JP4240786B2

JP4240786B2 - 感放射線性樹脂組成物

Info

Publication number: JP4240786B2
Application number: JP2000277966A
Authority: JP
Inventors: 克次銅木; 清村田; 寛之石井; 徹梶田; 努下川
Original assignee: JSR Corp
Current assignee: JSR Corp
Priority date: 1999-09-17
Filing date: 2000-09-13
Publication date: 2009-03-18
Anticipated expiration: 2020-09-13
Also published as: JP2001209181A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感放射線性樹脂組成物に関わり、さらに詳しくは、ＫｒＦエキシマレーザーあるいはＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線等の荷電粒子線の如き各種の放射線を使用する微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用することができる感放射線性樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
集積回路素子の製造に代表される微細加工の分野においては、より高い集積度を得るために、最近では０．２０μｍ以下のレベルでの微細加工が可能なリソグラフィー技術が必要とされている。
しかし、従来のリソグラフィープロセスでは、一般に放射線としてｉ線等の近紫外線が用いられているが、この近紫外線では、サブクオーターミクロン以下のレベルでの微細加工が極めて困難であると言われている。
そこで、０．２０μｍ以下のレベルにおける微細加工を可能とするために、より波長の短い放射線の利用が検討されている。このような短波長の放射線としては、例えば、水銀灯の輝線スペクトルやエキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、電子線等を挙げることができるが、これらのうち、特にＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）あるいはＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）が注目されている。
前記短波長の放射線に適した感放射線性樹脂組成物として、酸解離性官能基を有する成分と放射線の照射（以下、「露光」という。）により酸を発生する感放射線性酸発生剤との間の化学増幅効果を利用した組成物（以下、「化学増幅型感放射線性組成物」という。）が数多く提案されている。
化学増幅型感放射線性組成物としては、例えば、特公平２−２７６６０号公報には、カルボン酸のｔ−ブチルエステル基またはフェノールのｔ−ブチルカーボナート基を有する重合体と感放射線性酸発生剤とを含有する組成物が提案されている。この組成物は、露光により発生した酸の作用により、重合体中に存在するｔ−ブチルエステル基あるいはｔ−ブチルカーボナート基が解離して、該重合体がカルボキシル基やフェノール性水酸基からなる酸性基を形成し、その結果、レジスト被膜の露光領域がアルカリ現像液に易溶性となる現象を利用したものである。
【０００３】
ところで、従来の化学増幅型感放射線性組成物の多くは、フェノール系樹脂をベースにするものであるが、このような樹脂の場合、放射線として遠紫外線を使用すると、樹脂中の芳香族環に起因して遠紫外線が吸収されるため、露光された遠紫外線がレジスト被膜の下層部まで十分に到達できないという欠点があり、そのため露光量がレジスト被膜の上層部では多く、下層部では少なくなり、現像後のレジストパターンの上部が細く下部にいくほど太い台形状になってしまい、十分な解像度が得られないなどの問題があった。また現像後のレジストパターンが台形状となった場合、次の工程、即ちエッチングやイオンの打ち込みなどを行う際に、所望の寸法精度が達成できず、問題となっていた。しかもレジストパターン上部の形状が矩形でないと、ドライエッチングによるレジストの消失速度が速くなってしまい、エッチング条件の制御が困難になる問題もあった。
一方、レジストパターンの形状は、レジスト被膜の放射線透過率を高めることにより改善することができる。例えば、ポリメチルメタクリレートに代表される（メタ）アクリレート系樹脂は、遠紫外線に対しても透明性が高く、放射線透過率の観点から非常に好ましい樹脂であり、例えば特開平４−２２６４６１号公報に、メタクリレート系樹脂を使用した化学増幅型感放射線性組成物が提案されている。しかしながら、この組成物は、微細加工性能の点では優れているものの、芳香族環をもたないため、ドライエッチング耐性が低いという欠点があり、この場合も高精度のエッチング加工を行うことが困難であり、放射線に対する透明性とドライエッチング耐性とを兼ね備えたものとは言えない。
【０００４】
また、化学増幅型感放射線性組成物からなるレジストについて、放射線に対する透明性を損なわないで、ドライエッチング耐性を改善する方策の一つとして、組成物中の樹脂成分に、芳香族環に代えて脂環族環を導入する方法が知られており、例えば特開平７−２３４５１１号公報には、脂環族環を有する（メタ）アクリレート系樹脂を使用した化学増幅型感放射線性組成物が提案されている。
しかしながら、この組成物では、樹脂成分が有する酸解離性官能基として、従来の酸により比較的解離し易い基（例えば、テトラヒドロピラニル基等のアセタール系官能基）や酸により比較的解離し難い基（例えば、ｔ−ブチルエステル基、ｔ−ブチルカーボネート基等のｔ−ブチル系官能基）が用いられており、前者の酸解離性官能基を有する樹脂成分の場合、レジストの基本物性、特に感度やパターン形状は良好であるが、組成物としての保存安定性に難点があり、また後者の酸解離性官能基を有する樹脂成分では、逆に保存安定性は良好であるが、レジストの基本物性、特に感度やパターン形状が損なわれるという欠点がある。さらに、樹脂成分が脂環族環を有するため、樹脂自体の疎水性が非常に高くなり、基板に対する接着性の面でも問題があった。
そこで、遠紫外線に代表される放射線に対する透明性が高く、しかもドライエッチング耐性、感度、解像度、パターン形状等に優れるのみならず、組成物としての保存安定性にも優れており、かつ基板に対する十分な接着性を保持した化学増幅型感放射線性組成物の開発が求められている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、活性放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザーあるいはＡｒＦエキシマレーザーに代表される遠紫外線、に感応する化学増幅型レジストとして、特にエッチングガス種に依存しない優れたドライエッチング耐性を有し、しかも放射線に対する透明性が高く、かつ感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、組成物としての保存安定性にも優れ、また基板に対する十分な接着性を保持した感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明によると、前記課題は、
（Ａ）下記一般式（１）に示す繰返し単位（Ｉ）、繰返し単位（II）および繰返し単位（III)を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有樹脂であって、該酸解離性基が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂、並びに（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物
【０００７】
【化３】

