JP6820900B2 - Ald反応炉における基板の装填 - Google Patents
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Description
水平に向けられた基板群の鉛直方向の積み重ねを堆積反応炉の装填室内の基板ホルダの内部に形成するために、複数の基板を基板ホルダに装填することと、
鉛直に向けられた基板群の水平方向の積み重ねを形成するべく基板ホルダを転回させ、堆積のために基板ホルダを堆積反応炉の反応室内に下降させることと、
を含む方法が提供される。
装置前端モジュールによって前記複数の基板を基板収納キャリアから装填装置の取り上げおよび返却ステーションに装填することと、
前記複数の基板を一度に1枚ずつ前記装填装置取りだしおよび返却ステーションから移送室経由で前記装填室に装填することと、
を含む。
反応室の上にある装填室と反応室との間にゲートを設けること、
を含む。
材料を順次自己飽和表面反応によって前記複数の基板の表面に堆積させるために、反応室内で複数の基板を時間的に隔てられた複数の前駆体パルスに暴露すること、
を含む。
水平に向けられた基板群の鉛直方向の積み重ねを堆積反応炉の装填室内の基板ホルダの内部に形成するために、複数の基板を基板ホルダに装填するべくローダが構成され、本装置は、
鉛直に向けられた基板群の水平方向の積み重ねを形成するために基板ホルダを転回させるように構成された転回機構と、堆積のために基板ホルダを堆積反応炉の反応室内に下降させるように構成されたエレベータと、
を備える。
反応室の上にある装填室と反応室との間にゲートを備える。
前記複数の基板を基板収納キャリアから装填装置の取り上げおよび返却ステーションに装填するように構成された装置前端モジュールと、
前記複数の基板を一度に1枚ずつ装填装置の取り上げおよび返却ステーションから移送室経由で装填室内に装填するように構成された装填装置と、
を備える。
Claims (13)
- 堆積反応炉の反応室内に基板を装填する方法であって、
基板ホルダに複数の基板を供給すること、ただし前記複数の基板は前記基板ホルダ内で、水平に向けられた基板群の鉛直方向の積み重ねを形成する、前記供給することと、
鉛直に向けられた基板群の水平方向の配列を形成するべく前記基板ホルダを真空中で回転させることと、
を含む、方法であって、前記基板ホルダを真空中で回転させることは、前記基板ホルダを、該基板ホルダに備えられる回転中心において、回転軸の周りに回転させることを含む、方法。 - 堆積処理のために、堆積反応炉の反応室内に前記基板ホルダを装填するべく、昇降機構を動作させる、請求項1に記載の方法。
- 回転移動によって前記基板ホルダを回転させることを含む、請求項1又は2に記載の方法。
- アクチュエータによって一側面から前記基板ホルダにアクセスし、前記アクチュエータによって前記基板ホルダを回転させることを含む、請求項1から3の何れかに記載の方法。
- 前記アクチュエータによって前記基板ホルダを、該基板ホルダの中央に位置する回転軸の周りに回転させることを含む、請求項4に記載の方法。
- 順次自己飽和表面反応によって前記複数の基板の表面に材料を堆積させるために、前記反応室内で前記複数の基板を、時間的に隔てられた複数の前駆体パルスに暴露することを含む、請求項1から5の何れかに記載の方法。
- 堆積反応炉の反応室内に基板を装填する装置であって、
水平に向けられた基板群の鉛直方向の積み重ねを保持するように構成される基板ホルダと、
鉛直に向けられた基板群の水平方向の配列を形成するべく前記基板ホルダを真空中で回転させるように構成される回転機構と、
を備える装置であって、前記基板ホルダを真空中で回転させることは、前記基板ホルダを、該基板ホルダに備えられる回転中心において、回転軸の周りに回転させることを含む、装置。 - 堆積処理のために、堆積反応炉の反応室内に前記基板ホルダを装填する、昇降機構を備える、請求項7に記載の装置。
- 前記回転機構は、回転移動によって前記基板ホルダを回転させるように構成される、請求項7又は8に記載の装置。
- 前記回転機構は、一側面から前記基板ホルダにアクセスし、前記基板ホルダを回転させるように構成される、請求項7から9のいずれかに記載の装置。
- 前記回転機構は更に、前記基板ホルダの中央に位置する回転軸の周りに、前記基板ホルダを回転させるように構成される、請求項10に記載の装置。
- 前記堆積反応炉は原子層積反応炉である、請求項7から11のいずれかに記載の装置。
- 互いに対して所定パターンで位置決めされた複数の堆積反応炉を備える、請求項7から12のいずれかに記載の装置。
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