JP2010048690A - 紫外光検出器 - Google Patents
紫外光検出器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010048690A JP2010048690A JP2008213667A JP2008213667A JP2010048690A JP 2010048690 A JP2010048690 A JP 2010048690A JP 2008213667 A JP2008213667 A JP 2008213667A JP 2008213667 A JP2008213667 A JP 2008213667A JP 2010048690 A JP2010048690 A JP 2010048690A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- casing
- opening
- ultraviolet light
- internal space
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Abstract
【解決手段】ケーシング20内に配置された紫外光検出器23によって紫外光を検出し、ケーシングは内部空間Kを有し先端部には内部空間を外部に開放する開口21が形成されており、内部空間の開口と対向する位置に紫外光検出器が配置されており、ケーシングは、外気を吸気する外気吸気口24と、内部空間に向けてガスを噴出する噴出口25を有し、外気吸気口と噴出口との間にガス流通路26が設けられ、ガス流通路に外気吸気口からガスを吸気し噴出口からガスを噴出するためのポンプ27、および、ガス流通路内を流れるガスから酸素を取り除き不活性ガスを発生させる不活性ガス発生手段29が設けられている。
【選択図】図2
Description
紫外線照射装置10は、光取出窓11と本体ケース12と金属ブロック13を有し、本体ケース12の内部にエキシマランプ1が配置されている。
光取出窓11は光透過部材でありエキシマランプ1から放射される紫外光を透過するもので、例えば合成石英ガラスから構成される。本体ケース12は、ステンレスからなるもので一方の側壁にはガス導入口12aが、他方の側壁にはガス排出口12bが形成される。
このガス導入口12aからは窒素ガス等の不活性ガスが導入され、ガス排出口12bから本体ケース内の残存していたガスとともに一部の不活性ガスが排出され、光取出窓11と金属ブロック13で囲まれた本体ケース12内が不活性ガス雰囲気となっている。
14は、金属ブロック13を冷却する水冷パイプである。
このため、エキシマランプの点灯状態を確認するために、エキシマランプから放射される紫外光を直接検出する光センサを用いて、エキシマランプの点灯状態を測定するものである。
この結果、本来、紫外光を検出するためには、光センサ16とエキシマランプ1との間の空間のみ不活性ガス雰囲気にすればよいものであるが、本体ケース12内全体を不活性ガス雰囲気にする必要があり、本体ケース12と光出射窓11との密閉構造や、本体ケース12と金属ブロック13との密閉構造が複雑になる問題があった。また、本体ケース12内全体を不活性ガス雰囲気にしなければならず、使用される不活性ガスの量が多くなるものであった。
図2は、本願発明の光センサの断面図である。
本願発明の光センサ2はケーシング20を有し、このケーシング20は内部空間Kを有し、ケーシング20の先端部には内部空間Kを外部に開放する開口21が形成されている。そして、内部空間Kに開口21と対向する位置であって、ケーシング20の内部空間Kを構成している底部22に紫外光検出器23が配置されている。
底部22は、ケーシング20の一部からなるものであるが、ケーシング20とは別体の金属板であって、ケーシング20にOリングを介して押し圧して密着するように設けられていてもよい。
この紫外光検出器23は、紫外線を感知するフォトダイオードである。
つまり、外気吸気口24と噴出口25との間にガス流通路241,251,26が設けられている。
また、図示はしていないが、外気吸気口24の開口には不純ガスを取り除くフィルターを設けてもよい。
フィルターを設ける理由は、半導体製造ラインや液晶製造ラインでは、その製造工程中に様々な不純ガスが発生するものであり、この不純ガスを外気吸気口24から取り込み噴出口25から噴出すると、光センサの前方に配置された紫外線光源であるエキシマランプ等が白濁する恐れがあり、この白濁を防止するために、外気吸気口24の開口には不純ガスを取り除くフィルターを配置するものである。
噴出口25とポンプ27との間のガス流通路251に、ガス流通路251内を流れるガスから酸素を取り除き不活性ガスを発生させる不活性ガス発生手段29が設けられている。
不活性ガス発生手段29とは、外気吸気口24から吸引された外気に含まれている酸素が取り除かれ窒素ガスが生成され、この窒素ガスを噴出口25からケーシング20の内部空間Kに噴出して、内部空間K内を窒素ガス雰囲気にするものである。
このような状態になると、紫外線光源から光センサまでの間の空間に酸素が存在しなくなり、酸素によって紫外光が吸収されなくなり、紫外光検出器23によって、正確に紫外光を測定できることになる。
図3は、不活性ガス発生手段の構造を示す斜視図であり、構造原理を簡素化して説明するものであり、不活性ガス発生手段は、ガス分離膜を用いた構造である。
この不活性ガス発生手段は、外気吸気口24から吸引されたガスが、シリコンゴムからなら中空系膜29の一端の開口29aに流れ込む。そして、そのガスのうち、酸素は中空系膜29を透過し膜外に放出されて排気管291から排気され、窒素が中空系膜29の他端の開口29bが排出され、ガス流通路251を通り、噴出口25から内部空間Kに噴出される。
このPSA式窒素ガス発生装置29は、窒素分子と酸素分子の分子径の違いにより、吸着材29cの表面孔に酸素分子を押し込み、残された窒素分子を取り出すものである。
そして、取り出された窒素ガスは、ガス流通路251を通り、噴出口25から内部空間Kに噴出される。
このPSA式窒素ガス発生装置は、図2には記載されていないが、不活性ガス発生手段29と噴出口25との間のガス流通路251に弁が設けられ、ポンプ27と不活性ガス発生手段29との間のガス流通路251に弁が設けられ、排気管291に弁が設けられ、この3つの弁の開閉を制御することにより、吸着槽29dの圧力を制御して、酸素分子の吸着材29cへの吸着と放出を制御するものである。
なお、図5では、光センサの先端部分のみ拡大した断面図である。
内部空間Kを区画しているケーシング20の内壁200は、開口21側において中心側に突出する内壁200aを有している。
この内壁200aは、断面形状が山形となっており、その頂部Tがケーシング20の中心側に位置し、それぞれの頂部Tの間の内部空間Kが絞られた状態になっており、狭小空間となっている。
このように、ケーシング20の開口21側の内部空間Kが絞られた狭小空間を有する構造であれば、内部空間K内を窒素で置換する際に、窒素の使用量を低減させることができる。
なお、噴出口25などの他の構造物は、図2と同じであり、説明と図示は省略する。
なお、図6では、光センサの先端部分のみ拡大した断面図である。
ケーシング20の先端部には、内部空間Kを外部に開放する開口21と、内部空間Kを外部に開放する第2の開口211が形成されており、第2の開口211は、開口21を中心として、その開口21の外周に複数形成されている。そして、第2の開口の開口径L2は、開口21の開口径L1より小さくなっている。
なお、噴出口25などの他の構造物は、図2と同じであり、説明と図示は省略する。
なお、図7では、光センサの先端部分のみ拡大した断面図である。
ケーシング20の先端部には、内部空間Kを外部に開放する開口21が形成されており、この開口21には、筒状部30と、この筒状部30の一端側に径方向に広がる鍔部31を有するノズル部材3が配置されており、筒状部30が開口21を貫通してケーシング20の外部に突出しており、鍔部31が開口21の周辺のケーシング20に当接している。
そして、筒状部30の先端開口30aが内部空間Kを外部に開放する開口となっている。また、鍔部31には、内部空間Kを外部に開放する開口が形成されており、この開口が第2の開口211となっている。
なお、噴出口25などの他の構造物は、図2と同じであり、説明と図示は省略する。
図8に示す光センサは、ケーシング20には、内部空間Kに存在するガスを吸気する吸気口40が形成され、吸気口40に繋がるガス流通路401が、外気吸気口24とポンプ27との間のガス流通路26に接続されている。
つまり、噴出口25が紫外光検出器23よりケーシング20の底部22側に設けられており、吸気口40が紫外光検出器23よりケージング20の開口21側に設けられているので、内部空間K内では、ケーシング20の底部22側から開口21側に向けて窒素ガスの対流が発生し、紫外光検出器23の前方は常に窒素ガスが存在し、窒素以外のガス、具体的には酸素が流入してくることがないので、正確に紫外光を測定できる構造となる。
20 ケーシング
21 開口
22 底部
23 紫外光検出器
24 外気吸気口
241 ガス流通路
25 噴出口
251 ガス流通路
26 ガス流通路
27 ポンプ
29 不活性ガス発生手段
3 ノズル部材
40 吸気口
Claims (4)
- ケーシング内に配置された紫外光検出器によって紫外光を検出する光センサにおいて、
前記ケーシングは内部空間を有し、前記ケーシングの先端部には前記内部空間を外部に開放する開口が形成されており、
前記ケーシングの内部空間に前記開口と対向する位置に前記紫外光検出器が配置されており、
前記ケーシングは、当該ケーシング外の外気を吸気する外気吸気口と、前記内部空間に向けてガスを噴出する噴出口を有し、
前記外気吸気口と前記噴出口との間にガス流通路が設けられ、当該ガス流通路に前記外気吸気口からガスを吸気し前記噴出口からガスを噴出するためのポンプが設けられており、
前記噴出口と前記ポンプとの間の前記ガス流通路に、当該ガス流通路内を流れるガスから酸素を取り除き不活性ガスを発生させる不活性ガス発生手段が設けられていることを特徴とする光センサ。 - 前記ケーシングの内部空間を区画している内壁が、前記ケーシングの開口側において、当該ケーシングの中心側に突出していることを特徴とする請求項1に記載の光センサ。
- 前記ケーシングの先端部には、前記開口の外周に前記内部空間を外部に開放する第2の開口が形成されており、
前記第2の開口の開口径が、前記開口の開口径より小さいことを特徴とする請求項1に記載の光センサ。 - 前記ケーシングには、前記内部空間に存在するガスを吸気する吸気口が形成され、
前記吸気口に繋がるガス流通路が、前記外気吸気口と前記ポンプとの間のガス流通路に接続されていることを特徴とする請求項1〜請求項3に記載の光センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008213667A JP2010048690A (ja) | 2008-08-22 | 2008-08-22 | 紫外光検出器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008213667A JP2010048690A (ja) | 2008-08-22 | 2008-08-22 | 紫外光検出器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010048690A true JP2010048690A (ja) | 2010-03-04 |
Family
ID=42065891
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008213667A Pending JP2010048690A (ja) | 2008-08-22 | 2008-08-22 | 紫外光検出器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010048690A (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59109311U (ja) * | 1983-01-11 | 1984-07-23 | オムロン株式会社 | 光電スイツチのレンズ汚れ防止装置 |
