JP4276877B2 - 光情報記録媒体および色素 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザー光を用いて情報の記録および再生が可能な光情報記録媒体に関するものである。特に本発明は、特定の構造のアゾ色素を含有し、レーザー光を用いて情報を記録するのに適したヒートモード型の光情報記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層状態で設けられている。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザー光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
【０００３】
近年、記録密度のより高い光情報記録媒体が求められている。このような要望に対して、追記型デジタル・ヴァサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディスクが上市されている。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザー光のトラッキングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒに比べて半分以下（０．７４〜０．８μｍ）と狭く形成された透明な円盤状基板上に、色素からなる記録層、そして通常は該記録層の上に光反射層、そして更に必要により保護層を設けてなるディスクを二枚、あるいは該ディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを該記録層を内側にして接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤ−Ｒへの情報の記録再生は、可視レーザー光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長のレーザー光）を照射することにより行われ、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能であるとされている。このような光記録材料に使用される色素として、アゾ色素と金属から形成されるアゾ金属キレート色素が開示されている。代表的なものは、下記特許文献１、２、３、４、５、６である。
【０００４】
【特許文献１】
特開昭６３−９５７７号公報
【特許文献２】
特開昭６３−９５７８号公報
【特許文献３】
特開昭６３−９５７９号公報
【特許文献４】
特開平３−２６８９９４号公報
【特許文献５】
特開平８−１５６４０８号公報
【特許文献１】
特開平９−２７７７０３号公報
【０００５】
最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映も間近にひかえて、画像情報を安価簡便に記録するための大容量の記録媒体の要求が高まっている。ＤＶＤ−Ｒは、大容量の記録媒体としての地位をある程度までは確保されるものの、将来の要求に対応できる程の充分大きな記録容量を有しているとは言えない。そこで、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長のレーザー光を用いることによって記録密度を向上させ、より大きな記録容量を備えた光ディスクの開発が進められている。
有機色素を含む記録層を有する光情報記録媒体において、記録層側から光反射層側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより、情報の記録再生を行う記録再生方法が開示されている。具体的には、記録層の色素として、ポルフィリン化合物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等を用いた光ディスクに、青色（波長４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）又は青緑色（波長５１５ｎｍ）のレーザー光を照射することにより情報の記録再生を行う情報記録再生方法が提案されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、本発明者の検討によれば、上記公報に記載された公知の色素を使用した光ディスクでは反射率や変調度などの記録特性が満足できるレベルではなく、また保存安定性においても充分でないことから更に改良を要することが判明した。
一方、光記録ディスクを安価に製造するためには、色素を溶剤に溶解しインク（塗工液）を調製し、スピンコート法によって塗布して製造する方法が好ましい。しかし、光記録ディスクに使用する色素の溶剤に対する溶解性や溶解安定性が不足していると塗布法による製造が不可能であるといった問題があった。また、ディスク製造時に問題となる色素の塗工性、乾燥負荷の点に問題があった。
本発明者らは、上記の問題が特定の構造のアゾ色素を使用すると解決できることを見出し、本発明を完成した。
【０００７】
本発明は上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであり、本発明の第１の目的は、波長６００〜６８０ｎｍの短波長のレーザー光および／または４５０ｎｍ以下のレーザー光を照射して情報の高密度記録及び再生が可能であり、かつ優れた記録特性を有する光情報記録媒体を提供することにある。
本発明の第２の課題は、光、高温及び高湿度に対して安定な記録層を設計することによって、記録情報の長期保存に耐え得る光情報記録媒体を提供することにある。
第３の目的は、ディスク製造時に問題となる色素溶解性、塗工性、乾燥負荷が改良された色素を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の課題は、下記の構成により解決された。
１．基板上にレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式（Ｉ）で表わされる色素を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
【０００９】
【化７】
【００１０】
式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は、各々独立に、水素原子または置換基を表わす。Ｂ1およびＢ2は、各々＝ＣＲ5−および−ＣＲ6＝を表すか、あるいはいずれか一方が窒素原子，他方が＝ＣＲ5−または−ＣＲ6＝を表す。Ｒ5、Ｒ6は各々独立に、水素原子または置換基を表わす。Ｑ1 は置換もしくは無置換のアリーレン基、または置換もしくは無置換の２価のへテロ環基を表わす。Ｑ2 は置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。
２．一般式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4が各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わすことを特徴とする１．記載の光情報記録媒体。
３．記録層に含有される色素が下記一般式（II）で表されることを特徴とする１．に記載の光情報記録媒体：
【００１１】
【化８】
【００１２】
一般式（II）中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3aは、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｒ5、Ｒ6は、各々独立に、水素原子又は置換基を表わす。Ｑ2 は置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｑ1 は、下記の式（ａ）〜（ｋ）から選択される構造の基を表わす。これらは２価の連結基であり、連結可能な位置（＊）がどの方向のアゾ基と連結されても良い。
【００１３】
【化９】
【００１４】
式中、Ｒ11，Ｒ12、Ｒ13，Ｒ61，Ｒ62，Ｒ63、Ｒ64，Ｒ65は各々独立に水素原子、または置換基を表わす。
４．基板上にレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式（III）で表わされる色素と金属、または金属酸化物とから形成される金属アゾキレート色素を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
【００１５】
【化１０】
【００１６】
式（III）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は、各々独立に、水素原子、もしくは置換基を表わす。Ｑ1 は置換もしくは無置換のアリーレン基、または置換もしくは無置換の２価のへテロ環基を表わす。Ｑ2 は置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。
５．前記色素層の屈折率（ｎ）が、２．０＜ｎ＜２．７であり、消衰係数（ｋ）が、０．０３＜ｋ＜０．１０であることを特徴とする１．〜４．に記載の光情報記録媒体。
６．下記一般式（ＩＶ）で表されることを特徴とする色素。
【００１７】
一般式（ＩＶ）
【化１１】
【００１８】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ5aは、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｒ6a、Ｒ7a、Ｒ8aは、各々独立に、水素原子又は置換基を表わす。Ｑは置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。
