JP4244567B2

JP4244567B2 - 電気光学装置及び該電気光学装置を搭載した電子機器、並びに電気光学装置の製造方法

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Publication number: JP4244567B2
Application number: JP2002171893A
Authority: JP
Inventors: 淳一増井
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2002-06-12
Filing date: 2002-06-12
Publication date: 2009-03-25
Anticipated expiration: 2022-06-12
Also published as: JP2004020640A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電気光学装置、その製造方法、電子機器に関する。特に、電気光学層として、液体分散媒に電気泳動粒子を分散させた分散系を用いた電気泳動装置に好適に適用できる技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電気泳動表示装置は少なくとも一方が透明質に構成された一組の対向してなる基板間に液体分散媒に電気泳動粒子を分散させた分散系を封入し、上記電極板の極性に応じて分散系中の電気泳動粒子を透明電極板側に吸着または離反させるように該極性を制御することにより所望の文字、記号、或いは図形等を表示できるように構成されている。
【０００３】
電気泳動表示装置は分散系の表面のコントラストを見ることになるため液晶表示体のような視差による色相変化はなく、どの角度からでも均一な視認性を得られることが利点として挙げられる。
【０００４】
しかしながら電気泳動表示体には原理上の短所もいくつか存在し、そのひとつに電気泳動粒子の凝集、沈降が挙げられる。この短所は例えば画素間に隔壁を設けることで回避できる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
電気泳動表示装置においては十分なセル厚を保つことにより高いコントラストを出すことができる。したがって高いコントラストを持つ電気泳動表示装置に設ける隔壁の構造としてはセル厚に相当する高さと視認性に影響を与えないような狭い幅が求められる。よって隔壁には非常に不安定な構造が要求されその形成は容易ではない。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の電気光学装置は、第１の基板と、前記第１の基板に対向する第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に設けられた電気光学層と、前記第１の基板及び前記第２の基板に接合され、前記電気光学層を複数の領域に分割する隔壁と、を具備し、前記第１の基板と前記隔壁との接合部の面積が、前記第２の基板と前記隔壁との接合部の面積と異なることを特徴とする。或いは、第１の基板と、前記第１の基板に対向する第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に設けられた電気光学層と、前記電気光学層を複数の領域に分割する隔壁と、を具備し、前記隔壁の幅が、前記第１の基板及び前記第２の基板のうちの一方から他方に向かって狭くなっていることを特徴とする。
【０００７】
上記構成によれば、前記第１の基板、または第２の基板のうち、隔壁を形成することになる基板を形成基板としたとき、前記隔壁を形成する際、隔壁の幅を前記形成基板との接合部側が広く、後の工程でもう一方の基板と接触する側に向かって狭くなるような構造を持たせることで、安定に形成できる隔壁を得ることが出来る。さらにこの隔壁の構造を電気泳動表示装置のような表面のコントラストを表示としてみる素子に用いた場合、第１、第２の基板を張り合わせた後、隔壁の幅が狭く接合部の面積が小さい側の基板を表示面側とすると隔壁の幅が表示に影響を与えないような表示装置を得ることが出来る。
【０００８】
