JP4269864B2 - セラミック薄膜の製造方法および積層セラミック電子部品の製造方法 - Google Patents
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Description
12 電源
13 電解槽
14 陽極
15 電着液
21 基体
22 セラミック薄膜(誘電体層)
23 内部電極
24 外部電極
31 基板
32 モールド
33 感光性触媒液
Claims (7)
- セラミック結晶粒子を分散させた電着液中に基板と電極とを浸漬し、前記基板と前記電極との間にパルス電流を通電させて前記基板上に前記セラミック結晶粒子を堆積させることを特徴とするセラミック薄膜の製造方法。
- 前記電着液は、溶媒に前記セラミック結晶粒子が単分散していることを特徴とする、請求項1に記載のセラミック薄膜の形成方法。
- 前記基板上に堆積した前記セラミック結晶粒子を、前記セラミック結晶粒子の焼結温度以下の温度で熱処理する工程を含むことを特徴とする、請求項1あるいは2に記載のセラミック薄膜の製造方法。
- 請求項1ないし3のいずれかに記載のセラミック薄膜の製造方法によって、セラミック薄膜を形成する工程と、
前記セラミック薄膜上の所定部分に内部電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする積層セラミック電子部品の製造方法。 - 請求項4に記載の積層セラミック電子部品の製造方法であって、
前記セラミック薄膜を形成する工程と、前記内部電極を形成する工程とを交互に複数回繰り返すことを特徴とする積層セラミック電子部品の製造方法。 - セラミック薄膜を形成する工程と、
下面に所定形状の凹部を有し透孔性の材料からなるモールドを感光性触媒液に浸漬して前記凹部に前記感光性触媒液を充填する工程と、
前記モールドを前記セラミック薄膜上に押し付けつつ前記モールドを通して前記感光性触媒液に光を照射して前記感光性触媒液を硬化させ、前記セラミック薄膜の所定の部分に触媒活性処理を施す工程と、
前記セラミック薄膜を無電解めっき液に浸漬させて、前記セラミック薄膜上の触媒活性処理された部分に選択的にめっき被膜を析出させて内部電極を形成する工程と、を備えることを特徴とする積層セラミック電子部品の製造方法。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載のセラミック薄膜の製造方法によって、セラミック薄膜を形成する工程と、
下面に所定形状の凹部を有し透光性の材料からなるモールドを感光性触媒液に浸漬して前記凹部に前記感光性触媒液を充填する工程と、
前記モールドを前記セラミック薄膜上に押し付けつつ前記モールドを通して前記感光性触媒液に光を照射して前記感光性触媒液を硬化させ、前記セラミック薄膜上の所定の部分に触媒活性処理を施す工程と、
前記セラミック薄膜を無電解めっき液に浸漬させて、前記セラミック薄膜上の触媒活性処理された部分に選択的にめっき被膜を析出させて内部電極を形成する工程と、を備えることを特徴とする積層セラミック電子部品の製造方法。
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