JP4263761B1 - 減圧式加熱装置とその加熱方法および電子製品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 大気圧の還元ガスの雰囲気中で,接触式温度測定部の測定値により非接触式温度測定部における放射率の設定の調整と対象物の温度制御とをしつつ,予熱温度まで対象物を加熱する(時刻t0〜時刻t1)。減圧する(時刻t1〜時刻t2)。減圧下で,予熱温度までの加熱過程にて放射率の設定が調整された非接触式温度測定部の測定値により対象物の温度制御をしつつ,加熱処理温度まで対象物をさらに加熱する(時刻t2〜時刻t5)。対象物の加熱処理温度を維持しつつ,雰囲気の圧力を大気圧まで戻す(時刻t5〜時刻t6)。大気圧下で,対象物の温度を下げる(時刻t6〜時刻t7)。
【選択図】図7
Description
この後,第1段階の加熱を行う。加熱器130により基板10を加熱し始めた時刻をt0とする。
時刻t0の後,大気圧下で加熱器130により基板10を加熱する。半田30と電子部品20とは基板10を介して加熱される。雰囲気が還元ガスに置換されているため,この期間の加熱により,基板10および半田30および電子部品20の酸化した表面で還元反応が生じる。この清浄化により,半田30に対する基板10の表面の濡れ性が向上する。
基板10が予熱目標温度に達した時刻をt1とする。このとき,半田30は固相線温度に達していないので,まだ溶融していない。また,基板10および半田30および電子部品20の清浄化が進んだ状態となっている。
時刻t1の後,排気口150から減圧式加熱装置100内のガスを外部に排出させる。このため,減圧式加熱装置100の内部の圧力は下がる。なお,基板10の温度は時刻t1における基板10の温度とほぼ同じである。
減圧式加熱装置100の内部の減圧ができたところで,排気口150からのガスの排出を止める。この時刻をt2とする。
時刻t2の後,第2段階の加熱を始める。この際,減圧式加熱装置100の内部を減圧した状態のまま,加熱を行う。
基板10の温度が半田30の固相線温度に達した時刻をt3とする。ここで,半田30と電子部品20とは基板10とほぼ同じ温度に達しているはずである。このため,半田30は溶融し始める。
基板10の温度が半田30の液相線温度に達した時刻をt4とする。ここで,半田30と電子部品20とは基板10とほぼ同じ温度に達しているはずである。このため,半田30はほぼ全て溶融した状態になっている。
基板10が到達目標温度に達した時刻をt5とする。時刻t5で,加熱器130による加熱を停止する。このとき,半田30は完全に溶融し濡れ広がっている。ここで,仮に半田30の内部にボイドが発生していても,ボイドの内圧は減圧式加熱装置100の内部の圧力とほぼ同じである。
時刻t5の後,基板10の温度を一定に保ちつつ,導入口140から減圧式加熱装置100に不活性ガス又はそれに還元ガスを混入したものを少しずつ流入させる。このため,炉内の圧力は徐々に上昇する。ここで,半田30は溶融したままの状態である。仮に半田30の内部にボイドが発生していた場合,減圧式加熱装置100の内部の圧力の上昇に伴い,ボイドは収縮する。
減圧式加熱装置100の内部の圧力がほぼ大気圧となったところで導入口140からのガスの流入を止める。この時刻をt6とする。このとき,半田30は溶融した状態である。時刻t2から時刻t5にかけて半田30の内部にボイドが生じていれば,既に収縮し終えた状態になっている。
時刻t6の後,大気圧を維持したまま基板10の温度を下降させる。これにより,半田30は凝固する。
基板10の温度が常温に達した時刻をt7とする。このときまでには,半田30は凝固している。ここでは基板10が常温となる時刻をt7としたが,半田30の固相線温度より十分下がっていれば,常温でなくともよい。時刻t7よりも後に,基板10を減圧式加熱装置100から取り出す。
20…電子部品
30…半田