上記発明において、前記第１、第２の基板は支持基体と電極から構成することが出来る。支持基体としてはガラスやプラスチック、例えばポリカーボネート、アクリル、ポリイミド、ポリエステル等の樹脂が考えられる。電極としてはインジウム、スズ、カドミウム、アンチモン等の酸化物、ＩＴＯ等の複合酸化物、金、銀、銅、ニッケル等の金属、ポリピロールやポリチオフェン等の有機伝導性材料等を使用することが出来る。これらは蒸着法、スパッタリング法、塗布法等で形成でき、その膜厚は通常１０〜２００ｎｍ程度である。電極はエッチング等、従来公知の手段により所望のパターン、例えばマトリクス状に形成することが出来る。また、前記第１基板、第２基板の少なくとも一方は光を透過する必要があるため、上記各材料のうち透明質のものを使用することが好ましい。
【０００９】
前記隔壁は、例えばポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリアクリル酸エステル等の樹脂等が挙げられる。隔壁は例えば基板上にドライフィルムレジストをラミネートし、ドライフィルムレジスト上にマスクパターンを重ね、次いで露光し、現像液により現像する方法が挙げられる。ドライフィルムレジストをラミネートする際は所望の厚さになるまでラミネートを繰り返しても良い。また、隔壁は前記電気光学層を構成する材料に対し、溶解性等の点において安定に存在するものが好ましく、上記の材料から電気光学層の構成に応じて適宜選択する。また隔壁を形成すると同時に隔壁と同材料をもって隔壁パターンの周辺部にシール領域を形成することが好ましい。後の工程でシール部領域に接着剤を配して前記第１の基板、第２の基板を張り合わせることになる。
【００１０】
また、本発明において前記第１の基板、及び前記第２の基板のうち少なくとも一方と、前記隔壁と、の間に絶縁膜が設けられてなると好ましい。
【００１１】
前記構成においては、例えば電気泳動表示装置のような正、又は負に帯電した帯電物質（電気泳動表示装置においては電気泳動粒子）を含む表示装置においては電極への前記帯電物質の付着を防止し、それにより表示の悪化を防止することが出来る。
【００１２】
上記発明において絶縁膜としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯのような無機物質、また前記隔壁素材と同様の樹脂等を用いることが出来る。また、ポリイミド等も使用出来る。これらは蒸着法、スパッタリング法、塗布法で等で形成でき、その膜厚は０.５〜２.０μｍ程度である。また、前記第１基板、第２基板の少なくとも一方は光を透過する必要があるため、上記各材料のうち透明質のものを使用することが好ましい。
【００１３】
また、本発明において複数の表示単位を画面内に有してなり、前記複数の表示単位が前記隔壁によって隔てられてなるとこのましい。ここでいう表示単位とは、例えば、ドットマトリクス型の表示装置における各ドット、キャラクタ表示型の表示装置であれば各キャラクタ、或いはＲＧＢ等各々色の異なる複数ドットが形成される場合にはその複数ドットの集まりである各画素、等を示す。隔壁は必ずしも１ドット、１キャラクタ、１画素毎に区切る必要はなく、例えば隔壁によって仕切られた１領域に複数ドットが含まれる構成も可能である。
【００１４】
上記構成によれば、隔壁が各表示要素間にあるため、隔壁による画像の質が低下を防止できる点で有利である。また画素間に隔壁を設けることで画素間の配線が隔壁で覆われる事により、電圧印加時に電界の分布が複雑化することによって起こる表示の質が低下することを防止できる。
【００１５】
また、本発明において隔壁の端部を画素電極の内側に配置し、画素電極の端部が隔壁に覆われるような構成することが望ましい。
【００１６】
上記構成によれば画素電極の端部が隔壁に覆われる事により、電圧印加時に電界の分布が複雑化することによって起こる表示の質が低下することを防止できる。
【００１７】
また、本発明において隔壁を素子基板側に形成し、駆動素子が隔壁に覆われるような構成も可能である。
【００１８】
上記構成によれば、ＴＦＴのように受光によりリーク電流を生じるような駆動素子を外光から保護することが可能である。
【００１９】
