JP4264475B2 - 磁気ミラープラズマ源 - Google Patents
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Description
磁気ミラー閉込に関する良好な提示は、J. Reece Roth氏による Industrial Plasma
Engineering, Volume 1: Principles, IOP Publishing, Ltd. 1995という文献の3.4.2節に与えられている。磁気ミラーを使用した電子およびイオンの閉込は、周知であり、特に、核融合の研究において周知である。
Yamazaki氏による米国特許第4,963,524号明細書には、超伝導材料を形成するための方法が開示されている。対向ターゲット構成が使用され、基板は、磁界内において、両電極間に配置されている。磁界は、両電極間において対称であり、基板は、ギャップの中央に配置される。基板がこの配置されたときには、磁界内において生成されるホール電流が、捻れたり破壊されたりする傾向がある。これが起こったときには、プラズマが消失してしまう、および/または、電圧が大きくなりすぎてしまう。
Felts 氏他による米国特許第5,224,441号明細書および米国特許第5,364,665号明細書においては、フレキシブルな基板が、電圧印加されたドラムの周囲に配置されるとともに、そのドラムに対向させて、接地シールドの背面側に磁界手段が設置する、という構成が記載されている。この構成においては、ドラムに対向したシールドは、設置することも、浮遊のままとすることも、できる。基板が表面上に支持されているものの、基板から放出されるミラー磁界が存在していない。
Jansen氏他による米国特許第5,627,435号明細書には、大きなダイオードプラズマプロセス圧力(0.1〜5Torr)で動作するような、中空カソードを使用したプラズマ源が開示されている。ハウジング内においてプラズマが形成され、その後、貫通孔から放出される。プラズマは、あるチャンバ内において生成され、その後、基板の下方に配置された磁石を使用して、基板に対して案内される。
第2表面と第3表面との間に接続された電源によって生成された電界であって、磁界の電子閉込領域内へと進入することによって、形成された電子ホール電流を無端ループ内へと閉じ込め得るような、電界と;を具備しているプラズマ源装置が提供される。
ラズマ中の電子は、ギャップ内において『磁化』される。現在の材料を使用すれば、プラズマ中のイオンをも磁化し得るように磁界強度を増強することは、比較的容易である。これには、1000G以上といったような磁界強度を必要とする。本発明の好ましい実施形態による方法におけるプラズマは、イオン磁化に対してうまく適応する。それは、平面状マグネトロンタイプの閉込の場合のように大きなジャイロ半径を妨害してしまうカソード表面が、存在しないからである。従来技術によるプラズマ源においては、別の場所のプラズマ源からウェハに向けてプラズマを案内し得るようウェハの下方に設置された磁石を使用しているけれども、本発明による方法の好ましい実施形態においては、磁石自体が本来的に、ウェハ表面の直上に稠密プラズマを形成する。ウェハ上へと電子流およびイオン流を焦点合わせすることの利点は、本発明の好ましい実施形態における方法においては、完全に実現されている。スイッチ(83)およびバイアス電源(82)によって示されているように、本発明による方法においては、プラテン(75)およびウェハ(76)を、浮遊電位とすることも、あるいは、接地電位とすることも、あるいは、電源(82)によって正または負にバイアスすることも、できる。
ラズマの形成のために十分なサイズでなければならない。ギャップのサイズは、また、表面(3,1)どうしの間に強力なミラー磁界を形成するという必要性や、少なくとも電子を磁化し得るような十分に強力な磁界を形成するという必要性や、ビューポートからプラズマを観測するという必要性、に基づいたものとされる。典型的なギャップは、50.8mm(2インチ)である。図3Aに示すようなプラズマ源は、101.6mm(4インチ)長さ(紙面に対して垂直な方向における長さ)の磁石(7)と、203.2mm(8インチ)長さのカソード電極(3)と、を備えて構成された。チャンバ圧力を20mTorrとし、さらに、カソード電極(3)と接地との間に印加する電圧を約500Vとすることにより、図示のように、基材(1)上において明るいプラズマが維持された。放電を開始するに際しては、圧力は、電源の点火電圧に応じてスパイクすることがあり得る。ここでは特定の値を例示したけれども、プロセス(PECVD、処理、エッチング)やプロセスガス種や基材サイズや材料や磁界や他の変数に応じて、様々な圧力や様々な電圧値や様々な周波数や様々なパワーレベルを、使用することができる。例示した数値は、好ましい実施形態を模擬するに際しての開始値を技術者に対して提示することを意図したものである。従来的なマグネトロン閉込と同様に、本発明による方法による好ましい実施形態における利点を発揮しつつも、動作値は、様々に変更することができる。