【０００８】
〔一般式（１）において、ＡおよびＢは相互に独立に水素原子または炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を示し、ＸおよびＹは相互に独立に水素原子、ヒドロキシル基；カルボキシル基；炭素数１〜８の直鎖状、分岐状もしくは環状のヒドロキシアルキル基；炭素数２〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシアルキル基；炭素数２〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状の１−アルコキシアルコキシル基；炭素数２〜９の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニルオキシ基；炭素数３〜１１の直鎖状、分岐状もしくは環状の（１−アルコキシアルコキシ）アルキル基；炭素数３〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニルオキシアルキル基；テトラヒドロフラニルオキシ基；テトラヒドロピラニルオキシ基；テトラヒドロフラニルオキシメチル基およびテトラヒドロピラニルオキシメチル基の群から選ばれる１価の酸素原子含有極性基または１価の窒素原子含有極性基を示し、かつＸとＹの少なくとも１つが該酸素原子含有極性基または該窒素原子含有極性基であるか、あるいはＸとＹが一緒になってジカルボン酸無水物基を形成しており、ｎは１または２であり、Ｒ¹は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ²は下記一般式（２）
【０００９】
【化４】

【００１０】
（式中、各Ｒ³は相互に独立に炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体または炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を示し、かつＲ³の少なくとも１つが該脂環式炭化水素基もしくはその誘導体であるか、あるいは何れか２つのＲ³が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子とともに炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成し、残りのＲ³が炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示す。）で表される基を示す。〕
によって達成される。
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
（Ａ）成分
本発明における（Ａ）成分は、前記一般式（１）に示す繰返し単位（Ｉ）、繰返し単位（II) および繰返し単位（III)を必須の構成単位とするアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有樹脂であって、該酸解離性基が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂（以下、「樹脂（Ａ）」という。）からなる。
本発明においては、樹脂（Ａ）を含有することにより、レジストとして、特にドライエッチング耐性および放射線に対する透明性に優れた感放射線性樹脂組成物を得ることができる。
繰返し単位（Ｉ）を与える単量体としては、例えば、下記一般式（３）で表されるノルボルネン誘導体（以下、「ノルボルネン誘導体（Ｉ）」という。）を挙げることができる。
【００１２】
【化５】