また、本発明において前記電気光学層には正又は負に帯電した複数の粒子、及び前記粒子が分散された媒体を含んでなることが好ましい。その場合にあっては、前記第１の基板と前記第２の基板との間隙が、１０μｍ〜１００μｍであることが好ましく、それにより良いコントラスト特性が得られる。更にこの場合において、基板との接触面積の大きい側の隔壁の幅の寸法としては、前記前記第1の基板と前記第２の基板の間隙の０.８倍以上の寸法が好ましい。隔壁の安定性は、前記第1の基板と前記第２の基板の間隙と、隔壁の接触面積に依存するからである。また基板との接触面積の小さい側の隔壁の幅の寸法としては第１の基板、第２の基板の間隙に依らず、５.０〜１０μｍが好ましい。隔壁と基板との接触面積の小さい側を表示面側に配することが好ましく、そして隔壁の幅を表示に影響を与えない寸法にする必要があるためである。
【００２０】
上記構成においては本発明の電気光学装置は電気泳動表示装置の形態をとることになる。前記正又は負に帯電した複数の粒子、及び前記粒子が分散された媒体は電気泳動表示液と呼ばれる。
【００２１】
上記電気泳動分散液は正又は負に帯電した複数の電気泳動粒子、前記電気泳動粒子が分散された分散媒により構成することが出来る。さらに必要に応じて着色剤、または界面活性剤を添加することも出来る。
【００２２】
前記電気泳動粒子としては各種無機および有機誘電体が広く利用できる。無機物質としては例えば酸化チタン、酸化シリコン、酸化アルミニウム等の酸化物を使用することが出来る。有機物質としては各顔料または樹脂、例えばポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル等を用いることが出来る。また、前記分散媒に対して不溶性であることが好ましい。樹脂製電気泳動粒子を用いる場合は必要に応じてカーボンブラックや各種顔料、染料で着色したものを用いることが出来る。電気泳動粒子の形状は球形が好ましい。球形である場合、粒子間の接触や粒子と基板との接触が点接触となり、粒子間および粒子と基板との分子間力に基づく付着力が小さくなるため基板の内側に誘電膜が形成されていても帯電した粒子は電界により円滑に移動できる。電気泳動粒子の粒径としては０.１μｍ〜５.０μｍが好ましい。この範囲であれば光散乱効率が低下せず、電圧印加時において十分な応答速度が得られる。また、２種類以上の電気泳動粒子を用いる際はそれぞれの粒径をほぼ同じにすることが好ましい。これによれば粒径の大きい粒子が小さい粒子に囲まれ、大きい粒子本来の色濃度が低下するという事態が回避される。
【００２３】
前記分散媒としてはドデシルベンゼン、キシレン等の芳香族系炭化水素、ヘキサン、シクロヘキサン等のパラフィン系炭化水素、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素、またはこれらの混合物等が使用できる。また、電気泳動粒子の浮沈防止のためには電気泳動粒子と比重がほぼ等しく、電圧印加時における電気泳動粒子の移動度の面から粘性の低いものが望ましい。
【００２４】
前記着色剤としてはオイルレッド（５Ｂ，ＲＲ，ＯＧ）、オイルブルー（６１３，２Ｎ，ＢＯＳ）オイルグリーン（５０２，ＢＧ）、オイルブラック（ＨＢＢ，８６０，ＢＳ）等の油溶性染料等が使用できる。
【００２５】
前記界面活性剤としては例えば脂肪酸塩、アルキル硫酸塩等のアニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩、四級アンモニウム塩等のカチオン性界面活性剤、アルキルベタイン類、アミンオキサイド類等の両性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシアルキレン類等のノニオン性界面活性剤等が使用できる。界面活性剤の添加量としては電気泳動分散液全重量に対し０.５〜１.０重量％程度である。
【００２６】
また、前記電気泳動分散液は不純物イオンを含まないことが好ましいため、上記電気泳動分散液を構成する各材料は必要に応じて精製して用いることが好ましい。また電圧印加時にイオンを生じないものが好ましい。
【００２７】
上記課題を解決するために本発明の電気光学装置の製造方法は、第１基板と第２基板との間に電気泳動粒子を含む電気光学層を挟持し、平面視において電気光学層を複数の画素に区分けする隔壁を備えた電気光学装置の製造方法であって、第１基板にレジスト膜を形成する工程と、レジスト膜をグレースケールマスクを用いて露光する工程と、露光されたレジスト膜を現像することにより、隔壁を形成する工程と、隔壁によって区切られた画素の各々に、電気泳動粒子を充填する工程と、隔壁の開口側に表示面となる第２基板を貼り合せる工程と、を含み、グレースケールマスクは、断面視における隔壁の形状を、第１基板側における隔壁の幅が第２基板側における幅よりも広いテーパ形状とするための光の透過特性を有することを特徴とする。
