JP4319510B2 - 熱処理装置及び熱処理方法 - Google Patents
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Description
反応容器内の基板に対して、加熱手段により加熱して所定の熱処理を行う熱処理装置において、
基板が反応容器内に搬入された後、当該反応容器内に洗浄液を供給し、前記反応容器内を洗浄液で満たすことによって基板を洗浄するための洗浄液供給手段と、
前記反応容器内から洗浄液を排出するために設けられ、前記洗浄液が供給されている間は閉じられる排液口と、
前記洗浄液が排出された後に、基板を熱処理するための処理ガスを反応容器内に供給する処理ガス供給手段と、を備えたことを特徴としている。
前記反応容器の搬入口を開閉する蓋体と、
この蓋体に設けられ、基板を保持する基板保持具と、
この基板保持具を前記反応容器に対して搬入、搬出する手段と、
前記蓋体に設けられ、基板を保持した基板保持具が反応容器内に搬入された後、当該反応容器内に洗浄液を供給して基板を洗浄するための洗浄液供給手段と、
反応容器内から洗浄液を排出するための排液口と、
前記洗浄液が排出された後に、基板を熱処理するための処理ガスを反応容器内に供給する処理ガス供給手段と、を備えたことを特徴とする。
また他の発明の熱処理装置は、反応容器内の基板に対して、反応容器の外部に設けられた加熱手段により加熱して所定の熱処理を行う熱処理装置において、
前記反応容器の搬入口を開閉する蓋体と、
この蓋体に設けられ、基板を保持する基板保持具と、
この基板保持具を前記反応容器に対して搬入、搬出する手段と、
基板を保持した基板保持具が反応容器内に搬入された後、当該反応容器内に洗浄液を供給して基板を洗浄するための洗浄液供給手段と、
前記蓋体に設けられ、反応容器内から洗浄液を排出するための排液口と、
前記洗浄液が排出された後に、基板を熱処理するための処理ガスを反応容器内に供給する処理ガス供給手段と、を備えたことを特徴とする。
基板を反応容器内に搬入する工程と、
その後、前記反応容器内に洗浄液を供給して当該反応容器内を洗浄液で満たし、基板を洗浄する工程と、
前記反応容器内から洗浄液を排出する工程と、
前記洗浄液を排出した後、反応容器内に処理ガスを供給すると共に、当該反応容器内を加熱して基板に対して熱処理する工程と、を含むことを特徴とする。
基板を基板保持具に保持させる工程と、
次いで前記基板保持具を反応容器内に対して搬入し、蓋体により反応容器の搬入口を気密に閉じる工程と、
その後、前記蓋体に設けられた吐出口から前記反応容器内に洗浄液を供給して基板を洗浄する工程と、
前記反応容器内から洗浄液を排出する工程と、
前記洗浄液を排出した後、反応容器内に処理ガスを供給すると共に、当該反応容器内を加熱して基板に対して熱処理する工程と、を含むことを特徴とする。
また他の発明の熱処理方法は、反応容器内の基板に対して、反応容器の外部に設けられた加熱手段により加熱して所定の熱処理を行う熱処理方法において、
基板を基板保持具に保持させる工程と、
次いで前記基板保持具を反応容器内に対して搬入し、蓋体により反応容器の搬入口を気密に閉じる工程と、
その後、前記反応容器内に洗浄液を供給して基板を洗浄する工程と、
前記反応容器内の洗浄液を、前記蓋体に設けられた排液口から排出する工程と、
前記洗浄液を排出した後、反応容器内に処理ガスを供給すると共に、当該反応容器内を加熱して基板に対して熱処理する工程と、を含むことを特徴とする。
A2 ローディングエリア
3 第1の移載手段
4 第2の移載手段
5 加熱炉
51 反応容器
6 姿勢変更手段
61 回転箱
7 蓋体
8 ガス供給口
9 洗浄液供給口
91 排液口
Claims (10)
- 反応容器内の基板に対して、加熱手段により加熱して所定の熱処理を行う熱処理装置において、
基板が反応容器内に搬入された後、当該反応容器内に洗浄液を供給し、前記反応容器内を洗浄液で満たすことによって基板を洗浄するための洗浄液供給手段と、
前記反応容器内から洗浄液を排出するために設けられ、前記洗浄液が供給されている間は閉じられる排液口と、
前記洗浄液が排出された後に、基板を熱処理するための処理ガスを反応容器内に供給する処理ガス供給手段と、を備えたことを特徴とする熱処理装置。 - 反応容器内の基板に対して、反応容器の外部に設けられた加熱手段により加熱して所定の熱処理を行う熱処理装置において、
前記反応容器の搬入口を開閉する蓋体と、
この蓋体に設けられ、基板を保持する基板保持具と、
この基板保持具を前記反応容器に対して搬入、搬出する手段と、
前記蓋体に設けられ、基板を保持した基板保持具が反応容器内に搬入された後、当該反応容器内に洗浄液を供給して基板を洗浄するための洗浄液供給手段と、
反応容器内から洗浄液を排出するための排液口と、
前記洗浄液が排出された後に、基板を熱処理するための処理ガスを反応容器内に供給する処理ガス供給手段と、を備えたことを特徴とする熱処理装置。 - 反応容器内の基板に対して、反応容器の外部に設けられた加熱手段により加熱して所定の熱処理を行う熱処理装置において、
前記反応容器の搬入口を開閉する蓋体と、
この蓋体に設けられ、基板を保持する基板保持具と、
この基板保持具を前記反応容器に対して搬入、搬出する手段と、
基板を保持した基板保持具が反応容器内に搬入された後、当該反応容器内に洗浄液を供給して基板を洗浄するための洗浄液供給手段と、
前記蓋体に設けられ、反応容器内から洗浄液を排出するための排液口と、
前記洗浄液が排出された後に、基板を熱処理するための処理ガスを反応容器内に供給する処理ガス供給手段と、を備えたことを特徴とする熱処理装置。 - 基板保持具は、複数の基板を各々縦向きにして横方向に間隔をおいて保持するものであることを特徴とする請求項2または3に記載の熱処理装置。
- 洗浄液供給手段は、反応容器内を洗浄液で満たすためのものであり、洗浄液が供給されている間は排液口が閉じられていることを特徴とする請求項2ないし4のいずれか一項に記載の熱処理装置。
- 基板を反応容器内に搬入する工程と、
その後、前記反応容器内に洗浄液を供給して当該反応容器内を洗浄液で満たし、基板を洗浄する工程と、
前記反応容器内から洗浄液を排出する工程と、
前記洗浄液を排出した後、反応容器内に処理ガスを供給すると共に、当該反応容器内を加熱して基板に対して熱処理する工程と、を含むことを特徴とする熱処理方法。 - 反応容器内の基板に対して、反応容器の外部に設けられた加熱手段により加熱して所定の熱処理を行う熱処理方法において、
基板を基板保持具に保持させる工程と、
次いで前記基板保持具を反応容器内に対して搬入し、蓋体により反応容器の搬入口を気密に閉じる工程と、
その後、前記蓋体に設けられた吐出口から前記反応容器内に洗浄液を供給して基板を洗浄する工程と、
前記反応容器内から洗浄液を排出する工程と、
前記洗浄液を排出した後、反応容器内に処理ガスを供給すると共に、当該反応容器内を加熱して基板に対して熱処理する工程と、を含むことを特徴とする熱処理方法。 - 反応容器内の基板に対して、反応容器の外部に設けられた加熱手段により加熱して所定の熱処理を行う熱処理方法において、
基板を基板保持具に保持させる工程と、
次いで前記基板保持具を反応容器内に対して搬入し、蓋体により反応容器の搬入口を気密に閉じる工程と、
その後、前記反応容器内に洗浄液を供給して基板を洗浄する工程と、
前記反応容器内の洗浄液を、前記蓋体に設けられた排液口から排出する工程と、
前記洗浄液を排出した後、反応容器内に処理ガスを供給すると共に、当該反応容器内を加熱して基板に対して熱処理する工程と、を含むことを特徴とする熱処理方法。 - 基板を基板保持具に保持させる工程は、複数枚の基板を各々縦向きにして横方向に間隔をおいて基板保持具に保持させる工程であることを特徴とする請求項7または8に記載の熱処理方法。
- 反応容器内に洗浄液を供給する工程は、当該反応容器内を洗浄液で満たす工程であることを特徴とする請求項7ないし9のいずれか一項に記載の熱処理方法。
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