〔一般式（３）において、Ａ、Ｂ、Ｘ、Ｙおよびｎは一般式（１）のそれぞれＡ、Ｂ、Ｘ、Ｙおよびｎと同義である。〕
【００１３】
ノルボルネン誘導体（Ｉ）におけるＡおよびＢの炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
また、ノルボルネン誘導体（Ｉ）におけるＸおよびＹの酸素原子含有極性基のうち、炭素数１〜８の直鎖状、分岐状もしくは環状のヒドロキシアルキル基としては、例えば、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシシクロペンチル基、４−ヒドロキシシクロヘキシル基を挙げることができ、炭素数２〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシアルキル基としては、例えば、メキシメチル基、エトキシメチル基、ｎ−プロポキシメチル基、ｉ−プロポキシメチル基、ｎ−ブトキシメチル基、ｔ−ブトキシメチル基、シクロペンチルオキシメチル基、シクロヘキシルオキシメチル基等を挙げることができ、
【００１４】
炭素数２〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状の１−アルコキシアルコキシル基としては、例えば、１−メトキシエトキシ基、１−エトキシエトキシ基、１−ｎ−プロポキシエトキシ基、１−ｎ−ブトキシエトキシ基、１−シクロペンチルオキシエトキシ基、１−シクロヘキシルオキシエトキシ基、１−メトキシプロポキシ基、１−エトキシプロポキシ基等を挙げることができ、炭素数２〜９の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニルオキシ基としては、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｉ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基等を挙げることができ、炭素数３〜１１の直鎖状、分岐状もしくは環状の（１−アルコキシアルコキシ）アルキル基としては、例えば、（１−メトキシエトキシ）メチル基、（１−エトキシエトキシ）メチル基、（１−ｎ−プロポキシエトキシ）メチル基、（１−ｎ−ブトキシエトキシ）メチル基、（１−シクロペンチルオキシエトキシ）メチル基、（１−シクロヘキシルオキシエトキシ）メチル基、（１−メトキシプロポキシ）メチル基、（１−エトキシプロポキシ）メチル基等を挙げることができ、炭素数３〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニルオキシアルキル基としては、例えば、メトキシカルボニルオキシメチル基、エトキシカルボニルオキシメチル基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシメチル基、ｉ−プロポキシカルボニルオキシメチル基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシメチル基等を挙げることができる。
【００１５】
また、ノルボルネン誘導体（Ｉ）におけるＸおよびＹの窒素原子含有極性基としては、例えば、シアノ基；シアノメチル基、１−シアノエチル基、２−シアノエチル基、１−シアノプロピル基、２−シアノプロピル基、３−シアノプロピル基、１−シアノブチル基、２−シアノブチル基、３−シアノブチル基、４−シアノブチル基等の炭素数２〜９のシアノアルキル基を挙げることができる。
【００１６】
ノルボルネン誘導体（Ｉ）としては、例えば、
【００２６】
８−ヒドロキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ヒドロキシメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２−ヒドロキシエチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−メトキシエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−エトキシエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−ｎ−プロポキシエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−ｎ−ブトキシエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−シクロヘキシルオキシエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メトキシカルボニルオキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−エトキシカルボニルオキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−プロポキシカルボニルオキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルオキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００２７】
８−（１−メトキシエトキシ）メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−エトキシエトキシ）メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−ｎ−プロポキシエトキシ）メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−ｎ−ブトキシエトキシ）メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−シクロヘキシルオキシエトキシ）メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メトキシカルボニルオキシメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−エトキシカルボニルオキシメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−プロポキシカルボニルオキシメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルオキシメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−テトラヒドロフラニルオキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−テトラヒドロピラニルオキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−テトラヒドロフラニルオキシメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−テトラヒドロピラニルオキシメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００２８】
８，９−ジヒドロキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジカルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（ヒドロキシメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（２−ヒドロキシエチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（１−メトキシエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（１−エトキシエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（１−ｎ−プロポキシエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（１−ｎ−ブトキシエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（１−シクロヘキシルオキシエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジメトキシカルボニルオキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジエトキシカルボニルオキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ−ｎ−プロポキシカルボニルオキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ−ｎ−ブトキシカルボニルオキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００２９】
８，９−ジ〔（１−メトキシエトキシ）メチル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ〔（１−エトキシエトキシ）メチル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ〔（１−ｎ−プロポキシエトキシ）メチル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ〔（１−ｎ−ブトキシエトキシ）メチル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ〔（１−シクロヘキシルオキシエトキシ）メチル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（メトキシカルボニルオキシメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（エトキシカルボニルオキシメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（ｎ−プロポキシカルボニルオキシメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（ｎ−ブトキシカルボニルオキシメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（テトラヒドロフラニルオキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（テトラヒドロピラニルオキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（テトラヒドロフラニルオキシメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（テトラヒドロピラニルオキシメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００３０】
８−ヒドロキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ヒドロキシ−８−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−カルボキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−カルボキシ−８−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ヒドロキシメチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ヒドロキシメチル−８−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２−ヒドロキシエチル）−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２−ヒドロキシエチル）−８−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００３１】
８−（１−メトキシエトキシ）−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−エトキシエトキシ）−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−ｎ−プロポキシエトキシ）−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−ｎ−ブトキシエトキシ）−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−シクロヘキシルオキシエトキシ）−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メトキシカルボニルオキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−エトキシカルボニルオキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−プロポキシカルボニルオキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルオキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００３２】