また、隔壁の形成工程において、隔壁の第１基板に面した底部に薄膜状の前記レジストが残るように隔壁を現像することが好ましい。
また、第１基板にレジスト膜を形成する工程の前に、第１基板にスイッチング素子、画素電極、走査線、およびデータ線を形成する工程をさらに有し、隔壁は、スイッチング素子、走査線、およびデータ線を覆うように形成されることが好ましい。
また、隔壁は、さらに画素電極の端部も覆って形成されることが好ましい。
また、第２基板には、透明な共通電極と、共通電極を覆う透明な絶縁膜があらかじめ形成されていることが好ましい。
また、電気光学層は、正又は負に帯電した複数の電気泳動粒子と、複数の電気泳動粒子を分散させる液相の分散媒とを含む電気泳動分散液からなることが好ましい。
【００２８】
電気泳動分散液を封入する方法には例えばインクジェット方式を用いることができる。インクジェット方式を用いることで微小量の電気泳動分散液を正確かつ高速に充填することができる。例えば隔壁に隔てられた領域が縦２４０μｍ、横８０μｍ、高さ５０μｍであった場合、その容積は９６０ピコリットルである。インクジェット方式では、６ピコリットルを下回る吐出量を制御することができるので隔壁に隔てられた各領域に電気泳動分散液を容易に充填することができる。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
【００３０】
（第１の実施形態）
図１は本発明の一実施形態に係わる電気泳動表示パネルの構成を示す分解斜視図であり、図２はその部分断面図である。図１、図２に示すように電気泳動表示パネルＡは画素電極３が形成された第１の基板１と一定の高さを持った隔壁４によって一定の間隔を保って、共通電極５が形成された第２の基板２に対向して張り合わされこの間隙に電気泳動分散液６が封入された構造となっている。ここで第２の基板２、共通電極５は透明質の材料で構成してある。観測者は第２の基板２の共通電極５が形成されていない面から表示画像を見ることになる。
【００３１】
第１の基板には画素電極３の他に後述する走査線、データ線、及びスイッチング素子として機能する薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）が形成されている。
【００３２】
隔壁４は、第１の基板１に形成され、その隔壁幅は対向する第２の基板２に向かって狭くなるように構成されている。また隔壁４は第１の基板１上に形成された画素電極３の端部、走査線７、データ線８を覆うように形成されている。
【００３３】
電気泳動分散液６は、分散媒９に電気泳動粒子１０を分散させたものである。電気泳動分散液６には必要に応じて界面活性剤が添加されている。
【００３４】
図３は本発明に依らない隔壁構造を持った電気泳動表示パネルの一例を示す部分断面図である。表示面である第２の基板２の共通電極３が形成されてない側からは図２中の隔壁４、図３中の隔壁４ａは同一の視認性を与える。しかしながら図２中の隔壁４の第１の基板１側は広い幅を持って形成されているため、接触面積が広く、図３中の隔壁４ａよりも安定な構造を有する。電気泳動表示パネルは分散液９の表面のコントラストを見るため、第１の基板１側の隔壁の幅はパネル表面の視認性には影響を与えることはない。
【００３５】
次に第１実施形態に係わる電気泳動パネルの製造方法についてその概要を説明する。図４は電気泳動表示パネルの製造方法を説明するための工程図である。
【００３６】
まず図４（Ａ）に示す第１工程では第１の基板１上にＴＦＴ１１、画素電極３、複数の走査線７、及び複数のデータ線８を形成すると共に走査線駆動回路１６、及びデータ線駆動回路１７を同時に形成する。この第１工程には液晶表示装置におけるＴＦＴ製造プロセスを用いることができる。
【００３７】
次に図４（Ｂ）に示す第２工程では、ネガ型ドライフィルムレジスト１９をラミネートにより５０μｍの膜厚で成膜、次いで露光、現像液により現像し、第１の基板１上に隔壁４を形成する。
【００３８】
次に図４（Ｃ）に示す第３工程ではインクジェット方式の分散液充填装置を用いて隔壁４によって隔てられた各領域１２に電気泳動分散液６を充填する。
【００３９】
次に図４（Ｄ）に示す第４工程では共通電極５が形成された第２の基板２を共通電極５と画素電極３が向かい合うようにして張り合わせる。
