JP4311266B2 - エキシマランプおよび紫外線照射装置 - Google Patents
エキシマランプおよび紫外線照射装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4311266B2 JP4311266B2 JP2004117636A JP2004117636A JP4311266B2 JP 4311266 B2 JP4311266 B2 JP 4311266B2 JP 2004117636 A JP2004117636 A JP 2004117636A JP 2004117636 A JP2004117636 A JP 2004117636A JP 4311266 B2 JP4311266 B2 JP 4311266B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- excimer lamp
- excimer
- light
- visible light
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 title 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 32
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 28
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 3
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWRMSMKXOUQTFF-UHFFFAOYSA-N [Xe]=O Chemical compound [Xe]=O GWRMSMKXOUQTFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000005108 dry cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
この紫外線照射装置50は、一面(図において下面)に光照射口52が形成された全体が直方体の箱状のランプハウス51を具えてなり、このランプハウス51内における光照射口52と対向する位置において、紫外線光源である複数本例えば3本の棒状のエキシマランプ60が、互いに平行に延びるよう配設されて、構成されている。ランプハウス51における光照射口52には、透光性を有する窓部材53が光照射口52を気密に塞ぐよう嵌合されて設けられており、ランプハウス51の内部空間には、例えば窒素ガスなどの不活性ガスが充填されている。図7および図8において、55は、光照射方向に対してエキシマランプ60の後方に設けられた、エキシマランプ60を支持する冷却ブロックであって、エキシマランプ60から放射される光を反射する反射板としての機能を具えている。
このような紫外線照射装置においては、信頼性の高い紫外光照射処理を行うためには、エキシマランプの点灯状態が適正な状態、例えば十分な強度で真空紫外光が照射されている状態であるか否かを確認することが必要となるが、主として放射される光が真空紫外光であることから、当該エキシマランプの点灯状態は目視にて確認することができないため、エキシマランプの点灯状態を確認するための種々の手法が提案されている。
具体的には、例えば図7および図8に示されているように、エキシマランプ60が配設される冷却ブロック55における各々のエキシマランプ60に対応する位置に、複数の光検知手段配設用凹所57を形成し、当該光検知手段配設用凹所57内に、可視光検知用の光検知素子と、この光検知素子とエキシマランプ60との間に配置された、ガラス基板に蛍光体が塗布されてなる波長変換フィルターとを具えてなる光検知手段70が配置され、エキシマランプ60から放射される真空紫外光を波長変換フィルターによって可視光に変換し、この可視光を検知することによりエキシマランプ60の点灯状態を確認するものである。
また、エキシマランプ60を交換するに際しては、光検知手段70具体的には波長変換フィルターは、通常、交換されないので、検知精度が低下したものがそのまま利用されることとなり、エキシマランプ60の点灯状態を正確に確認することができない。
放電容器内における他方の電極との間でエキシマ放電が生ずる導電体部の少なくとも一部に、表面層部分がタングステンまたはタンタルの酸化物よりなる、エキシマ放電によって可視光が放射される可視光放射領域が形成されていることを特徴とする。
図1は、本発明の紫外線照射装置の一例における構成の概略を、エキシマランプの管軸に沿った断面において示す説明用部分断面図であり、図2は、図1に示す紫外線照射装置の構成を、エキシマランプに垂直な断面において示す説明用部分断面図である。
この紫外線照射装置10は、一面(図において下面)に光照射口12が形成された全体が直方体の箱状のランプハウス11を具えてなり、このランプハウス11内における光照射口12と対向する位置において、紫外線光源である複数本例えば3本の棒状のエキシマランプ20が、互いに平行に延びるよう配設されて、構成されている。
ランプハウス11における光照射口12には、透光性を有する窓部材13が光照射口12を気密に塞ぐよう嵌合されて設けられており、ランプハウス11の内部空間には、例えば窒素ガスなどの不活性ガスが充填されている。
この冷却ブロック15は、例えばアルミニウムよりなり、その下面に断面半円形状の複数のエキシマランプ配設用溝16が互いに離間した位置において、エキシマランプ20と同方向に伸びるよう形成されている。