８−（１−メトキシエトキシ）メチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−エトキシエトキシ）メチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−ｎ−プロポキシエトキシ）メチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−ｎ−ブトキシエトキシ）メチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−シクロヘキシルオキシエトキシ）メチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メトキシカルボニルオキシメチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−エトキシカルボニルオキシメチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−プロポキシカルボニルオキシメチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルオキシメチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−テトラヒドロフラニルオキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−テトラヒドロピラニルオキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−テトラヒドロフラニルオキシメチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−テトラヒドロピラニルオキシメチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００３３】
８−ヒドロキシ−９−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ヒドロキシ−９−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−カルボキシル−９−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−カルボキシル−９−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ヒドロキシメチル−９−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ヒドロキシメチル−９−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２−ヒドロキシエチル）−９−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２−ヒドロキシエチル）−９−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００３４】
８−シアノテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シアノメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２−シアノエチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジシアノテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（シアノメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（２−シアノエチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シアノ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シアノ−８−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シアノメチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シアノメチル−８−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２−シアノエチル）−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２−シアノエチル）−８−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００３５】
８−シアノ−９−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シアノ−９−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シアノメチル−９−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シアノメチル−９−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２−シアノエチル）−９−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２−シアノエチル）−９−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジカルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン無水物
【００３７】
等を挙げることができる。
【００３８】
これらのノルボルネン誘導体（Ｉ）のうち、好ましい化合物としては、
【００４１】
８−ヒドロキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ヒドロキシメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−エトキシエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルオキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−エトキシエトキシ）メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルオキシメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジヒドロキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（ヒドロキシメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（１−エトキシエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ−ｎ−ブトキシカルボニルオキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ〔（１−エトキシエトキシ）メチル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（ｎ−ブトキシカルボニルオキシメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００４２】
８−ヒドロキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ヒドロキシメチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−エトキシエトキシ）−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルオキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−エトキシエトキシ）メチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルオキシメチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ヒドロキシ−９−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ヒドロキシメチル−９−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シアノテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シアノメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シアノ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シアノメチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シアノ−９−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シアノメチル−９−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジカルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン無水物
【００４３】
等を挙げることができる。
樹脂（Ａ）において、繰返し単位（Ｉ）は、単独でまたは２種以上が存在することができる。
【００４４】
次に、一般式（１）における繰返し単位（II) は、無水マレイン酸に由来する単位である。無水マレイン酸は、ノルボルネン誘導体（Ｉ）との共重合性が良好であり、ノルボルネン誘導体（Ｉ）と共重合することにより、得られる樹脂（Ａ）の分子量を所望の値にまで大きくすることができる。
【００４５】
次に、一般式（１）における繰返し単位（III)は、（メタ）アクリル酸中のカルボキシル基の水素原子を基Ｒ²で置換した化合物（以下、「（メタ）アクリル酸誘導体(III) 」という。）に由来する繰返し単位であり、後述する酸発生剤（Ｂ）から発生した酸の作用により、基Ｒ²が解離してカルボキシル基を形成し、それにより樹脂（Ａ）をアルカリ可溶性とする作用を示す単位である。
【００４６】
基Ｒ²におけるＲ³の炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基および何れか２つのＲ³が相互に結合して形成した炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、ノルボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン、アダマンタンや、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカン類等に由来する脂環族環からなる基；これらの脂環族環からなる基を、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜８の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基の１種以上あるいは１個以上で置換した基等を挙げることができる。
これらの１価または２価の脂環式炭化水素基のうち、特に、ノルボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカンまたはアダマンタンに由来する脂環族環からなる基や、これらの脂環族環からなる基を前記アルキル基で置換した基等が好ましい。
【００４７】
前記１価または２価の脂環式炭化水素基の誘導体としては、例えば、ヒドロキシル基；カルボキシル基；ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基等の炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のヒドロキシアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−メチルプロポキシ基、１−メチルプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基；シアノ基；シアノメチル基、１−シアノエチル基、２−シアノエチル基、１−シアノプロピル基、２−シアノプロピル基、３−シアノプロピル基、１−シアノブチル基、２−シアノブチル基、３−シアノブチル基、４−シアノブチル基等の炭素数２〜５の直鎖状もしくは分岐状のシアノアルキル基等の置換基を１種以上あるいは１個以上有する基を挙げることができる。
これらの置換基のうち、特に、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ヒドロキシメチル基、シアノ基等が好ましい。
また、基Ｒ²におけるＲ³の炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
これらのアルキル基のうち、特に、メチル基、エチル基等が好ましい。
このような（メタ）アクリル酸誘導体(III) の好ましい例としては、下記式(III−１）〜(III−98）で表される化合物等を挙げることができる。
【００４８】
【化６】

