JP6790779B2 - 紫外線処理装置 - Google Patents
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Description
この紫外線処理装置は、上壁に開口部を有する外形が略直方体状の筐体60を備えており、この筐体60における開口部には、例えば石英ガラスよりなる紫外線透過窓61が枠状の固定板62によって固定されて設けられている。
この紫外線処理装置においては、冷却用ガスがガス流路部材66に供給されることによって、ガス流通路63を介して筐体60の外部に排出された冷却用ガスが紫外線透過窓61とテンプレート75の間の間隙に流通される。この状態で、紫外線ランプ65を点灯させることにより、紫外線ランプ65からの真空紫外線が紫外線透過窓61を介してテンプレート75のパターン面に照射され、テンプレート75の光洗浄処理が行われる。
ここで、冷却用ガスに酸素が含まれていると、真空紫外線が照射されることによりオゾンが発生する。発生したオゾンをそのまま放置しておくと安全上問題があるため、光洗浄処理が行われる処理空間内のガスは、通常、オゾン除去手段を介して排気装置によって排気される。
また、周囲へのオゾンの拡散防止のため、処理室内を負圧状態に維持する必要がある。このため、周囲からの処理室内への大気の流れ込みが発生しやすく、処理室の酸素濃度が上がる傾向が強く、ますます処理室内で発生するオゾンの量は増えることになる。
前述のように、処理室内のガスは、オゾン除去手段を介して排気装置により排気される。しかしながら、処理室内から排気されるガスに含まれるオゾンの濃度が高くなると、オゾン除去手段として、大掛かりなオゾン除去装置等を付設して対処しなければならず、紫外線処理装置全体が大型化することになる。
一方、排出されるオゾンの量を低減するために、処理室内の酸素濃度を低くしすぎると、被処理物の処理に生成されるオゾンによる作用が十分に得られなくなるため、処理効率が低下してしまう。
当該処理室内に配置される被処理物に紫外線を照射する紫外線光源と、
当該処理室内に処理ガスを供給するガス供給系と、
当該処理室内のガスを排気するガス排気系と、
前記ガス排気系を流通されるガスに含まれる酸素濃度を検出する酸素濃度検出手段と、
当該酸素濃度検出手段によって検出される酸素濃度値が0.8〜10vol%の範囲内となるよう、前記処理ガスの供給量および前記処理室から排気されるガスの排気量のいずれか一方または両方を制御する制御手段と
を備え、
前記ガス排気系は、オゾン除去フィルターよりなるオゾン除去手段を備えており、
前記酸素濃度検出手段は、ガス流通方向におけるオゾン除去手段の下流側の位置に設けられていることを特徴とする。
また、排出されるオゾンの量が少ないので、ガス排気系に設けられるオゾン除去手段として大掛かりなオゾン除去装置を用いる必要がなく、オゾン除去フィルターで対処することができるため、装置自体が大型化することを回避することができる。
図1は、本発明の紫外線処理装置の一構成例を概略的に示す断面図である。図2は、図1に示す紫外線処理装置における処理室の構成を概略的に示す、被処理物の搬送方向に沿った平面で切断した断面図である。
この紫外線処理装置は、例えば側方に開口する被処理物搬入・搬出口12が形成された筐体10を備えており、例えば平板状の被処理物Wが水平状態を保って、当該被処理物搬入・搬出口12を介して筐体10の内部に搬入または筐体内部から搬出される(図1において被処理物Wの搬送方向を白抜きの矢印で示す。)。筐体10には、被処理物搬入・搬出口12を開閉する例えば平板状のシャッター部材25が設けられている。シャッター部材25は、筐体10の内部空間を外気(装置外部の雰囲気)から完全に密閉するものではなく、閉状態において、その内面と筐体10の外面との間に隙間が形成されるよう設けられており、これにより、非密閉型の処理室11が筐体10の内部に形成されている。この例においては、シャッター部材25は図示しない駆動機構によって上下方向に駆動されて開閉される。
なお、本発明の紫外線処理装置においては、例えば紫外線ランプ20からの紫外線が直接的に被処理物Wに照射される構成とされていてもよい。すなわち、窓部材18を有さない構成とされていてもよく、この場合には、紫外線ランプ20は、処理室11内に配置される被処理物Wとの離間距離が例えば1〜10mmとなる位置に配置された構成とされる。
ガス排気系40を流通されるガスに含まれる酸素濃度を検出する場合にあっては、酸素濃度検出手段50は、オゾン除去手段43を通過したガスに含まれる酸素濃度を検出するものであることが好ましい。すなわち、酸素濃度検出手段50は、ガス流通方向におけるオゾン除去手段43の下流側(排出側)の位置に設けられていることが好ましい。このような構成とされていることにより、酸素濃度検出手段50に導入(サンプリング)されるガスは、オゾンが除去またはオゾン濃度が低減された状態のものであるため、酸素濃度検出手段50の劣化を低減することができる。
また、処理室11内の酸素濃度を検出する場合にあっては、処理室11内における被処理物Wの近傍のガスをサンプリングすることが好ましい。
具体的には、制御手段55は、酸素濃度検出手段50から出力される酸素濃度に応じた検出信号が、上記範囲内において設定される特定の酸素濃度値に応じたものとなるよう、処理ガス供給量およびガス排気量のいずれか一方または両方をフィードバック制御する機能を有することが望ましい。
なお、処理ガス供給量およびガス排気量は、酸素濃度検出手段50によって検出される酸素濃度値に基づいて設定される、ガス供給系30およびガス排気系40の動作条件を制御手段55に入力するなどして手動で制御してもよい。
具体的な一例を示すと、例えば容積が2リットルである処理室11に対する処理ガスの供給量を20リットル/minとしたとき、処理室11から排気されるガスの排気量は、例えば22〜30リットル/minである。
一方、生成されたオゾンを含む処理室11内のガスは、排気用ガス流路部材41を介して処理室11から排気される。そして、当該ガスに含まれるオゾンがオゾン除去手段43によって除去された後、装置外部に排出される。
また、排出されるオゾンの量が少ないので、ガス排気系40に設けられるオゾン除去手段43として大掛かりなオゾン除去装置を用いる必要がなく、オゾン除去フィルターで対処することができるため、紫外線処理装置自体が大型化することを回避することができる。
図1および図2に示す構成に従って、以下に示す仕様を有する紫外線処理装置を作製した。