内部電極22は、ロッド状の給電導体23に接続されており、この給電導体23は、内端が放電容器21の放電空間S内に位置され、気密シール部25を介して外方に突出するよう設けられている。ここに、エキシマランプ20における気密シール部25は、例えばグレーテッドシール法によって形成されており、熱膨張率が段階的にあるいは連続的に変化するよう、放電容器21を構成する第1の材料と給電導体23を構成する第2の材料との中間の熱膨張率を有する例えばガラス材料よりなる第3の材料を介して放電容器構成材料と給電端子23とが気密に封着された構成とされている。第3の材料は、複数種の材料により構成されていてもよい。
放電容器21の内部には、内部電極22と外部電極26との間に形成されるエキシマ放電によってエキシマ分子が形成される、例えばキセノンガスなどの放電用ガスが適宜の量で封入されている。
具体的には、可視光放射領域28は、例えば内部電極22の一部に酸化物28Aを付着させることにより形成されている。また、可視光放射領域28は、内部電極22の表面の一部を酸化処理することにより、あるいは、内部電極22の表面の一部に導電性材料を印刷することにより、形成することができる。
可視光放射領域28の大きさは、十分な大きさの有効紫外線放射領域を確保しながら、光検知手段によって検知可能な可視光を得るという理由から、内部電極22の全長(螺旋部分の長さ)の0.1〜5%の大きさとされていることが好ましい。
また、可視光放射領域28が酸化物28Aが付着されることにより形成されたものである場合には、内部電極22を構成する線材に対する酸化物28Aの被覆率は、例えば0.1〜5%とされる。ここに、酸化物28Aを内部電極22を構成する線材に付着させる方法としては、例えばスパッタリング法などを用いることができ、酸化物28Aとしては、例えばタングステン、タンタルなどを主体とする金属酸化物などを例示することができる。
光検知手段30を構成する可視光検知用の光検知素子としては、例えばシリコンフォトダイオードやゲルマニウムフォトダイオードなどを用いることができる。
すなわち、上記構成の紫外線照射装置10によれば、エキシマランプ20それ自体から放射される可視光の照射強度を検知することにより紫外光の照射強度を算出し、これによりエキシマランプ20の点灯状態を確認する方法が利用されているので、従来のもののように、例えば蛍光体によってエキシマランプから放射される紫外光を可視光に変換し、この可視光を検知することによってエキシマランプの点灯状態を確認する方法が利用された紫外線照射装置であれば、蛍光体が経時的に劣化することによって光検知手段の光検知性能が低下する、という問題が生ずることがなく、エキシマランプ20から放射される紫外光の照射強度を長期間にわたって高い信頼性をもって得ることができる。具体的には、エキシマランプ20から照射される紫外光の照射強度(実測値)を実際に紫外光検知用の光検知手段によって検知したところ、検知された可視光の照射強度に基づいて算出された紫外線強度(予測値)の実測値に対する誤差が3%以下であり、高い精度で紫外光の照射強度を得ることができることが確認され、従って、エキシマランプ20の点灯状態を正確に確認することができる。
例えば、本発明の紫外線照射装置は、図4および図5に示されているように、図1および図2に示されている構成の紫外線照射装置10において、ランプハウス11における光照射口12を塞ぐ窓部材13を具備せず、不活性ガスをランプハウス11内に導入しながらエキシマランプ20が点灯される構成のものとすることができる。
この紫外線照射装置40においては、複数の光検知手段30がエキシマランプ20に対して紫外光照射方向前方側(図4および図5において下方側)の位置において、光検知素子の入光面がエキシマランプ20における可視光放射領域28を臨む状態で設けられている。
しかも、被処理物についての紫外線照射処理が行われるに際しては、被処理物から発生する反応生成物である炭化物がエキシマランプ20における放電容器21の外表面に付着しやすく、この炭化物によって紫外光が吸収されてしまうので、放電容器21における光照射口12側の壁を透過して放射される紫外光が経時的に減衰し、紫外線照射装置40全体における紫外光の照射強度が低下する傾向にあるが、光検知手段30がエキシマランプ20に対して光照射方向前方側に配置されていることにより、被処理物に対して実際に照射される紫外光の照射強度を、可視光を検知することによって可視光および紫外光の両者の相関関係を利用して正確に算出することができ、この算出結果に基づいて、エキシマランプ20の点灯状態を適正な状態に維持することができるので、所要の紫外線照射処理を高い信頼性をもって確実に行うことができる。
具体的には、この例における紫外線照射装置45においては、エキシマランプ20が、内部電極22に係る給電導体23における、気密シール部25の内方側の端縁より内方側に離間した位置、例えば給電導体23の内端部において、給電導体23の外周面に酸化物28Aが付着されることにより、あるいは、給電導体23の外周面が酸化処理されることにより、可視光放射領域28が形成されてなる構成のものとされており、光検知手段30が、エキシマランプ20の外端部すなわちランプハウス11における光照射口12の開口縁に近接した位置において、可視光検知用の光検知素子の入光面が可視光放射領域28を臨む状態で、配設されている。
然るに、本発明の紫外線照射装置45によれば、エキシマランプ20の端部領域から放射される紫外光が外気に含まれる酸素等によって吸収されてしまった場合であっても、エキシマランプ20それ自体から放射される可視光の照射強度を検知し、検知された可視光の照射強度に基づいて紫外光の照射強度が算出されるので、エキシマランプ20の有効紫外光放射領域(放電容器21の長手方向中央部の直管状部分に相当する領域)における紫外光の照射強度を正確に算出することができ、これにより、エキシマランプ20の点灯状態を確認することができ、エキシマランプの点灯状態を適正な状態に維持することができる。