【００４９】
【化７】

【００５０】
【化８】

【００５１】
【化９】

【００５２】
【化１０】

【００５３】
【化１１】

【００５４】
【化１２】

【００５５】
【化１３】

【００５６】
【化１４】

【００５７】
【化１５】

【００５８】
【化１６】

【００５９】
【化１７】

【００６０】
【化１８】

【００６１】
【化１９】

【００６２】
【化２０】

【００６３】
【化２１】

【００６４】
【化２２】

【００６５】
【化２３】

【００６６】
【化２４】

【００６７】
【化２５】

【００６８】
【化２６】

【００６９】
【化２７】

【００７０】
【化２８】

【００７１】
【化２９】

【００７２】
【化３０】

【００７３】
【化３１】

【００７４】
前記式(III−１) 〜(III−98）で表される（メタ）アクリル酸誘導体(III) のうち、特に好ましいものとしては、式(III−1)、式(III−2)、式(III−7)、式(III−8)、式(III−9)、式(III−10) 、式(III−11) 、式(III−12) 、式(III−13) 、式(III−14) 、式(III−17) 、式(III−18) 、式(III−19) 、式(III−20) 、式(III−21) 、式(III−22) 、式(III−23) 、式(III−24) 、式(III−27) 、式(III−28) 、式(III−29) 、式(III−30) 、式(III−31) 、式(III−32) 、式(III−35) 、式(III−36) 、式(III−43) 、式(III−44) 、式(III−47) 、式(III−48) 、式(III−55) 、式(III−56) 、式(III−57) 、式(III−58) 、式(III−59) 、式(III−60) 、式(III−71) 、式(III−72) 、式(III−75) 、式(III−76) 、式(III−79) 、式(III−80) 、式(III−91) 、式(III−92) 、式(III−95) 、式(III−96) 等を挙げることができる。
樹脂（Ａ）において、繰返し単位（III)は、単独でまたは２種以上が存在するすることができる。
【００７５】
さらに、樹脂（Ａ）は、炭素数２０以下の酸解離性有機基（以下、「酸解離性有機基（ｉ）」という。）を有するノルボルネン誘導体（以下、「ノルボルネン誘導体（α）」という。）や、その他の重合性不飽和単量体（以下、「他の単量体（α）」という。）に由来する繰返し単位を１種以上有することもできる。
酸解離性有機基（ｉ）としては、例えば、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、２−メチルプロポキシカルボニル基、１−メチルプロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、ｎ−デシルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘプチルオキシカルボニル基、シクロオクチルオキシカルボニル基等の（シクロ）アルコキシカルボニル基；
フェノキシカルボニル基、４−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基、１−ナフチルオキシカルボニル基等のアリーロキシカルボニル基；
ベンジルオキシカルボニル基、４−ｔ−ブチルベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、４−ｔ−ブチルフェネチルオキシカルボニル基等のアラルキルオキシカルボニル基；
【００７６】
１−メトキシエトキシカルボニル基、１−エトキシエトキシカルボニル基、１−ｎ−プロポキシエトキシカルボニル基、１−ｉ−プロポキシエトキシカルボニル基、１−ｎ−ブトキシエトキシカルボニル基、１−（２−メチルプロポキシ）エトキシカルボニル基、１−（１−メチルプロポキシ）エトキシカルボニル基、１−ｔ−ブトキシエトキシカルボニル基、１−シクロヘキシルオキシエトキシカルボニル基、１−（４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシ）エトキシカルボニル基等の１−（シクロ）アルキルオキシエトキシカルボニル基；
１−フェノキシエトキシカルボニル基、１−（４−ｔ−ブチルフェノキシ）エトキシカルボニル基、１−（１−ナフチルオキシ）エトキシカルボニル基等の１−アリーロキシエトキシカルボニル基；
１−ベンジルオキシエトキシカルボニル基、１−（４−ｔ−ブチルベンジルオキシ）エトキシカルボニル基、１−フェネチルオキシエトキシカルボニル基、１−（４−ｔ−ブチルフェネチルオキシ）エトキシカルボニル基等の１−アラルキルオキシエトキシカルボニル基；
【００７７】
メトキシカルボニルメトキシカルボニル基、エトキシカルボニルメトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニルメトキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニルメトキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニルメトキシカルボニル基、２−メチルプロポキシカルボニルメトキシカルボニル基、１−メチルプロポキシカルボニルメトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニルメトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニルメトキシカルボニル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシカルボニルメトキシカルボニル基等の（シクロ）アルコキシカルボニルメトキシカルボニル基；
メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ｎ−プロポキシカルボニルメチル基、ｉ−プロポキシカルボニルメチル基、ｎ−ブトキシカルボニルメチル基、２−メチルプロポキシカルボニルメチル基、１−メチルプロポキシカルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルメチル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシカルボニルメチル基等の（シクロ）アルコキシカルボニルメチル基；
フェノキシカルボニルメチル基、４−ｔ−ブチルフェノキシカルボニルメチル基、１−ナフチルオキシカルボニルメチル基等のアリーロキシカルボニルメチル基；
ベンジルオキシカルボニルメチル基、４−ｔ−ブチルベンジルオキシカルボニルメチル基、フェネチルオキシカルボニルメチル基、４−ｔ−ブチルフェネチルオキシカルボニルメチル基等のアラルキルオキシカルボニルメチル基；
【００７８】
２−メトキシカルボニルエチル基、２−エトキシカルボニルエチル基、２−ｎ−プロポキシカルボニルエチル基、２−ｉ−プロポキシカルボニルエチル基、２−ｎ−ブトキシカルボニルエチル基、２−（２−メチルプロポキシ）カルボニルエチル基、２−（１−メチルプロポキシ）カルボニルエチル基、２−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基、２−シクロヘキシルオキシカルボニルエチル基、２−（４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシカルボニル）エチル基等の２−（シクロ）アルコキシカルボニルエチル基；
２−フェノキシカルボニルエチル基、２−（４−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）エチル基、２−（１−ナフチルオキシカルボニル）エチル基等の２−アリーロキシカルボニルエチル基；
２−ベンジルオキシカルボニルエチル基、２−（４−ｔ−ブチルベンジルオキシカルボニル）エチル基、２−フェネチルオキシカルボニルエチル基、２−（４−ｔ−ブチルフェネチルオキシカルボニル）エチル基等の２−アラルキルオキシカルボニルエチル基や、
テトラヒドロフラニルオキシカルボニル基、テトラヒドロピラニルオキシカルボニル基
等を挙げることができる。
【００７９】
これらの酸解離性有機基（ｉ）のうち、基−ＣＯＯＲ’〔但し、Ｒ’は炭素数１〜１９の（シクロ）アルキル基を示す。〕または基−ＣＯＯＣＨ₂ＣＯＯＲ''〔但し、Ｒ''は炭素数１〜１７の（シクロ）アルキル基を示す。〕に相当するものが好ましく、特に好ましくは、１−メチルプロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニルメトキシカルボニル基等である。