７．下記一般式（Ｖ）で表されることを特徴とする色素。
【００１９】
一般式（Ｖ）
【化１２】
【００２０】
一般式（Ｖ）中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ5bは、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｒ6a、Ｒ7a、Ｒ8bは、各々独立に、水素原子又は置換基を表わす。Ｑは置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の光情報記録媒体の実施の形態について詳細に説明する。
【００２２】
本発明の光情報記録媒体は、基板上にレーザー光の照射により情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、一般式（Ｉ）で表わされる特定の構造のアゾ色素および／または金属アゾキレート色素を含有することを特徴とする光情報記録媒体である。
式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は、各々独立に、水素原子もしくは置換基である。その具体例は、Ｒ5、Ｒ6の説明で後述するものを挙げることができる。その中でも好ましくは、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボキシル基を表わす。更に好ましくは、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基である。Ｒ1とＲ2、及びＲ3とＲ4が互いに結合して環構造を形成しても良い。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は、好ましくは、アルキル基（炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−オクタデシル、２−メトキシエチル、３−クロロプロピル）、アリール基（炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基、例えば、フェニル、ナフチル、ｐ−メトキシフェニル、ｍ−クロロフェニル、ｐ−ジエチルアミノフェニル）、ヘテロ環基（炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のへテロ環基、例えば、２−ピリジル、２−フリル）である。Ｒ1とＲ2、Ｒ3とＲ4の組のうち、どちらか一方は水素原子であり、他方が水素原子ではないことが好ましい。
更に好ましくは、Ｒ1、Ｒ2のどちらかは、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基又は、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基であり、他方が水素原子であることが好ましい。Ｒ3、Ｒ4のどちらかは、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基又は、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基であり、他方が水素原子であることが好ましい。
【００２３】
Ｂ1およびＢ2は、各々＝ＣＲ5−および−ＣＲ6＝を表すか、あるいはいずれか一方が窒素原子，他方が＝ＣＲ5−または−ＣＲ6＝を表す。Ｒ5、Ｒ6は各々独立に、水素原子もしくは置換基を表わす。Ｂ1およびＢ2は、各々＝ＣＲ5−および−ＣＲ6＝を表すことが好ましい。
【００２４】
Ｒ5、Ｒ6は、各々独立に、水素原子又は置換基を表わす。置換基は、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
【００２５】
更に詳しくは、Ｒ5、Ｒ6は、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１から３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２―エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］、アルケニル基［直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）を包含するものである。］、アルキニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基、アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３から２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾールー５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p-クロロフェノキシカルボニルアミノ、m-ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４から３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２―ピリジルカルボニル、２―フリルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）を表わす。
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
Ｒ5は、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６の無置換アルキル基、炭素数２〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜２０の置換もしくは無置換のアミノカルボニル基、カルボキシル基、シアノ基である。
Ｒ6は、好ましくは、水素原子、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基である。更に好ましくは、炭素数１〜６の無置換アルキル基である。
Ｑ2 、及びＱは各々独立に、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。
【００２６】
一価のヘテロ環基の例として以下の（Ａ−１）〜（Ａ−２５）を挙げることができる。
【００２７】
【化１３】
【００２８】
【化１４】
【００２９】
式中、Ｒ21〜Ｒ50は、各々独立に、水素原子、または置換基である。置換基の例は、Ｒ5，Ｒ6の説明で述べたものである。
ｂ，ｃは、０から６の整数である。
ａ，ｐ，ｑ，ｒは、０から４の整数である。
ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｔ，ｕは、０から３の整数である。
ｈ，ｉ，ｊ，ｋ，ｌ、ｏは、０から２の整数である。
ａ〜ｕが２以上のとき、２つ以上存在するＲ21〜Ｒ50で表される置換基は、同じでも異なっても良い。
【００３０】
Ｑ2及びＱ の構造の中で好ましくは置換または無置換のアリール基である。
【００３１】
式中、Ｒ61，Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64，Ｒ65、Ｒ66、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15は、各々独立に、水素原子、または、置換基を表す。置換基としては、前述のＲ5，Ｒ6の説明で述べたものを例として挙げることができる。
【００３２】
Ｑ1 は置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わし、その構造上２価の連結基となる。２価のヘテロ環基の例としては先に挙げた（A-1）〜（A-25）の環が２価連結可能となるもの、すなわち、Ｒ21〜Ｒ50のどれかが連結部分であるようなものが挙げられる。
【００３３】
Ｑ1 として好ましくは前記の式（ａ）〜（ｋ）から選択される構造の基を表わす。これらは２価以上の連結基であり、連結可能な位置（＊）がどの方向のアゾ基と連結されても良い。
式（Ｉ）で表される色素のなかでも、前記一般式（II）で表されるものが最も好ましい。
一般式（II）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｒ5、Ｒ6は、各々独立に、水素原子又は置換基を表わす。Ｑ2 は置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｑ1 は、前記の式（ａ）〜（ｋ）から選択される構造の基を表わす。これらは２価以上の連結基であり、連結可能な位置（＊）がどの方向のアゾ基と連結されても良い。
式（ａ）〜（ｋ）中、Ｒ11，Ｒ12、Ｒ13，Ｒ61，Ｒ62，Ｒ63、Ｒ64，Ｒ65は各々独立に水素原子、または置換基を表わす。置換基としては、前述の式（Ｉ）のＲ5，Ｒ6の説明で述べたものを例として挙げることができる。
【００３４】
式（II）中のR1a、R2a、R3aの例と好ましい範囲は式（Ｉ）のR1、R2、R3の例と好ましい範囲と同じであり、式（II）中のR5、R6の例と好ましい範囲は式（Ｉ）中のB1、B2の説明に記載されているR5、R6の例と好ましい範囲と同じである。
【００３５】
該色素は、色素層とされたときの屈折率（ｎ）が、２．１０＜ｎ＜２．５０であり、消衰係数（ｋ）が、０．０３＜ｋ＜０．０９であるものが好ましい。
屈折率と消衰係数は、回転光子法（エリプソメーター）で容易に計測できる。測定装置としては、Ｊ.Ａ.ＷＯＯＬＬＡＭ社の モデルＶ−ＶＡＳＥ−Ｓが挙げられる。