【００４０】
以上の工程によって電気泳動表示パネルＡを製造することができる。
【００４１】
次に本実施形態における第２工程について詳細に説明する。図５は本実施形態における第２工程を詳細に説明するための説明図である。
【００４２】
まず、図５（Ａ）において、ドライフィルムレジストをラミネートにより５０μｍで成膜する。
【００４３】
次に同図（Ｂ）においてグレースケールを有するマスクパターン１３を用いて露光する。前記マスクパターンは石英１３ａ上に形成されたクロムの完全遮光部１３ｂと最大４０％まで紫外線を透過するように設計できるタンタルの半透過部１３ｃにより構成される。半透過部１３ｃを通した露光により、テーパー構造を持ったパターンが可能となる。
【００４４】
次に同図（Ｃ）においてアルカリ性現像液を用いて現像する。基板と接触している、隔壁の幅の広い側の寸法幅は５０μｍ、隔壁の幅の狭い側の寸法幅は１０μｍとなる安定な隔壁が得る。
【００４５】
（第２の実施形態）
次に第２の実施形態に係わる電気泳動表示装置について図面を参照しつつ説明する。
【００４６】
図６は第２の実施形態に係わる電気泳動表示パネルの断面図である。図５に示すように電気泳動表示パネルＢは構造中に電極上に絶縁膜１４を有する点において第１の実施形態と異なる。
【００４７】
次に電気泳動表示パネルＢの製造方法としては、第１の実施形態における第１工程の後に第１の基板１上に絶縁膜１４を形成する工程を付加することとなる。また、第４工程以前に第２の基板上に形成された共通電極５上に絶縁膜１４を形成する工程を付加することになる。
【００４８】
（第３の実施形態）
次に第３の実施形態に係わる電気泳動表示装置について図面を参照しつつ説明する。
【００４９】
図７は第３の実施例に係わる電気泳動表示パネルの断面図である。図７に示すように電気泳動表示パネルＣは隔壁１５と第１の基板１との接触面が表示領域全面に渡っている点において前出の実施形態とは異なっている。
【００５０】
次に電気泳動表示パネルＣの製造方法についてその概要を説明する。図７は電気泳動表示パネルＣの製造方法を説明するための工程図である。
【００５１】
まず図７（Ａ）に示す第１工程では第１の基板１上にＴＦＴ１１、画素電極３、複数の走査線７、及び複数のデータ線８を形成すると共に走査線駆動回路１６、及びデータ線駆動回路１７を同時に形成する。
【００５２】
次に図７（Ｂ）に示す第２工程では、ネガ型ドライフィルムレジストをラミネートにより５０μｍの膜厚に成膜、次いでグレースケール含むマスクパターンを用いて露光、現像液により現像し、第１の基板上に隔壁１５を形成する。現像する際、現像時間を短縮し、表示領域内の隔壁パターン部以外にも０.５〜２μｍの膜厚でレジストが残るように調節する。
【００５３】
次に図７（Ｃ）に示す第３工程ではインクジェット方式の分散液充填装置を用いて隔壁１５によって隔てられた各領域１８に電気泳動分散液６を充填する。
【００５４】
次に図７（Ｄ）に示す第４工程では共通電極５が形成された第２の基板２上に絶縁膜１４を形成する。
【００５５】
次に図７（Ｅ）に示す第５工程では共通電極５と絶縁膜１４を形成した画素電極３が向かい合うようにして張り合わせる。
【００５６】
以上の工程によって電気泳動表示パネルＣを製造することができる。
【００５７】
次に本実施形態における第２工程について詳細に説明する。図７は本実施形態における第２工程を詳細に説明するための説明図である。
【００５８】
まず、図８（Ａ）において、ドライフィルムレジスト１９をラミネートにより５０μｍで成膜する。
【００５９】
次に同図（Ｂ）においてグレースケールを有するマクパターン１３を用いて露光する。前記マスクパターンは石英１３ａ上にクロムで形成された完全遮光部１３ｂと最大４０％まで紫外線を透過するように設計できるタンタルで形成された半透過部１３ｃにより構成される。半透過部１３ｃを通した露光により、テーパー構造を持ったパターンが可能となる。
【００６０】
次に同図（Ｃ）においてアルカリ性現像液を用いて現像する。その際、現像時間を短縮し、表示領域内の隔壁パターン部以外にも０.５〜２μｍの膜厚でレジストを残す。
【００６１】
（第４の実施形態）
本発明の製造方法によって製造された電気光学装置を備えた電子機器の例について以下に説明するが、本発明の応用は例示のものに限定されるものではない。
【００６２】
〈モバイル型コンピュータ〉
まず、上述した実施形態に係る電気光学装置を含む表示装置をモバイル型のパーソナルコンピュータ（情報処理装置）に適用した例について説明する。図１０は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、上述した表示装置１１０６を備えた表示装置ユニットとから構成されている。また、パーソナルコンピュータ内部には図示されていない上述した半導体集積回路が多数含まれている。
【００６３】
〈携帯電話〉
次に、上述した実施形態に係る電気光学装置を、携帯電話の表示部に適用した例について説明する。図１１は、この携帯電話の構成を示す斜視図である。同図において、携帯電話１２００は、複数の操作ボタン１２０２の他、受話口１０２４、送話口１２０６と共に上述した表示装置１２０８および図示されていない上述の半導体集積回路を備えるものである。
【００６４】
〈ディジタルスチルカメラ〉
上述した実施形態に係る電気光学装置をファインダに用いたディジタルスチルカメラについて説明する。図１２は、このディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図であるが、外部機器との接続についても簡易に示すものである。
【００６５】
通常のカメラは、被写体の光像によってフィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ(Charge Coupled Device)等の撮像素子により光電変換して撮像信号を生成する。ディジタルスチルカメラ１３００のケース１３０２の背面には、上述した表示装置１３０４が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成となっている。このため、表示装置１３０４は、被写体を表示するファインダとして機能する。また、ケース１３０２の観察側（図においては裏面側）には、光学レンズやＣＣＤ等を含んだ受光ユニットが設けられている。
【００６６】
撮影者が表示装置１３０４に表示された被写体を像を確認して、シャッタボタン１３０８を押すと、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３１０のメモリに転送・格納される。また、このディジタルスチルカメラ１３００は、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とを備えている。そして、同図に示されるように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、また、データ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４３０が、それぞれ必要に応じて接続され、更に、所定の操作によって、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１３３０や、コンピュータ１３４０に出力される構成となっている。
【００６７】
このようにディジタルスチルカメラ内では複雑な信号処理がなされており、その信号処理や画像記憶のために上述の半導体集積回路が複数個含まれている。
【００６８】
〈電子ブック〉
図１３は、本発明の電子機器の一例としての電子ブックの構成を示す斜視図である。同図において、符号１４００は、電子ブックを示している。電子ブック１４００は、ブック型のフレーム１４０２と、このフレーム１４０２に開閉可能なカバー１４０３とを有する。フレーム１４０２には、その表面に表示面を露出させた状態で表示装置１４０４が設けられ、更に、操作部１４０５が設けられている。フレーム１４０２の内部には、コントローラ、カウンタ、メモリなど、上述の半導体集積回路が複数個内蔵されている。表示装置１４０４は、本実施形態では、電子インクを薄膜素子に充填して形成した画素部と、この画素部と一体に備えられ且つ集積化された周辺回路とを備える。周辺回路には、デコーダ方式のスキャンドライバ及びデータドライバを備える。
【００６９】
なお、電子機器や情報処理装置としては、図１０に示すパーソナルコンピュータ、図１２に示すディジタルスチルカメラ、図１３に示す電子ブックの他にも、電子ペーパ、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器などが挙げられる。そして、これ等の各種電子機器の表示部には、上述した表示装置が適用可能である。