マ源のチャンバ内に供給されたときには、プラズマ(14,34)が発光する。電源(16)は、幅広い周波数範囲に設定することができる。典型的には、電極(3,23)上に成膜される薄膜は、導電性であり、20kHz以上の周波数が使用される。このプラズマ源は、例えばプラズマ処理やPECVDやプラズマエッチングといったようなプラズマ処理において、優れている。例えば建築用ガラスといったような厚くかつ大面積の基材を処理する必要がある場合に、特に有効である。ガラスが電気的に浮遊電位とされることにより、厚いガラスを通して電流を流すという困難性が排除され、稠密プラズマが、基材の上方に案内される。加えて、カソードプレートを鉛直方向に配置することにより、カソードのスパッタリングが、基材から離間される。このことは、スパッタされた材料による基材の汚染を低減し、基材に対しての熱負荷を低減する。したがって、PECVDコーティング膜が基材上に成膜される際には、カソード表面は、スパッタリングによってクリーニングされるとともに、スパッタリングによって発生した材料は、基材から離間して案内される。カソードの鉛直方向配置は、いくつかの応用においては、かなりの利点をもたらす。製造時には、カソード電極(3,23)が、水冷されなければならない(図示せず)こと、および、プロセス条件によっては、他の表面もまた水冷を必要とすることがあり得ることに、注意されたい。
02)は、アノードとして接続することも、カソードとして接続することも、また、浮遊電位とすることも、できる。
近して配置されており、磁界(108)の周囲において、所望の連続的な電界(118)を形成している。図7は、プラズマ源の端部を、より詳細に示している。ホール電流の端部閉込が所定位置で行われていることにより、連続的なホール電流閉込領域が、磁界(108)内に形成されていて、一様で強力なプラズマ(109)が、ロール(102)の長さ全体に沿って形成されている。
−スパッタされる場合には、カソード電極の表面を、プロセスにとって有効であるようなあるいは無害であるような『ターゲット』材料によって、被覆し得ること。
−カソード電極の表面を、基材に対して、基材上への電極からのスパッタ材料の到達を最小化させ得るような位置に、配置すること。
−基材を、正にバイアスすることも、接地することも、浮遊電位とすることも、負にバイアスすることも、できること。
−基材のバイアスに際して、AC電圧またはRF電圧を使用し得ること。
−カソード電極に対しての電力供給として、DC、あるいは、AC、あるいは、RFを使用し得ること。
−磁界に対して基材を移動させることに代えて、基材に対して磁界を移動させること。
−図4,17に示すように、カソード表面と基材表面とを非平行とし得ること。
−マグネトロンタイプのアレイを使用して磁界を形成し得ること。
−複数の双極子磁界を形成することができ、これらを1つの電源に対して接続すること。
−基材の上下双方に配置されたあるいは基材の直下に配置された高透磁性材料および磁石を使用して、磁界を形成し得ること。
−基材を、コンベヤロールによって支持されたフレキシブルウェブとし得ること。
−基材の両面を、被覆し得ること。圧縮されたミラー面が、大いに好ましい。圧縮度の小さな面は、付加的である。
−磁界を、尖鋭な凹形状や凸形状とし得ること。
−ミラー磁界を、レーストラック形状とすることができ、レーストラックの中央を通過する戻り磁界を有することができる。
−磁界を、永久磁石または電磁石によって形成し得ること。
−ミラー磁界を、スパッタマグネトロンと組み合わせることができ、これにより、プラズマ反応や基材処理を補助し得ること。
−プラズマ源を使用することによって、熱蒸着や電子ビーム成膜プロセス(あるいは、レーザー蒸着)に関連した反応プロセスを補助し得ること。
3 カソード
5 磁石、永久磁石
6 永久磁石
7 永久磁石
11 アノード
12 磁界
14 プラズマ
15 電界
16 電源
22 基板(基材)
24 電子
25 磁力線
40 磁石
41 基材
43 リング状アノード
44 プラズマ
45 カソード電極
47 磁石
50 磁界
51 基材
52 カソードプレート
53 アノード電極