また、光検知手段30がエキシマランプ20の有効紫外光放射領域以外の位置に配置されているので、被処理物に対する紫外光の照射を阻害することがなく、紫外光を高い効率で照射することができ、一層高い信頼性をもって所要の紫外線照射処理を確実に行うことができる。
この場合には、放電用電極と給電導体における可視光放射領域との間に放電を生じさせるために必要とされる大きさの電圧を放電用電極と給電導体における可視光放射領域との間に印加すればよく、放電用電極と給電導体との間の離間距離が外部電極と給電導体との間の離間距離より小さくなるので、放電用電極と可視光放射領域との間に印加される電圧の大きさを小さく設定することができ、これにより、エキシマランプ全体の電力を低減させることができる。
また、光検知手段は、各々のエキシマランプに対応して設けられている必要はなく、複数本のエキシマランプから放射される可視光を共通の光検知手段により検知する構成とされてもよい。
11 ランプハウス
12 光照射口
13 窓部材
15 冷却ブロック
16 エキシマランプ配設用溝
17 光検知手段配置用凹所
18 不活性ガス導入路
20 エキシマランプ
21 放電容器
22 一方の電極(内部電極)
23 給電導体
25 気密シール部
26 他方の電極(外部電極)
28 可視光放射領域
28A 酸化物
30 光検知手段
40 紫外線照射装置
45 紫外線照射装置
S 放電空間
50 紫外線照射装置
51 ランプハウス
52 光照射口
53 窓部材
55 冷却ブロック
57 光検知手段配設用凹所
60 エキシマランプ
61 放電容器
62 一方の電極
63 給電導体
65 気密シール部
66 他方の電極
70 光検知手段
Claims (5)
- エキシマ放電によってエキシマ分子を形成する放電用ガスが内部に充填された放電容器を具え、一方の電極が放電容器の内部に配設されると共に、放電容器の外部において他方の電極が配設され、一方の電極および他方の電極の間に形成されるエキシマ放電によって真空紫外光が放射されるエキシマランプにおいて、
放電容器内における他方の電極との間でエキシマ放電が生ずる導電体部の少なくとも一部に、表面層部分がタングステンまたはタンタルの酸化物よりなる、エキシマ放電によって可視光が放射される可視光放射領域が形成されていることを特徴とするエキシマランプ。 - 前記一方の電極がタングステン線材よりなり、
可視光放射領域は、一方の電極の表面の一部が酸化処理されてタングステンの酸化物が形成されてなるものであることを特徴とする請求項1に記載のエキシマランプ。 - 可視光放射領域は、一方の電極の一部にタングステンまたはタンタルの酸化物が付着されて形成されてなるものであることを特徴とする請求項1に記載のエキシマランプ。
- 可視光放射領域は、放電容器内に突出するよう設けられた、一方の電極に係る給電導体に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のエキシマランプ。
- 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のエキシマランプと、このエキシマランプから放射される可視光を検知する光検知手段とを具えてなることを特徴とする紫外線照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004117636A JP4311266B2 (ja) | 2004-04-13 | 2004-04-13 | エキシマランプおよび紫外線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004117636A JP4311266B2 (ja) | 2004-04-13 | 2004-04-13 | エキシマランプおよび紫外線照射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005302551A JP2005302551A (ja) | 2005-10-27 |
JP4311266B2 true JP4311266B2 (ja) | 2009-08-12 |
Family
ID=35333783
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004117636A Expired - Fee Related JP4311266B2 (ja) | 2004-04-13 | 2004-04-13 | エキシマランプおよび紫外線照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4311266B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008302354A (ja) * | 2007-05-10 | 2008-12-18 | Harison Toshiba Lighting Corp | 光洗浄装置 |
JP4917993B2 (ja) * | 2007-08-09 | 2012-04-18 | ハリソン東芝ライティング株式会社 | 紫外線照射装置 |
JP2009252546A (ja) * | 2008-04-07 | 2009-10-29 | Ushio Inc | 紫外線用放電ランプおよびこれを備えたランプユニット |
JP2010048690A (ja) * | 2008-08-22 | 2010-03-04 | Ushio Inc | 紫外光検出器 |