JPH0325123U (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-14 | ||
JPH08233650A (ja) * | 1995-02-24 | 1996-09-13 | Ushio Inc | 真空紫外光検出器 |
JPH10225609A (ja) * | 1997-02-17 | 1998-08-25 | Kagaku Gijutsu Shinko Jigyodan | パラメトリックガスクロマトグラフィーによる気体のバルク分離方法 |
JP2001060548A (ja) * | 1999-08-23 | 2001-03-06 | Nikon Corp | 露光方法及び装置 |
JP2005302551A (ja) * | 2004-04-13 | 2005-10-27 | Ushio Inc | エキシマランプおよび紫外線照射装置 |
-
2008
- 2008-08-22 JP JP2008213667A patent/JP2010048690A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59109311U (ja) * | 1983-01-11 | 1984-07-23 | オムロン株式会社 | 光電スイツチのレンズ汚れ防止装置 |
JPH0325123U (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-14 | ||
JPH08233650A (ja) * | 1995-02-24 | 1996-09-13 | Ushio Inc | 真空紫外光検出器 |
JPH10225609A (ja) * | 1997-02-17 | 1998-08-25 | Kagaku Gijutsu Shinko Jigyodan | パラメトリックガスクロマトグラフィーによる気体のバルク分離方法 |
JP2001060548A (ja) * | 1999-08-23 | 2001-03-06 | Nikon Corp | 露光方法及び装置 |
JP2005302551A (ja) * | 2004-04-13 | 2005-10-27 | Ushio Inc | エキシマランプおよび紫外線照射装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5263389B2 (ja) | システムブランク機能を備えた全有機体炭素計 | |
JP5367710B2 (ja) | 高温および高圧下で酸化を利用する水性サンプル中の炭素測定 | |
US10222363B2 (en) | Measurement device and measurement method | |
US10509029B2 (en) | Measurement device and measurement method | |
US5246526A (en) | Surface treatment apparatus | |
EP3156236B1 (en) | Inkjet printing apparatus | |
JP5063239B2 (ja) | レーザ加工用集塵装置 | |
KR20180041100A (ko) | 액 처리 방법 및 필터 내의 기체의 제거 장치 | |
WO2012120957A1 (ja) | ガス分析装置 | |
JP2008506268A (ja) | 減圧下照射による処理方法及び装置 | |
JP5601312B2 (ja) | 光照射装置 | |
JP2010048690A (ja) | 紫外光検出器 | |
JP2007027764A (ja) | フォトスピナー設備の噴射不良制御装置 | |
JP6550964B2 (ja) | 光処理装置およびその製造方法 | |
WO2018173344A1 (ja) | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 | |
WO2016098536A1 (ja) | 脱気装置及びインクジェット記録装置 | |
TWI381153B (zh) | Light sensor | |
CN108500464B (zh) | 激光加工装置及方法 | |
JP6790779B2 (ja) | 紫外線処理装置 | |
WO2016125809A1 (ja) | 滅菌装置及び滅菌方法 | |
JP2008302323A (ja) | 汚染水曝気装置及び汚染水浄化装置 | |
JP6055348B2 (ja) | Icp発光分光分析装置を用いた分析方法 | |
JP2010044310A (ja) | 処理装置、処理方法、及びパターン基板の製造方法 | |
JP2009029448A (ja) | 充填装置 | |
JP2008134071A (ja) | 液体取出方法および装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110317 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120416 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121204 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130910 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20140408 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20140408 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140520 |