【００３６】
本発明に用いるアゾ色素の具体例を以下に例示する。具体例によって、本発明は制限されない。
【００３７】
【化１５】
【００３８】
【化１６】
【００３９】
【化１７】
【００４０】
【化１８】
【００４１】
【化１９】
【００４２】
色素３２ 色素１７のＮｉキレート
色素３３ 色素１７の亜鉛キレート
色素３４ 色素１８のＮｉキレート
色素３５ 色素２１のＮｉキレート
色素３６ 色素２１の亜鉛キレート
色素３７ 色素２１の銅キレート
色素３８ 色素２２のＮｉキレート
色素３９ 色素２３のＡｌキレート
色素４０ 色素２３の亜鉛キレート
【００４３】
本発明の色素のうち、下記一般式（IV）、（Ｖ）のものに関しては発明者が鋭意研究の結果、光情報記録媒体に適用するに好ましいものとして新規に合成したものである。
一般式（IV）
【００４４】
【化２０】
【００４５】
一般式（IV）中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ5aは、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｒ6a、Ｒ7a、Ｒ8aは、各々独立に、水素原子又は置換基を表わす。Ｑは置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。
一般式（Ｖ）
【００４６】
【化２１】
【００４７】
一般式（Ｖ）中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ5bは、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｒ6a、Ｒ7a、Ｒ8bは、各々独立に、水素原子又は置換基を表わす。Ｑは置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。
一般式（III）において、Ｒ1〜Ｒ6、Ｑ1及びＱ2 は一般式（Ｉ）におけると同義であり、例と好ましい範囲も同様である。
一般式（IV）及び（Ｖ）において、Ｒ6a、Ｒ7a、Ｒ8a、及びＲ8bは一般式（Ｉ）におけるＲ1〜Ｒ4と同義であり、例と好ましい範囲も同様である。Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ5a、Ｒ5bは一般式（II）におけるＲ1a〜Ｒ3aと同義であり、例と好ましい範囲も同様である。
【００４８】
一般式（IV）、（Ｖ）以外の本発明の色素は、一般的なジスアゾ色素の合成法、例えば特開昭５９−１３３２５９に記載の合成法などによって合成できる。下記に一般的な合成ルート１）、２）、３）を示している。
【００４９】
【化２２】
【００５０】
合成中間体のＲ1〜Ｒ6、Ｑ1 、Ｑ2 はそれぞれ一般式（Ｉ）のＲ1〜Ｒ6、Ｑ1 、Ｑ2 と同義である。またXは対イオンをあらわす。
【００５１】
＜合成例１＞
例示化合物として挙げた色素１の合成法を以下に示す。
【００５２】
【化２３】
【００５３】
−工程１−
原料（１）の塩酸塩１０ｇを氷水110gに溶解し、これに別途アニリン６．２ｇより調整したベンゼンジアゾニウムクロリドの塩酸水溶液を氷冷下添加し、これに酢酸ナトリウムを加えてpHを4にした。この反応液を室温で３０分攪拌後析出した固体を櫨取して（２）を１４ｇ得た。
【００５４】
−工程２−
中間体（２） １４ｇおよび（３） ２３ｇを蟻酸２００ｍｌ中に溶解し、１０℃以下に冷却しつつ亜硝酸ナトリウム４．５ｇを添加した。この反応液を室温で３０分攪拌後析出した固体を櫨取後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して色素１を２０ｇ得た。
得られた色素１について、マススペクトルを測定し、構造の同定を行った。（M+=５８９）
【００５５】
＜合成例２＞
例示化合物として挙げた色素２の合成法を以下に示す。
【００５６】
【化２４】
【００５７】
−工程１−
原料（４）３．６ｇをメタノール６６ｍｌに溶解し、これに別途アニリン３ｇより調整したベンゼンジアゾニウムクロリドの塩酸水溶液を氷冷下添加し、これに酢酸ナトリウムを加えてpHを4にした。この反応液を室温で３０分攪拌後析出した固体を櫨取して（５）を４．３ｇ得た。
【００５８】
−工程２−
中間体（５） ４．３ｇを酢酸４５ｍｌ、リン酸４５ｍｌに溶解し、０℃以下に冷却しつつニトロシル硫酸の硫酸溶液（３０％）１０ｍｌを添加した。このように調整した（６）の溶液を（３） ７ｇのメタノール２００ｍｌ、ピリジン８０ｍｌ溶液に１０℃以下で添加し、得られる結晶を櫨取後シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して色素２ １０ｇを得た。
得られた色素２について、マススペクトルを測定し、構造の同定を行った。（M+=５８３）
【００５９】
＜合成例３＞
例示化合物として挙げた色素２１、色素２２の合成法を以下に示す。
【００６０】
【化２５】
【００６１】
−工程１−
原料（１）１．６ｇを酢酸１５ｍｌ、リン酸１５ｍｌに溶解し、０℃以下に冷却しつつニトロシル硫酸の硫酸溶液（４０％）２ｍｌを添加した。このように調整した（２）の溶液を（３） ２．４ｇのアセトン２０ｍｌ、ピリジン３０ｍｌ溶液に１０℃以下で添加し、得られる結晶を櫨取後シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して色素２１ ３．８ｇを得た。
得られた色素２１について、マススペクトルを測定し、構造の同定を行った。（M+=613）
【００６２】
−工程２−
色素２１ １．０ｇをDMSO１０ｍｌに溶解し、2-クロロベンゾチアゾール０．６ｇ、炭酸カリウム０．４５ｇを加えて１時間加熱還流した。反応液を水にあけて得られる結晶を櫨取後シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して色素２２ １．１ｇを得た。
得られた色素２２について、マススペクトルを測定し、構造の同定を行った。（M+=７４７）
【００６３】
本発明では、前述のアゾ色素と金属又は金属酸化物とでキレートアゾ色素を形成させて用いることができる。金属としては、遷移金属が好ましく、中でも、Ｎｉ2+、Ｃｏ2+、Ｚｎ2+、Ｆｅ3+、Ａｌ3+、Ｃｕ2+、Ｃｒ3+、が好ましい。その中でも、Ｎｉ2+、Ｃｏ2+、Ｚｎ2+が好ましい。
【００６４】
本発明の光記録ディスクには、前述のアゾ色素と従来公知の光記録ディスク用の色素を併用しても良い。色素としては、アゾキレート色素、オキソノール色素、シアニン色素、フタロシアニン色素が挙げられる。
【００６５】
本発明の光情報記録媒体は、基板上に前記の特定の構造のアゾ色素を含有する記録層を有する。本発明の光情報記録媒体には、種々の構成のものが含まれる。本発明の光情報記録媒体は、一定のトラックピッチのプレグルーブが形成された円盤状基板上に記録層、光反射層および保護層をこの順に有する構成、あるいは該基板上に光反射層、記録層および保護層をこの順に有する構成であることが好ましい。また、一定のトラックピッチのプレグルーブが形成された透明な円盤状基板上に記録層及び光反射層が設けられてなる二枚の積層体が、それぞれの記録層が内側となるように接合された構成も好ましい。
【００６６】
本発明の光情報記録媒体は、ＤＶＤ−Ｒに適用する場合には、トラックピッチ０．６〜０．９μｍのプレグルーブが形成された、厚さが０．６±０．１ｍｍの透明な円盤状基板の該プレブルーブが設けられた側の表面に記録層が設けられてなる２枚の成層体をそれぞれ記録層が内側となるように接合する。プレグルーブの深さは、０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは、０．１〜５０μｍである。
本発明の光情報記録媒体を書き込みが４５０ｎｍ以下の波長のレーザーによる光ディスクに適用する場合は、該トラックピッチは０．２〜０．８μｍの範囲にあることが好ましく、更に０．２５〜０．６μｍの範囲にあることが好ましく、更に０．２７〜０．４μｍの範囲にあることが好ましい。
プレグルーブの深さは、０．０３〜０．１８μｍの範囲にあることが好ましく、更に０．０５〜０．１５μｍの範囲にあることが好ましく、特に０．０６〜０．１μｍの範囲にあることが好ましい。
【００６７】
本発明の光情報記録媒体として、円盤状基板上に記録層、光反射層、及び保護層をこの順に有する構成のものを例にとって、以下にその製造方法を説明する。本発明の光情報記録媒体の基板は、従来の光情報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。基板材料としては、例えばガラス、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。なお、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある基板として使うことができる。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネートが好ましい。
【００６８】
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上および記録層の変質防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシランカップリング剤などの表面改質剤を挙げることができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００６９】