JP5408499B2 (ja) * | 2010-07-02 | 2014-02-05 | ウシオ電機株式会社 | 光照射装置 |
US8796652B2 (en) * | 2012-08-08 | 2014-08-05 | Kla-Tencor Corporation | Laser sustained plasma bulb including water |
JP5888256B2 (ja) * | 2013-02-06 | 2016-03-16 | ウシオ電機株式会社 | エキシマランプ |
JP2014195758A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | ウシオ電機株式会社 | ガス処理装置 |
JP7139808B2 (ja) * | 2018-09-13 | 2022-09-21 | 東芝ライテック株式会社 | バリア放電ランプ |
WO2021025063A1 (ja) * | 2019-08-05 | 2021-02-11 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線照射装置 |
-
2004
- 2004-04-13 JP JP2004117636A patent/JP4311266B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005302551A (ja) | 2005-10-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7187138B2 (en) | Excimer lamp apparatus | |
US20110056513A1 (en) | Method for treating surfaces, lamp for said method, and irradiation system having said lamp | |
JP4595556B2 (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP4311266B2 (ja) | エキシマランプおよび紫外線照射装置 | |
JP5293986B2 (ja) | 紫外線ランプおよび紫外線照射装置 | |
JP5126035B2 (ja) | ランプユニットおよび光センサ | |
CN100561662C (zh) | 准分子灯装置 | |
CA2486200A1 (en) | Dielectric barrier discharge lamp having a base | |
CN102047382B (zh) | 外部电极型放电灯和使用该放电灯的紫外线照射装置 | |
JP2009252546A (ja) | 紫外線用放電ランプおよびこれを備えたランプユニット | |
US6777878B2 (en) | Dielectric barrier discharge lamp having an ignition means | |
JP3292016B2 (ja) | 放電ランプおよび真空紫外光源装置 | |
JP2004041843A (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP2003092084A (ja) | 誘電体バリア放電ランプ装置 | |
JP5682306B2 (ja) | 光照射ユニット | |
JP2014186987A (ja) | 紫外線ランプ及び照射装置 | |
KR20050095540A (ko) | 엑시머 램프 | |
JP2021157902A (ja) | エキシマランプ、光照射装置 | |
JP2012064381A (ja) | 蛍光ランプ | |
JP5257324B2 (ja) | 酸素濃度測定器具及び酸素濃度測定方法 | |
JPH0578138B2 (ja) | ||
JP2003294896A (ja) | 真空紫外光照射装置 | |
JP4078868B2 (ja) | 真空紫外光照射装置 | |
JP2005019229A (ja) | 誘電体バリア放電ランプ | |
JPH10208701A (ja) | 放電ランプおよび照明装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070306 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090330 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090421 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090504 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120522 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4311266 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120522 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130522 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130522 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140522 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |