに、
（3R）−３−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−１−
（４−メトキシフェニルチオ）−１−ブテン1.10gを用
い、実施例19と同様の操作をすることにより、（3S,4
R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリ
ロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェニルチオ）
アゼチジン−２−オン（0.5g）を含むトルエン溶液をえ
た（反応収率40％）。
えられたトルエン溶液を、実施例19と同様に濃縮後、
ｎ−ヘキサンより再結晶することによって、純粋な（3
S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシ
リロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェニルチ
オ）アゼチジン−２−オン0.4gをえた。
ｎ−ヘキサンより再結晶することによって、純粋な（3
S,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシ
リロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェニルチ
オ）アゼチジン−２−オン0.4gをえた。
実施例22 （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例13と同様にして、調製した３−（（Ｒ）−１−
（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−１−ク
ロロスルホニル−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチ
ジン−２−オンのトルエン溶液を、２−メルカプトベン
ゾチアゾール1.34g、トリエチルアミン水2.5ccより調製
し、氷冷したこの還元剤水溶液中によく攪拌しながら移
送した。10分間攪拌したのち、実施例13と同様の後処理
を行ない、えられたトルエン層をガスクロマトグラフィ
ーにより定量分析すると目的物である（3R,4R）−３−
（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２
−オンが0.52g生成していることがわかった（反応収率4
5％）。
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例13と同様にして、調製した３−（（Ｒ）−１−
（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−１−ク
ロロスルホニル−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチ
ジン−２−オンのトルエン溶液を、２−メルカプトベン
ゾチアゾール1.34g、トリエチルアミン水2.5ccより調製
し、氷冷したこの還元剤水溶液中によく攪拌しながら移
送した。10分間攪拌したのち、実施例13と同様の後処理
を行ない、えられたトルエン層をガスクロマトグラフィ
ーにより定量分析すると目的物である（3R,4R）−３−
（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２
−オンが0.52g生成していることがわかった（反応収率4
5％）。
実施例23 （3R,4R）−３−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例13と同様にして、調製した３−（（Ｒ）−１−
（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−１−ク
ロロスルホニル−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチ
ジン−２−オンのトルエン溶液を、２−メルカプトベン
ゾチアゾール1.34g、29％アンモニア水4.28gの溶液を調
製し、氷冷したこの還元剤水溶液中によく攪拌しながら
移送した。10分間攪拌したのち、実施例13と同様の後処
理を行ない、えられたトルエン層をガスクロマトグラフ
ィーにより定量分析すると目的物である（3R,4R）−３
−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）
エチル）−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−
２−オンが0.52g生成していることがわかった（反応収
率45％）。
ルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例13と同様にして、調製した３−（（Ｒ）−１−
（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−１−ク
ロロスルホニル−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチ
ジン−２−オンのトルエン溶液を、２−メルカプトベン
ゾチアゾール1.34g、29％アンモニア水4.28gの溶液を調
製し、氷冷したこの還元剤水溶液中によく攪拌しながら
移送した。10分間攪拌したのち、実施例13と同様の後処
理を行ない、えられたトルエン層をガスクロマトグラフ
ィーにより定量分析すると目的物である（3R,4R）−３
−（（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）
エチル）−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−
２−オンが0.52g生成していることがわかった（反応収
率45％）。
［発明の効果］ Ｎ−ハロスルホニル−β−ラクタムのハロスルホニル
基を脱離させる反応において、従来技術より収率よく、
かつ副生物の処理および除去に困難を伴わないＮ−無保
護のβ−ラクタム化合物の製造法を提供する。
基を脱離させる反応において、従来技術より収率よく、
かつ副生物の処理および除去に困難を伴わないＮ−無保
護のβ−ラクタム化合物の製造法を提供する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菅 和憲 兵庫県神戸市垂水区舞子台２丁目９―30 ―616 (72)発明者 大橋 武久 兵庫県神戸市灘区篠原伯母野山町３丁目 ９―14 (56)参考文献 特開 昭61−18791（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−195359（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−67（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−84057（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）： （式中、R1は水酸基の保護基を示し、Ａは酸素原子また
はイオウ原子であり、Ａが酸素原子のばあい、R2は （R3、R4およびR5は炭素数１〜６の低級アルキル基、フ
ェニル基またはアラルキル基を示す）を示し、Ａがイオ
ウ原子のばあい、R2はトリフェニルメチル基、ｔ−ブチ
ル基、フェニル基、低級アルキルフェニル基、低級アル
コキシフェニル基またはハロゲン置換フェニル基を示
し、Ｘはハロゲンを示す）で表わされるＮ−ハロスルホ
ニル−β−ラクタム化合物をチオール化合物と塩基を使
用して還元し、 一般式（II）： （式中、R1、ＡおよびR2は前記と同じ）で表わされるβ
−ラクタム化合物を製造する方法において、チオール化
合物として硫化水素もしくはメルカプトベンゾチアゾー
ルを使用し、有機溶媒中および／または水溶媒中にて還
元し、還元後有機溶媒により一般式（II）のβ−ラクタ
ム化合物を採取する一般式（II）のβ−ラクタム化合物
の製造法。 - 【請求項２】反応後反応液を濾過したのち、濾液より有
機溶媒により一般式（II）のβ−ラクタム化合物を採取
する請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】R1が （式中、R6、R7およびR8は炭素数１〜６の低級アルキル
基、フェニル基またはアラルキル基を表わす）である請
求項１または２記載の製造法。 - 【請求項４】塩基が一級アミン、二級アミン、三級アミ
ンまたはアンモニアである請求項１または２記載の製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2233776A JP2604897B2 (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | β―ラクタム化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2233776A JP2604897B2 (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | β―ラクタム化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04112867A JPH04112867A (ja) | 1992-04-14 |
| JP2604897B2 true JP2604897B2 (ja) | 1997-04-30 |
Family
ID=16960394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2233776A Expired - Fee Related JP2604897B2 (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | β―ラクタム化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2604897B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008108145A1 (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-12 | Kaneka Corporation | β－ラクタム化合物の製造方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6118791A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-27 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 |
| JPH066570B2 (ja) * | 1985-10-07 | 1994-01-26 | 鐘淵化学工業株式会社 | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造法 |
| JPS62195359A (ja) * | 1986-02-22 | 1987-08-28 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造方法 |
| JPS6467A (en) * | 1987-02-20 | 1989-01-05 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Production of 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetidin-2-one derivative |
-
1990
- 1990-09-03 JP JP2233776A patent/JP2604897B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04112867A (ja) | 1992-04-14 |
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