記録層の形成は、前記色素化合物、更に所望によりクエンチャー、結合剤などを溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行うことができる。塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；メチルシクロヘキサンなどの炭化水素；ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００７０】
結合剤を使用する場合に、結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００７１】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。記録層の層厚は一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【００７２】
記録層には、記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式（Ｑ）で表される化合物を挙げることができる。
一般式（Ｑ）：
【００７３】
【化２６】
【００７４】
（但し、Ｒ81は置換基を有していてもよいアルキル基を表わし、そしてＱ-はアニオンを表わす。）
一般式（Ｑ）において、Ｒ81は置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基が一般的であり、無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ）、アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ）、アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ）、アシル基（例、アセチル、プロピオニル）、アシルオキシ基（例、アセトキシ、プロピオニルオキシ）、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、アルケニル基（例、ビニル）、アリール基（例、フェニル、ナフチル）を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Ｑ-のアニオンの好ましい例としては、ＣｌＯ4 -、ＡｓＦ6 -、ＢＦ4 -、及びＳｂＦ6 -を挙げることができる。
一般式（Ｑ）で表される化合物例を表１に記載する。
【００７５】
【表１】
【００７６】
前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００７７】
記録層に隣接して、情報の再生時における反射率の向上の目的で光反射層を設けることが好ましい。光反射層の材料である光反射性物質はレーザーに対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ金属、Ａｇ金属、Ａｌ金属あるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｇ金属、Ａｌ金属あるいはそれらの合金である。光反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板もしくは記録層の上に形成することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲にあり、５０〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００７８】
光反射層もしくは記録層の上には、記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層を設けることが好ましい。なお、ＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体の製造の場合と同様の形態、すなわち二枚の基板を記録層を内側にして張り合わせる構成をとる場合は、必ずしも保護層の付設は必要ではない。保護層に用いられる材料の例としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。保護層は、例えばプラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して反射層上にラミネートすることにより形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。以上の工程により、基板上に、記録層、光反射層そして保護層、あるいは基板上に、光反射層、記録層そして保護層が設けられた積層体を製造することができる。
【００７９】
本発明の光情報記録方法は、上記光情報記録媒体を用いて、例えば、次のように行れる。まず光情報記録媒体を定線速度または定角速度にて回転させながら、基板側あるいは保護層側から半導体レーザーなどの記録用の光を照射する。この光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。本発明においては、ＤＶＤ−Ｒに適用する場合は、記録光として、６００〜７００ｎｍ好ましくは、６２０〜６８０ｎｍ、更に好ましくは、６３０〜６７０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザーが用いられる。
更に、記録光として３９０〜５５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザーが用いられる光記録ディスクに適用されることも好ましい。その場合の好ましい光源としては３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー、中心発振波長５１５ｎｍの青緑色半導体レーザー、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザーを光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザーを挙げることができる。中でも記録密度の点で青紫色半導体またはＳＨＧレーザーを用いることが特に好ましい。上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザーを基板側あるいは保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【００８０】
【実施例】
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００８１】
［実施例１］
色素１を２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールに溶解し、色素濃度１質量％の記録層形成用塗布液を調製した。表面にスパイラルプレグルーブ（トラックピッチ：０．８μｍ、グルーブの幅：０．４、グルーブ深さ：０．１５μｍ）が射出成型により形成されたポリカーボネート基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）のそのプリグレーブ側の表面に、スピンコートにより塗布し、記録層（グルーブ内厚さ：２００ｎｍ）を作成した。
次に、記録層上に銀をスパッタして厚さ約１００ｎｍの光反射層を形成し、基板上に、記録層及び光反射層がこの順で設けられた成層体を作成した。別に透明なポリカーボネート基板（円盤状保護基板、直径：１２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）を用意した。そして上記で得られた成層体と円盤状保護基板とを、記録層が内側となるように、接着剤（スリーボンド社製）を用いて接合させた。（厚さ：１．２ｍｍ）。以上の工程により、実施例の係るＤＶＤ−Ｒ型光記録ディスクを製造した。
【００８２】
[実施例２]〜[実施例９]
下記表２に記載の色素を用いて、評価用の光ディスクを作成した。
【００８３】
［光ディスクとしての評価］
作製したＤＶＤ−Ｒ型光記録ディスクに線速度３．６８ｍ／秒で１４Ｔ−ＥＦＭ信号を発振波長６３５ｎｍの半導体レーザーを用いて記録したのち、記録した信号を再生した。最適パワーでの変調度、グルーブ反射率、及び感度を測定した。記録および記録特性評価はパルステック社製ＯＭＴ２０００を用いて行った。
上記で作成した光ディスクを１０万ルクスのメリーゴーランド型の光褪色試験機を用いて耐光性の試験を行った。ＵＶフィルターを用いずに、３日間照射した。表２の結果から、本発明の特徴とするアゾ色素を含有する記録層を有する光記録ディスク（実施例１〜９）は、比較化合物ａを含む記録層を有する光記録ディスク（比較例１）に比べて、耐光性に優れることがわかる。
又、どのディスクも変調度が高く、高感度であった。
【００８４】
【表２】
【００８５】
【化２７】
【００８６】
【発明の効果】
本発明の色素を用いることにより、レーザーに対して高い反射率を示し、かつ高い変調度を与える高感度な光情報記録媒体を得ることができる。耐光性に優れる光情報記録媒体を得ることができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザー光を用いて情報の記録および再生が可能な光情報記録媒体に関するものである。特に本発明は、特定の構造のアゾ色素を含有し、レーザー光を用いて情報を記録するのに適したヒートモード型の光情報記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層状態で設けられている。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザー光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