100…減圧式加熱装置
110…接触式温度測定部
112…接触式温度測定部温度指示計
120…放射温度計
121…放射温度計コントローラ
130…加熱器
140…導入口
150…排気口
170…ヒータコントローラ
180…制御部
190…チャンバー
200…温度制御システム
340…ガス供給部
350…排気装置
Claims (8)
- 排気口が形成された加熱処理室を有し,前記加熱処理室内に配置された加熱対象物を,大気圧下で予熱温度まで予熱し,減圧下で前記予熱温度より高い温度まで加熱処理する減圧式加熱装置において,
前記加熱処理室内の加熱対象物を加熱する加熱器と,
前記加熱処理室内の加熱対象物の温度を接触して測定する接触式温度測定部と,
前記加熱処理室内の加熱対象物の温度を非接触で測定する非接触式温度測定部と,
前記加熱器の制御および前記非接触式温度測定部の調整を行う制御部を有し,
前記制御部は,
大気圧下での予熱の際に,前記接触式温度測定部の測定値に対して前記非接触式温度測定部の測定値の誤差がなくなるように前記非接触式温度測定部を調整し,
減圧下での加熱処理の際に,その調整された状態での前記非接触式温度測定部の測定値に基づいて前記加熱器を制御することを特徴とする減圧式加熱装置。 - 請求項1に記載の減圧式加熱装置において,
前記非接触式温度測定部は,加熱対象物から放射される赤外線を検出する放射温度計であり,
前記制御部は,大気圧下での予熱の際に,前記放射温度計における放射率の設定を調整することを特徴とする減圧式加熱装置。 - 請求項1に記載の減圧式加熱装置において,
前記非接触式温度測定部は,加熱対象物から放射される赤外線を検出する放射温度計であり,
前記制御部は,大気圧下での予熱の際に,前記放射温度計の出力値の補正係数を調整することを特徴とする減圧式加熱装置。 - 請求項1から請求項3までのいずれか1つに記載の減圧式加熱装置において,
前記加熱処理室にガス導入口が形成されており,
前記ガス導入口を通して前記加熱処理室内に雰囲気ガスを導入するガス供給部を有することを特徴とする減圧式加熱装置。 - 請求項4に記載の減圧式加熱装置において,
大気圧下での予熱を,前記加熱処理室の内部に還元性の雰囲気ガスを導入した状態で行うことを特徴とする減圧式加熱装置。 - 請求項1から請求項5までのいずれか1つに記載の減圧式加熱装置において,
前記排気口に接続され,前記加熱処理室の内部を排気して減圧する排気装置を有することを特徴とする減圧式加熱装置。 - 接触式温度測定部と非接触式温度測定部とにより温度制御しつつ対象物を加熱する加熱方法であって,
大気圧の還元ガスの雰囲気中で,前記接触式温度測定部の測定値により前記非接触式温度測定部における放射率の設定の調整と前記対象物の温度制御とをしつつ,加熱処理温度よりも低い予熱温度まで前記対象物を加熱し,
減圧下で,前記予熱温度までの加熱過程にて放射率の設定が調整された前記非接触式温度測定部の測定値により前記対象物の温度制御をしつつ,加熱処理温度まで前記対象物をさらに加熱することを特徴とする加熱方法。 - 複数の接合部材からなる対象物を,減圧下で加熱して半田接合する電子製品の製造方法であって,
大気圧の還元ガスの雰囲気中で,接触式温度測定部の測定値により非接触式温度測定部における放射率の設定の調整と前記対象物の温度制御とをしつつ,半田が溶融するに至らない予熱温度まで前記対象物を加熱し,
減圧し,
減圧下で,前記予熱温度までの加熱過程にて放射率の設定が調整された前記非接触式温度測定部の測定値により前記対象物の温度制御をしつつ,半田が溶融する加熱処理温度まで前記対象物をさらに加熱し,
前記対象物の加熱処理温度を維持しつつ,雰囲気の圧力を大気圧まで戻し,
大気圧下で,半田を凝固させて前記対象物を半田接合することを特徴とする電子製品の製造方法。
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