【００８０】
ノルボルネン誘導体（α）としては、例えば、
５−メトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−エトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−ｎ−プロポキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−ｉ−プロポキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−ｎ−ブトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−（２−メチルプロポキシ）カルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−（１−メチルプロポキシ）カルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−ｔ−ブトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−（４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシ）カルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−フェノキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−（１−エトキシエトキシ）カルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−（１−シクロヘキシルオキシエトキシ）カルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−テトラヒドロフラニルオキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−テトラヒドロピラニルオキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
【００８１】
５−メチル−５−メトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−エトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−ｎ−プロポキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−ｉ−プロポキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−ｎ−ブトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−（２−メチルプロポキシ）カルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−（１−メチルプロポキシ）カルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−ｔ−ブトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−（４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシ）カルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−フェノキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−（１−エトキシエトキシ）カルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−（１−シクロヘキシルオキシエトキシ）カルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−テトラヒドロフラニルオキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−テトラヒドロピラニルオキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
【００８２】
５，６−ジ（メトキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（エトキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（ｎ−プロポキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（ｉ−プロポキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（ｎ−ブトキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（２−メチルプロポキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（１−メチルプロポキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（ｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（フェノキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（１−エトキシエトキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（１−シクロヘキシルオキシエトキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（ｔ−ブトキシカルボニルメトキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（テトラヒドロフラニルオキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（テトラヒドロピラニルオキシカルボニル）ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン
等のビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン誘導体類；
【００８３】
８−メトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−エトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｉ−プロポキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２−メチルプロポキシ）カルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−メチルプロポキシ）カルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−シクロヘキシルオキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシ）カルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−フェノキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−エトキシエトキシ）カルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（１−シクロヘキシルオキシエトキシ）カルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−テトラヒドロフラニルオキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−テトラヒドロピラニルオキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００８４】