【０００３】
近年、記録密度のより高い光情報記録媒体が求められている。このような要望に対して、追記型デジタル・ヴァサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディスクが上市されている。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザー光のトラッキングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒに比べて半分以下（０．７４〜０．８μｍ）と狭く形成された透明な円盤状基板上に、色素からなる記録層、そして通常は該記録層の上に光反射層、そして更に必要により保護層を設けてなるディスクを二枚、あるいは該ディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを該記録層を内側にして接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤ−Ｒへの情報の記録再生は、可視レーザー光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長のレーザー光）を照射することにより行われ、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能であるとされている。このような光記録材料に使用される色素として、アゾ色素と金属から形成されるアゾ金属キレート色素が開示されている。代表的なものは、下記特許文献１、２、３、４、５、６である。
【０００４】
【特許文献１】
特開昭６３−９５７７号公報
【特許文献２】
特開昭６３−９５７８号公報
【特許文献３】
特開昭６３−９５７９号公報
【特許文献４】
特開平３−２６８９９４号公報
【特許文献５】
特開平８−１５６４０８号公報
【特許文献１】
特開平９−２７７７０３号公報
【０００５】
最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映も間近にひかえて、画像情報を安価簡便に記録するための大容量の記録媒体の要求が高まっている。ＤＶＤ−Ｒは、大容量の記録媒体としての地位をある程度までは確保されるものの、将来の要求に対応できる程の充分大きな記録容量を有しているとは言えない。そこで、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長のレーザー光を用いることによって記録密度を向上させ、より大きな記録容量を備えた光ディスクの開発が進められている。
有機色素を含む記録層を有する光情報記録媒体において、記録層側から光反射層側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより、情報の記録再生を行う記録再生方法が開示されている。具体的には、記録層の色素として、ポルフィリン化合物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等を用いた光ディスクに、青色（波長４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）又は青緑色（波長５１５ｎｍ）のレーザー光を照射することにより情報の記録再生を行う情報記録再生方法が提案されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、本発明者の検討によれば、上記公報に記載された公知の色素を使用した光ディスクでは反射率や変調度などの記録特性が満足できるレベルではなく、また保存安定性においても充分でないことから更に改良を要することが判明した。
一方、光記録ディスクを安価に製造するためには、色素を溶剤に溶解しインク（塗工液）を調製し、スピンコート法によって塗布して製造する方法が好ましい。しかし、光記録ディスクに使用する色素の溶剤に対する溶解性や溶解安定性が不足していると塗布法による製造が不可能であるといった問題があった。また、ディスク製造時に問題となる色素の塗工性、乾燥負荷の点に問題があった。
本発明者らは、上記の問題が特定の構造のアゾ色素を使用すると解決できることを見出し、本発明を完成した。
【０００７】
本発明は上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであり、本発明の第１の目的は、波長６００〜６８０ｎｍの短波長のレーザー光および／または４５０ｎｍ以下のレーザー光を照射して情報の高密度記録及び再生が可能であり、かつ優れた記録特性を有する光情報記録媒体を提供することにある。
本発明の第２の課題は、光、高温及び高湿度に対して安定な記録層を設計することによって、記録情報の長期保存に耐え得る光情報記録媒体を提供することにある。
第３の目的は、ディスク製造時に問題となる色素溶解性、塗工性、乾燥負荷が改良された色素を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の課題は、下記の構成により解決された。
１．基板上にレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式（Ｉ）で表わされる色素を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
【０００９】
【化７】
式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は、各々独立に、水素原子または置換基を表わす。Ｂ1およびＢ2は、各々＝ＣＲ5−および−ＣＲ6＝を表すか、あるいはいずれか一方が窒素原子，他方が＝ＣＲ5−または−ＣＲ6＝を表す。Ｒ5、Ｒ6は各々独立に、水素原子または置換基を表わす。Ｑ1 は置換もしくは無置換のアリーレン基、または置換もしくは無置換の２価のへテロ環基を表わす。Ｑ2 は置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。
２．一般式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4が各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わすことを特徴とする１．記載の光情報記録媒体。
３．記録層に含有される色素が下記一般式（II）で表されることを特徴とする１．に記載の光情報記録媒体：
【００１１】
【化８】
一般式（II）中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3aは、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｒ5、Ｒ6は、各々独立に、水素原子又は置換基を表わす。Ｑ2 は置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｑ1 は、下記の式（ａ）〜（ｋ）から選択される構造の基を表わす。これらは２価の連結基であり、連結可能な位置（＊）がどの方向のアゾ基と連結されても良い。
【００１３】
【化９】
式中、Ｒ11，Ｒ12、Ｒ13，Ｒ61，Ｒ62，Ｒ63、Ｒ64，Ｒ65は各々独立に水素原子、または置換基を表わす。
４．基板上にレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式（III）で表わされる色素と金属、または金属酸化物とから形成される金属アゾキレート色素を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
【００１５】
【化１０】
式（III）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は、各々独立に、水素原子、もしくは置換基を表わす。Ｑ1 は置換もしくは無置換のアリーレン基、または置換もしくは無置換の２価のへテロ環基を表わす。Ｑ2 は置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。
５．前記色素層の屈折率（ｎ）が、２．０＜ｎ＜２．７であり、消衰係数（ｋ）が、０．０３＜ｋ＜０．１０であることを特徴とする１．〜４．に記載の光情報記録媒体。
６．下記一般式（ＩＶ）で表されることを特徴とする色素。
【００１７】
一般式（ＩＶ）
【化１１】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ5aは、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｒ6a、Ｒ7a、Ｒ8aは、各々独立に、水素原子又は置換基を表わす。Ｑは置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。
７．下記一般式（Ｖ）で表されることを特徴とする色素。
【００１９】
一般式（Ｖ）
【化１２】
一般式（Ｖ）中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ5bは、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｒ6a、Ｒ7a、Ｒ8bは、各々独立に、水素原子又は置換基を表わす。Ｑは置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の光情報記録媒体の実施の形態について詳細に説明する。
【００２２】
