JP4307195B2 - 静電チャック - Google Patents
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Description
物体を保持する保持力の静電吸着力Fは、絶縁膜の厚みrが小さい程大きく、また、電圧Vが大きければ大きい程大きくなる。電圧Vを大きくすればするほど保持力が増すが、あまりにも大きくすると絶縁膜の絶縁が破壊されてしまう。また、絶縁膜にピンホールなどの空所があると絶縁が破壊される。そこで、物体を保持する絶縁膜の表面は、滑らかであること、ピンホールがないことが求められる。
また、本発明の静電チャックは、ガラス基体の一方の主面に吸着用電極を設け、該吸着用電極の上に絶縁膜を備え、その上面をウェハを載せる吸着面とした静電チャックにおいて、上記絶縁膜は、均一な非晶質セラミックであるとともにビッカース硬度が500〜1000HV0.1であることを特徴とする。
2:非晶質セラミック膜
2a、22a:吸着面
3、23:ガラス基体
4、24:吸着用電極
5、25:給電端子
6:接着剤
22:非晶質酸化アルミニウム膜
Claims (5)
- ガラス基体の一方の主面に吸着用電極を設け、該吸着用電極の上に絶縁膜を備え、その上面をウェハを載せる吸着面とした静電チャックにおいて、上記絶縁膜は、均一な非晶質セラミックであるとともに希ガス類元素または水素元素を1〜10原子%含むことを特徴とする静電チャック。
- ガラス基体の一方の主面に吸着用電極を設け、該吸着用電極の上に絶縁膜を備え、その上面をウェハを載せる吸着面とした静電チャックにおいて、上記絶縁膜は、均一な非晶質セラミックであるとともにビッカース硬度が500〜1000HV0.1であることを特徴とする静電チャック。
- 上記絶縁膜の厚みが5〜100μmであることを特徴とする請求項1または2に記載の静電チャック。
- 上記絶縁膜は、主成分が酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化イットリウム、酸化イットリウムアルミニウムまたは希土類元素の酸化物または窒化アルミニウム、窒化珪素の少なくとも一つから成ることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の静電チャック。
- 上記ガラス基体は常温の熱膨張係数が1×10−6/℃以下であり、上記絶縁膜がシリコンを主成分とする非晶質膜であることを特徴とする請求項1または2に記載の静電チャック。
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