54 磁気閉込プラズマ
55 電源
56 磁石
57 磁石
59 磁石
60 マグネトロン磁石アレイ
61 磁界
62 圧縮磁気ミラー領域
70 電源
72 カバー(電極)
76 ウェハ(基材)
80 磁石
81 シャント(電極)
100 ウェブ(基材)
101 ロール
102 ロール
104 永久磁石
105 永久磁石
108 磁界
109 プラズマ
110 電源
112 プレート
113 プレート
114 永久磁石
116 永久磁石
118 電界
201 平面状基材
206 磁石
207 磁石
208 マグネトロン
210 プラズマ
300 マグネトロン磁石アレイ
301 フレキシブルウェブ(基材)
302 回転ドラム
303 熱蒸着源
304 高透磁性プレート
308 ミラー磁界
310 電源
311 磁界
312 プラズマ
Claims (22)
- プラズマ源装置であって、
互いの間にギャップを有している第1表面および第2表面であるとともに、前記第1表面が、基材を有し、少なくとも前記第2表面が、電子を閉じ込め得るよう、電源に対して接続されているような、第1表面および第2表面と;
前記電源に対して接続されている第3表面と;
前記第1表面および前記第2表面の双方内へと進入するとともに前記第1表面と前記第2表面との間の前記ギャップを通過して延在する磁界であって、この磁界のうちの、前記基材を通過している少なくとも一部が、前記第2表面と比較して、前記基材の表面において、磁力線に沿って少なくとも2倍の磁界強度とされ、かつ、電子を偏向させ得る程度に十分に強力なものとされているような、磁界と;
前記第2表面と前記第3表面との間に接続された前記電源によって生成された電界であって、前記磁界の電子閉込領域内へと進入することによって、形成された電子ホール電流を無端ループ内へと閉じ込め得るような、電界と;
を具備することを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項1記載のプラズマ源装置において、
前記第3表面が、リング状アノードを備えていることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項1記載のプラズマ源装置において、
前記第3表面が、基材であることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項1記載のプラズマ源装置において、
前記第1表面と前記第2表面とが、チャンバ内に収容され、
このチャンバが、接地された壁を備え、
前記第3表面が、前記接地されたチャンバ壁であることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項1記載のプラズマ源装置において、
前記基材と前記磁界との一方が、他方に対して移動していることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項1記載のプラズマ源装置において、
前記磁界のうちの、前記基材を通過している前記少なくとも一部が、前記第2表面と比較して、前記基材の表面において、磁力線に沿って少なくとも4倍の磁界強度とされていることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項1記載のプラズマ源装置において、
前記磁界のうちの、前記基材を通過している前記少なくとも一部が、磁力線に沿った最強ポイントにおいては、100ガウスより大きいことを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項1記載のプラズマ源装置において、
前記第1表面および前記第2表面の双方が、前記基材によって被覆されていることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項1記載のプラズマ源装置において、
前記基材が、正にバイアスされていることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項1記載のプラズマ源装置において、
前記基材が、コンベヤロールによって支持されたフレキシブルウェブを備えていることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項1記載のプラズマ源装置において、
前記磁界の磁力線が、レーストラック形状とされ、このレーストラックの中央を通過する戻り磁界を有していることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項1記載のプラズマ源装置において、