本発明の光情報記録媒体は、基板上にレーザー光の照射により情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、一般式（Ｉ）で表わされる特定の構造のアゾ色素および／または金属アゾキレート色素を含有することを特徴とする光情報記録媒体である。
式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は、各々独立に、水素原子もしくは置換基である。その具体例は、Ｒ5、Ｒ6の説明で後述するものを挙げることができる。その中でも好ましくは、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボキシル基を表わす。更に好ましくは、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基である。Ｒ1とＲ2、及びＲ3とＲ4が互いに結合して環構造を形成しても良い。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は、好ましくは、アルキル基（炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−オクタデシル、２−メトキシエチル、３−クロロプロピル）、アリール基（炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基、例えば、フェニル、ナフチル、ｐ−メトキシフェニル、ｍ−クロロフェニル、ｐ−ジエチルアミノフェニル）、ヘテロ環基（炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のへテロ環基、例えば、２−ピリジル、２−フリル）である。Ｒ1とＲ2、Ｒ3とＲ4の組のうち、どちらか一方は水素原子であり、他方が水素原子ではないことが好ましい。
更に好ましくは、Ｒ1、Ｒ2のどちらかは、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基又は、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基であり、他方が水素原子であることが好ましい。Ｒ3、Ｒ4のどちらかは、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基又は、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基であり、他方が水素原子であることが好ましい。
【００２３】
Ｂ1およびＢ2は、各々＝ＣＲ5−および−ＣＲ6＝を表すか、あるいはいずれか一方が窒素原子，他方が＝ＣＲ5−または−ＣＲ6＝を表す。Ｒ5、Ｒ6は各々独立に、水素原子もしくは置換基を表わす。Ｂ1およびＢ2は、各々＝ＣＲ5−および−ＣＲ6＝を表すことが好ましい。
【００２４】
Ｒ5、Ｒ6は、各々独立に、水素原子又は置換基を表わす。置換基は、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
【００２５】
更に詳しくは、Ｒ5、Ｒ6は、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１から３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２―エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］、アルケニル基［直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）を包含するものである。］、アルキニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基、アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３から２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾールー５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p-クロロフェノキシカルボニルアミノ、m-ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４から３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２―ピリジルカルボニル、２―フリルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）を表わす。
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
Ｒ5は、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６の無置換アルキル基、炭素数２〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜２０の置換もしくは無置換のアミノカルボニル基、カルボキシル基、シアノ基である。
Ｒ6は、好ましくは、水素原子、炭素数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基である。更に好ましくは、炭素数１〜６の無置換アルキル基である。
Ｑ2 、及びＱは各々独立に、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。
【００２６】
一価のヘテロ環基の例として以下の（Ａ−１）〜（Ａ−２５）を挙げることができる。
【００２７】
【化１３】
【化１４】
式中、Ｒ21〜Ｒ50は、各々独立に、水素原子、または置換基である。置換基の例は、Ｒ5，Ｒ6の説明で述べたものである。
ｂ，ｃは、０から６の整数である。
ａ，ｐ，ｑ，ｒは、０から４の整数である。
ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｔ，ｕは、０から３の整数である。
ｈ，ｉ，ｊ，ｋ，ｌ、ｏは、０から２の整数である。
ａ〜ｕが２以上のとき、２つ以上存在するＲ21〜Ｒ50で表される置換基は、同じでも異なっても良い。
【００３０】
Ｑ2及びＱ の構造の中で好ましくは置換または無置換のアリール基である。
【００３１】
式中、Ｒ61，Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64，Ｒ65、Ｒ66、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15は、各々独立に、水素原子、または、置換基を表す。置換基としては、前述のＲ5，Ｒ6の説明で述べたものを例として挙げることができる。
【００３２】
Ｑ1 は置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わし、その構造上２価の連結基となる。２価のヘテロ環基の例としては先に挙げた（A-1）〜（A-25）の環が２価連結可能となるもの、すなわち、Ｒ21〜Ｒ50のどれかが連結部分であるようなものが挙げられる。
【００３３】
Ｑ1 として好ましくは前記の式（ａ）〜（ｋ）から選択される構造の基を表わす。これらは２価以上の連結基であり、連結可能な位置（＊）がどの方向のアゾ基と連結されても良い。
式（Ｉ）で表される色素のなかでも、前記一般式（II）で表されるものが最も好ましい。
一般式（II）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｒ5、Ｒ6は、各々独立に、水素原子又は置換基を表わす。Ｑ2 は置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｑ1 は、前記の式（ａ）〜（ｋ）から選択される構造の基を表わす。これらは２価以上の連結基であり、連結可能な位置（＊）がどの方向のアゾ基と連結されても良い。
式（ａ）〜（ｋ）中、Ｒ11，Ｒ12、Ｒ13，Ｒ61，Ｒ62，Ｒ63、Ｒ64，Ｒ65は各々独立に水素原子、または置換基を表わす。置換基としては、前述の式（Ｉ）のＲ5，Ｒ6の説明で述べたものを例として挙げることができる。
【００３４】
式（II）中のR1a、R2a、R3aの例と好ましい範囲は式（Ｉ）のR1、R2、R3の例と好ましい範囲と同じであり、式（II）中のR5、R6の例と好ましい範囲は式（Ｉ）中のB1、B2の説明に記載されているR5、R6の例と好ましい範囲と同じである。
【００３５】
該色素は、色素層とされたときの屈折率（ｎ）が、２．１０＜ｎ＜２．５０であり、消衰係数（ｋ）が、０．０３＜ｋ＜０．０９であるものが好ましい。
屈折率と消衰係数は、回転光子法（エリプソメーター）で容易に計測できる。測定装置としては、Ｊ.Ａ.ＷＯＯＬＬＡＭ社の モデルＶ−ＶＡＳＥ−Ｓが挙げられる。
【００３６】
本発明に用いるアゾ色素の具体例を以下に例示する。具体例によって、本発明は制限されない。
【００３７】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】
【化１９】
色素３２ 色素１７のＮｉキレート
色素３３ 色素１７の亜鉛キレート
色素３４ 色素１８のＮｉキレート
色素３５ 色素２１のＮｉキレート
色素３６ 色素２１の亜鉛キレート
色素３７ 色素２１の銅キレート
色素３８ 色素２２のＮｉキレート
色素３９ 色素２３のＡｌキレート
色素４０ 色素２３の亜鉛キレート
【００４３】
本発明の色素のうち、下記一般式（IV）、（Ｖ）のものに関しては発明者が鋭意研究の結果、光情報記録媒体に適用するに好ましいものとして新規に合成したものである。
一般式（IV）
【００４４】
【化２０】