【００７０】
【発明の効果】
本発明により、隔壁に安定な構造を与えることができる。この隔壁の構造を電気泳動表示装置の様に表面のコントラストを表示としてみる表示装置に用いた場合、表示に影響を与えないような効果も得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係わる電気泳動表示パネルの構成を示す分解斜視図。
【図２】同パネルの部分断面図。
【図３】本発明に依らない隔壁構造を有する電気泳動表示パネルの一例を示す部分断面図。
【図４】本発明の第１の実施形態に係わる電気泳動表示パネルの製造方法を示すための説明図。
【図５】同製造法の第２工程を詳細に説明するための説明図。
【図６】本発明の第２の実施形態に係わる電気泳動表示パネルの構成を示す断面図。
【図７】本発明の第３の実施形態に係わる電気泳動表示パネルの構成を示す断面図。
【図８】同パネルの製造方法を示すための説明図。
【図９】同製造法の第２工程を詳細に説明するための説明図。
【図１０】本発明に係わる電気光学装置を携帯型パーソナルコンピュータに用いた例を説明する説明図である。
【図１１】本発明に係る電気光学装置を携帯電話機に用いた例を説明する説明図である。
【図１２】本発明の係る電気光学装置をデジタルカメラに用いた例を説明する説明図である。
【図１３】本発明に係る電気光学装置を電子ブックに用いた例を説明する説明図である。
【符号の説明】
１：第１の基板
２：第２の基板
３：画素電極
４、４ａ：隔壁
５：共通電極
６：電気泳動分散液
７：走査線
８：データ線
９：分散媒
１０：電気泳動粒子
１１：ＴＦＴ
１２：隔壁によって隔てられた領域
１３：マスクパターン
１３ａ：石英
１３ｂ：完全遮光部
１３ｃ：半透過部
１４：絶縁膜
１５：隔壁
１６：走査線駆動回路
１７：データ線駆動回路
１８：隔壁によって隔てられた領域
１９：ドライフィルムレジスト
２０：インクジェットヘッド

Claims

第１基板と第２基板との間に電気泳動粒子を含む電気光学層を挟持し、平面視において前記電気光学層を複数の画素に区分けする隔壁を備えた電気光学装置の製造方法であって、
前記第１基板にレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜をグレースケールマスクを用いて露光する工程と、
前記露光された前記レジスト膜を現像することにより、前記隔壁を形成する工程と、
前記隔壁によって区切られた前記画素の各々に、前記電気泳動粒子を充填する工程と、
前記隔壁の開口側に表示面となる前記第２基板を貼り合せる工程と、を含み、
前記グレースケールマスクは、断面視における前記隔壁の形状を、前記第１基板側における前記隔壁の幅が前記第２基板側における幅よりも広いテーパ形状とするための光の透過特性を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
前記隔壁の形成工程において、
前記隔壁の前記第１基板に面した底部に薄膜状の前記レジストが残るように前記隔壁を現像することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
前記第１基板にレジスト膜を形成する工程の前に、
前記第１基板にスイッチング素子、画素電極、走査線、およびデータ線を形成する工程をさらに有し、
前記隔壁は、前記スイッチング素子、前記走査線、および前記データ線を覆うように形成されることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法。
前記隔壁は、さらに前記画素電極の端部も覆って形成されることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置の製造方法。
前記第２基板には、透明な共通電極と、前記共通電極を覆う透明な絶縁膜があらかじめ形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
前記電気光学層は、正又は負に帯電した複数の前記電気泳動粒子と、
複数の前記電気泳動粒子を分散させる液相の分散媒とを含む電気泳動分散液からなることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。