前記プラズマ源装置が、プラズマ反応または基材処理を補助し得るよう、スパッタマグネトロンと組み合わされていることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項1記載のプラズマ源装置において、
前記プラズマ源装置が、熱蒸着または電子ビーム成膜プロセスまたはレーザー蒸発に関連した反応プロセスを補助するために、使用されていることを特徴とするプラズマ源装置。 - プラズマ源装置であって、
互いの間にギャップを有している第1表面および第2表面であるとともに、前記第1表面が、基材を有し、少なくとも前記第2表面が、電子を閉じ込め得るよう、電源に対して接続されているような、第1表面および第2表面と;
前記電源に対して接続されている第3表面と;
前記第1表面および前記第2表面の双方内へと進入するとともに前記第1表面と前記第2表面との間の前記ギャップを通過して延在する磁界であって、この磁界のうちの、前記基材を通過している少なくとも一部が、電子を偏向させ得る程度に十分に強力なものとされているような、磁界と;
前記第2表面と前記第3表面との間に接続された前記電源によって生成された電界であって、前記磁界の電子閉込領域内へと進入することによって、形成された電子ホール電流を無端ループ内へと閉じ込め得るような、電界と;
を具備し、
前記基材の表面が、ミラー磁界構成に対して静電的電子閉込を追加し得るよう、負にバイアスされていることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項14記載のプラズマ源装置において、
前記磁界のうちの、前記基材を通過している前記少なくとも一部が、前記ギャップ内の磁力線に沿った最弱ポイントと比較して、前記基材の表面において、少なくとも2倍の磁界強度とされていることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項14記載のプラズマ源装置において、
前記磁界のうちの、前記基材を通過している前記少なくとも一部が、磁力線に沿った最強ポイントにおいては、100ガウスより大きいことを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項14記載のプラズマ源装置において、
前記基材と前記磁界との一方が、他方に対して移動していることを特徴とするプラズマ源装置。 - プラズマ源装置であって、
互いの間にギャップを有している少なくとも2つの表面であるとともに、これら表面の一方が、基材とされ、少なくとも他方が、カソード電極として接続されているような、少なくとも2つの表面と;
前記表面どうしの間において前記ギャップを通過して延在するミラー磁界であって、この磁界のうちの、前記基材の表面に進入している少なくとも一部が、前記カソード電極に対して進入している磁力線と比較して、少なくとも2倍は強力な磁力線を含有しているような、ミラー磁界と;
前記ミラー磁界の内部の閉ループ電子ホール電流閉込領域を形成するようにして前記ミラー磁界と関連づけて配置された少なくとも1つのアノード構造であって、前記電極とアノード構造との間に十分なガス圧力と電圧とが供給されたときには、前記閉込領域内にプラズマを形成するような、少なくとも1つのアノード構造と;
を具備し、
前記基材が、前記プラズマによって処理され得るよう前記ミラー磁界の圧縮端のところに配置され、
前記基材と前記プラズマとの一方が、他方に対して移動していることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項18記載のプラズマ源装置において、
前記基材が、コンベヤロールによって支持されたフレキシブルウェブを備えていることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項18記載のプラズマ源装置において、
前記基材が、化学気相蒸着プロセスとスパッタコーティングプロセスとイオンエッチングプロセスとこれらの組合せとからなるグループの中から選択された処理によって、前記プラズマにより処理され得るように配置されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項18記載のプラズマ源装置において、
表面を有した前記基材が、浮遊電位とされていることを特徴とするプラズマ源装置。 - 請求項18記載のプラズマ源装置において、
表面を有した前記基材が、アノードとされていることを特徴とするプラズマ源装置。
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