一般式（IV）中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ5aは、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｒ6a、Ｒ7a、Ｒ8aは、各々独立に、水素原子又は置換基を表わす。Ｑは置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。
一般式（Ｖ）
【００４６】
【化２１】
一般式（Ｖ）中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ5bは、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。Ｒ6a、Ｒ7a、Ｒ8bは、各々独立に、水素原子又は置換基を表わす。Ｑは置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のへテロ環基を表わす。
一般式（III）において、Ｒ1〜Ｒ6、Ｑ1及びＱ2 は一般式（Ｉ）におけると同義であり、例と好ましい範囲も同様である。
一般式（IV）及び（Ｖ）において、Ｒ6a、Ｒ7a、Ｒ8a、及びＲ8bは一般式（Ｉ）におけるＲ1〜Ｒ4と同義であり、例と好ましい範囲も同様である。Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ5a、Ｒ5bは一般式（II）におけるＲ1a〜Ｒ3aと同義であり、例と好ましい範囲も同様である。
【００４８】
一般式（IV）、（Ｖ）以外の本発明の色素は、一般的なジスアゾ色素の合成法、例えば特開昭５９−１３３２５９に記載の合成法などによって合成できる。下記に一般的な合成ルート１）、２）、３）を示している。
【００４９】
【化２２】
合成中間体のＲ1〜Ｒ6、Ｑ1 、Ｑ2 はそれぞれ一般式（Ｉ）のＲ1〜Ｒ6、Ｑ1 、Ｑ2 と同義である。またXは対イオンをあらわす。
【００５１】
＜合成例１＞
例示化合物として挙げた色素１の合成法を以下に示す。
【００５２】
【化２３】
−工程１−
原料（１）の塩酸塩１０ｇを氷水110gに溶解し、これに別途アニリン６．２ｇより調整したベンゼンジアゾニウムクロリドの塩酸水溶液を氷冷下添加し、これに酢酸ナトリウムを加えてpHを4にした。この反応液を室温で３０分攪拌後析出した固体を櫨取して（２）を１４ｇ得た。
【００５４】
−工程２−
中間体（２） １４ｇおよび（３） ２３ｇを蟻酸２００ｍｌ中に溶解し、１０℃以下に冷却しつつ亜硝酸ナトリウム４．５ｇを添加した。この反応液を室温で３０分攪拌後析出した固体を櫨取後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して色素１を２０ｇ得た。
得られた色素１について、マススペクトルを測定し、構造の同定を行った。（M+=５８９）
【００５５】
＜合成例２＞
例示化合物として挙げた色素２の合成法を以下に示す。
【００５６】
【化２４】
−工程１−
原料（４）３．６ｇをメタノール６６ｍｌに溶解し、これに別途アニリン３ｇより調整したベンゼンジアゾニウムクロリドの塩酸水溶液を氷冷下添加し、これに酢酸ナトリウムを加えてpHを4にした。この反応液を室温で３０分攪拌後析出した固体を櫨取して（５）を４．３ｇ得た。
【００５８】
−工程２−
中間体（５） ４．３ｇを酢酸４５ｍｌ、リン酸４５ｍｌに溶解し、０℃以下に冷却しつつニトロシル硫酸の硫酸溶液（３０％）１０ｍｌを添加した。このように調整した（６）の溶液を（３） ７ｇのメタノール２００ｍｌ、ピリジン８０ｍｌ溶液に１０℃以下で添加し、得られる結晶を櫨取後シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して色素２ １０ｇを得た。
得られた色素２について、マススペクトルを測定し、構造の同定を行った。（M+=５８３）
【００５９】
＜合成例３＞
例示化合物として挙げた色素２１、色素２２の合成法を以下に示す。
【００６０】
【化２５】
−工程１−
原料（１）１．６ｇを酢酸１５ｍｌ、リン酸１５ｍｌに溶解し、０℃以下に冷却しつつニトロシル硫酸の硫酸溶液（４０％）２ｍｌを添加した。このように調整した（２）の溶液を（３） ２．４ｇのアセトン２０ｍｌ、ピリジン３０ｍｌ溶液に１０℃以下で添加し、得られる結晶を櫨取後シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して色素２１ ３．８ｇを得た。
得られた色素２１について、マススペクトルを測定し、構造の同定を行った。（M+=613）
【００６２】
−工程２−
色素２１ １．０ｇをDMSO１０ｍｌに溶解し、2-クロロベンゾチアゾール０．６ｇ、炭酸カリウム０．４５ｇを加えて１時間加熱還流した。反応液を水にあけて得られる結晶を櫨取後シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して色素２２ １．１ｇを得た。
得られた色素２２について、マススペクトルを測定し、構造の同定を行った。（M+=７４７）
【００６３】
本発明では、前述のアゾ色素と金属又は金属酸化物とでキレートアゾ色素を形成させて用いることができる。金属としては、遷移金属が好ましく、中でも、Ｎｉ2+、Ｃｏ2+、Ｚｎ2+、Ｆｅ3+、Ａｌ3+、Ｃｕ2+、Ｃｒ3+、が好ましい。その中でも、Ｎｉ2+、Ｃｏ2+、Ｚｎ2+が好ましい。
【００６４】
本発明の光記録ディスクには、前述のアゾ色素と従来公知の光記録ディスク用の色素を併用しても良い。色素としては、アゾキレート色素、オキソノール色素、シアニン色素、フタロシアニン色素が挙げられる。
【００６５】
本発明の光情報記録媒体は、基板上に前記の特定の構造のアゾ色素を含有する記録層を有する。本発明の光情報記録媒体には、種々の構成のものが含まれる。本発明の光情報記録媒体は、一定のトラックピッチのプレグルーブが形成された円盤状基板上に記録層、光反射層および保護層をこの順に有する構成、あるいは該基板上に光反射層、記録層および保護層をこの順に有する構成であることが好ましい。また、一定のトラックピッチのプレグルーブが形成された透明な円盤状基板上に記録層及び光反射層が設けられてなる二枚の積層体が、それぞれの記録層が内側となるように接合された構成も好ましい。
【００６６】
本発明の光情報記録媒体は、ＤＶＤ−Ｒに適用する場合には、トラックピッチ０．６〜０．９μｍのプレグルーブが形成された、厚さが０．６±０．１ｍｍの透明な円盤状基板の該プレブルーブが設けられた側の表面に記録層が設けられてなる２枚の成層体をそれぞれ記録層が内側となるように接合する。プレグルーブの深さは、０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは、０．１〜５０μｍである。
本発明の光情報記録媒体を書き込みが４５０ｎｍ以下の波長のレーザーによる光ディスクに適用する場合は、該トラックピッチは０．２〜０．８μｍの範囲にあることが好ましく、更に０．２５〜０．６μｍの範囲にあることが好ましく、更に０．２７〜０．４μｍの範囲にあることが好ましい。
プレグルーブの深さは、０．０３〜０．１８μｍの範囲にあることが好ましく、更に０．０５〜０．１５μｍの範囲にあることが好ましく、特に０．０６〜０．１μｍの範囲にあることが好ましい。
【００６７】
本発明の光情報記録媒体として、円盤状基板上に記録層、光反射層、及び保護層をこの順に有する構成のものを例にとって、以下にその製造方法を説明する。本発明の光情報記録媒体の基板は、従来の光情報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。基板材料としては、例えばガラス、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。なお、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある基板として使うことができる。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネートが好ましい。
【００６８】
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上および記録層の変質防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシランカップリング剤などの表面改質剤を挙げることができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００６９】
記録層の形成は、前記色素化合物、更に所望によりクエンチャー、結合剤などを溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行うことができる。塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；メチルシクロヘキサンなどの炭化水素；ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００７０】
結合剤を使用する場合に、結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００７１】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。記録層の層厚は一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【００７２】