処理室(11)の寸法(縦×横×高さ):210mm×280mm×32mm、処理室(11)の容積:約2リットル
被処理物(W)の材質:合成石英ガラス、被処理物(W)の寸法(縦×横):152mm×152mm
紫外線ランプ(20):出力が50Wのキセノンエキシマランプ
窓部材(18)と被処理物(W)との離間距離:3mm
ガス排気装置:クリーンドライエアを駆動ガスとするアスピレーター
オゾン除去手段(43):無機繊維ペーパーにより形成されたハニカム構造体からなる基体に、二酸化マンガンよりなるオゾン除去用触媒が担持されてなるオゾン除去フィルター、寸法:50×50×75mm
酸素濃度検出手段(50):ジルコニア式酸素センサ
処理ガス:窒素ガス
例えば、処理室への処理ガス供給量を20リットル/minに制御すると共にアスピレーターに対する駆動ガスの供給量を38リットル/minとして処理室内から排出されるガスの排気量を22リットル/minに制御すると、ジルコニア式酸素センサにより検出される処理室内の酸素濃度を3vol%に制御することができた。
紫外線照射処理において、紫外線照射時間は120secとした。
また、紫外線照射処理中において処理室から排出されるガスに含まれるオゾンの濃度を測定したところ、酸素濃度が0.8〜10vol%の範囲内に制御された状態においては、オゾン濃度は0.2〜3.3ppmの範囲内であった。
11 処理室
12 被処理物搬入・搬出口
13 処理ガス供給口
14 ガス排出口
15 光源配置室
18 窓部材
20 紫外線ランプ
25 シャッター部材
30 ガス供給系
31 処理ガス供給管
32 処理ガス供給源
33 流量制御手段
40 ガス排気系
41 排気用ガス流路部材
41a ガス流入口
42 ガス排出管
43 オゾン除去手段
45 アスピレーター
46 駆動ガス供給源
47 流量制御手段
50 酸素濃度検出手段
55 制御手段
60 筐体
61 紫外線透過窓
62 固定板
63 ガス流通路
65 紫外線ランプ
66 ガス流路部材
67 ガス流通口
70 テンプレート保持機構
75 テンプレート
W 被処理物
Claims (2)
- 非密閉型の処理室と、
前記処理室内に配置される被処理物に紫外線を照射する紫外線光源と、
前記処理室内に処理ガスを供給するガス供給系と、
前記処理室内のガスを排気するガス排気系と、
前記ガス排気系を流通されるガスに含まれる酸素濃度を検出する酸素濃度検出手段と、
当該酸素濃度検出手段によって検出される酸素濃度値が0.8〜10vol%の範囲内となるよう、前記処理ガスの供給量および前記処理室から排気されるガスの排気量のいずれか一方または両方を制御する制御手段と
を備え、
前記ガス排気系は、オゾン除去フィルターよりなるオゾン除去手段を備えており、
前記酸素濃度検出手段は、ガス流通方向におけるオゾン除去手段の下流側の位置に設けられていることを特徴とする紫外線処理装置。 - 前記ガス排気系は、前記処理室内のガスを排気する排気装置として、アスピレーターを備えていることを特徴とする請求項1に記載の紫外線処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016238410A JP6790779B2 (ja) | 2016-12-08 | 2016-12-08 | 紫外線処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016238410A JP6790779B2 (ja) | 2016-12-08 | 2016-12-08 | 紫外線処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018098240A JP2018098240A (ja) | 2018-06-21 |
JP6790779B2 true JP6790779B2 (ja) | 2020-11-25 |
Family
ID=62633100
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016238410A Active JP6790779B2 (ja) | 2016-12-08 | 2016-12-08 | 紫外線処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6790779B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7342112B2 (ja) * | 2018-09-24 | 2023-09-11 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 洗浄および表面処理のための原子状酸素およびオゾン装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001015472A (ja) * | 1999-06-28 | 2001-01-19 | Hoya Schott Kk | 紫外光照射方法及び装置 |
JP2003224064A (ja) * | 2002-01-31 | 2003-08-08 | Pyuarekkusu:Kk | フォトレジスト膜除去装置 |
JP2004162124A (ja) * | 2002-11-13 | 2004-06-10 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の処理装置及び処理方法 |
JP4640421B2 (ja) * | 2008-02-29 | 2011-03-02 | 凸版印刷株式会社 | 紫外線照射装置 |
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2016
- 2016-12-08 JP JP2016238410A patent/JP6790779B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018098240A (ja) | 2018-06-21 |
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RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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