記録層には、記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式（Ｑ）で表される化合物を挙げることができる。
一般式（Ｑ）：
【００７３】
【化２６】
（但し、Ｒ81は置換基を有していてもよいアルキル基を表わし、そしてＱ-はアニオンを表わす。）
一般式（Ｑ）において、Ｒ81は置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基が一般的であり、無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ）、アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ）、アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ）、アシル基（例、アセチル、プロピオニル）、アシルオキシ基（例、アセトキシ、プロピオニルオキシ）、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、アルケニル基（例、ビニル）、アリール基（例、フェニル、ナフチル）を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Ｑ-のアニオンの好ましい例としては、ＣｌＯ4 -、ＡｓＦ6 -、ＢＦ4 -、及びＳｂＦ6 -を挙げることができる。
一般式（Ｑ）で表される化合物例を表１に記載する。
【００７５】
【表１】
前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００７７】
記録層に隣接して、情報の再生時における反射率の向上の目的で光反射層を設けることが好ましい。光反射層の材料である光反射性物質はレーザーに対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ金属、Ａｇ金属、Ａｌ金属あるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｇ金属、Ａｌ金属あるいはそれらの合金である。光反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板もしくは記録層の上に形成することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲にあり、５０〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００７８】
光反射層もしくは記録層の上には、記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層を設けることが好ましい。なお、ＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体の製造の場合と同様の形態、すなわち二枚の基板を記録層を内側にして張り合わせる構成をとる場合は、必ずしも保護層の付設は必要ではない。保護層に用いられる材料の例としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。保護層は、例えばプラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して反射層上にラミネートすることにより形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。以上の工程により、基板上に、記録層、光反射層そして保護層、あるいは基板上に、光反射層、記録層そして保護層が設けられた積層体を製造することができる。
【００７９】
本発明の光情報記録方法は、上記光情報記録媒体を用いて、例えば、次のように行れる。まず光情報記録媒体を定線速度または定角速度にて回転させながら、基板側あるいは保護層側から半導体レーザーなどの記録用の光を照射する。この光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。本発明においては、ＤＶＤ−Ｒに適用する場合は、記録光として、６００〜７００ｎｍ好ましくは、６２０〜６８０ｎｍ、更に好ましくは、６３０〜６７０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザーが用いられる。
更に、記録光として３９０〜５５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザーが用いられる光記録ディスクに適用されることも好ましい。その場合の好ましい光源としては３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー、中心発振波長５１５ｎｍの青緑色半導体レーザー、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザーを光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザーを挙げることができる。中でも記録密度の点で青紫色半導体またはＳＨＧレーザーを用いることが特に好ましい。上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザーを基板側あるいは保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【００８０】
【実施例】
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００８１】
［実施例１］
色素１を２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールに溶解し、色素濃度１質量％の記録層形成用塗布液を調製した。表面にスパイラルプレグルーブ（トラックピッチ：０．８μｍ、グルーブの幅：０．４、グルーブ深さ：０．１５μｍ）が射出成型により形成されたポリカーボネート基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）のそのプリグレーブ側の表面に、スピンコートにより塗布し、記録層（グルーブ内厚さ：２００ｎｍ）を作成した。
次に、記録層上に銀をスパッタして厚さ約１００ｎｍの光反射層を形成し、基板上に、記録層及び光反射層がこの順で設けられた成層体を作成した。別に透明なポリカーボネート基板（円盤状保護基板、直径：１２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）を用意した。そして上記で得られた成層体と円盤状保護基板とを、記録層が内側となるように、接着剤（スリーボンド社製）を用いて接合させた。（厚さ：１．２ｍｍ）。以上の工程により、実施例の係るＤＶＤ−Ｒ型光記録ディスクを製造した。
【００８２】
[実施例２]〜[実施例９]
下記表２に記載の色素を用いて、評価用の光ディスクを作成した。
【００８３】
［光ディスクとしての評価］
作製したＤＶＤ−Ｒ型光記録ディスクに線速度３．６８ｍ／秒で１４Ｔ−ＥＦＭ信号を発振波長６３５ｎｍの半導体レーザーを用いて記録したのち、記録した信号を再生した。最適パワーでの変調度、グルーブ反射率、及び感度を測定した。記録および記録特性評価はパルステック社製ＯＭＴ２０００を用いて行った。
上記で作成した光ディスクを１０万ルクスのメリーゴーランド型の光褪色試験機を用いて耐光性の試験を行った。ＵＶフィルターを用いずに、３日間照射した。表２の結果から、本発明の特徴とするアゾ色素を含有する記録層を有する光記録ディスク（実施例１〜９）は、比較化合物ａを含む記録層を有する光記録ディスク（比較例１）に比べて、耐光性に優れることがわかる。
又、どのディスクも変調度が高く、高感度であった。
【００８４】
【表２】
【化２７】
【発明の効果】
本発明の色素を用いることにより、レーザーに対して高い反射率を示し、かつ高い変調度を与える高感度な光情報記録媒体を得ることができる。耐光性に優れる光情報記録媒体を得ることができる。
Claims (7)
- 基板上にレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式（Ｉ）で表わされる色素を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
- 一般式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4が各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のへテロ環基を表わすことを特徴とする請求項１記載の光情報記録媒体。
- 記録層に含有される色素が下記一般式（II）で表されることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体：
- 基板上にレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式（III）で表わされる色素と金属、または金属酸化物とから形成される金属アゾキレート色素を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
- 前記色素層の屈折率（ｎ）が、２．０＜ｎ＜２．７であり、消衰係数（ｋ）が、０．０３＜ｋ＜０．１０であることを特徴とする請求項１〜４に記載の光情報記録媒体。
- 下記一般式（ＩＶ）で表されることを特徴とする色素。
一般式（ＩＶ）
- 下記一般式（Ｖ）で表されることを特徴とする色素。
一般式（Ｖ）
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