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−エトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−ｉ−プロポキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−（２−メチルプロポキシ）カルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−（１−メチルプロポキシ）カルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−シクロヘキシルオキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−（４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシ）カルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−フェノキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−（１−エトキシエトキシ）カルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−（１−シクロヘキシルオキシエトキシ）カルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−テトラヒドロフラニルオキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−テトラヒドロピラニルオキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００８５】
８，９−ジ（メトキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（エトキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（ｎ−プロポキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（ｉ−プロポキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（ｎ−ブトキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（２−メチルプロポキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（１−メチルプロポキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（ｔ−ブトキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（シクロヘキシルオキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（フェノキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（１−エトキシエトキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（１−シクロヘキシルオキシエトキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（ｔ−ブトキシカルボニルメトキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（テトラヒドロフラニルオキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジ（テトラヒドロピラニルオキシカルボニル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン
等のテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン誘導体類等を挙げることができる。
【００８６】
また、他の単量体（α）としては、例えば、
ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−メチルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
５−エチルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン、
テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−フルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−フルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ジフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−トリフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ペンタフルオロエチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００８７】
８，８−ジフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−トリフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９−トリフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９−トリス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９，９−テトラフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９，９−テトラキス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８−ジフルオロ−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジフルオロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００８８】
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメトキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９−トリフルオロ−９−ペンタフルオロ−ｎ−プロポキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−フルオロ−８−ペンタフルオロエチル−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジフルオロ−８−ヘプタフルオロ−ｉ−プロピル−９−トリフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−クロロ−８，９，９−トリフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジクロロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２，２，２−トリフルオロカルボエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−（２，２，２−トリフルオロカルボエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００８９】
ジシクロペンタジエン、トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6] デカ−８−エン、
トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6] デカ−３−エン、トリシクロ[ ４．４．０．１^2,5] ウンデカ−３−エン、トリシクロ[ ６．２．１．０^1,8] ウンデカ−９−エン、トリシクロ[ ６．２．１．０^1,8] ウンデカ−４−エン、テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10．０^1,6] ドデカ−３−エン、８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10．０^1,6] ドデカ−３−エン、８−エチリデンテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,12 ]ドデカ−３−エン、８−エチリデンテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10．０^1,6] ドデカ−３−エン、ペンタシクロ[ ６．５．１．１^3,6．０^2,7．０^9,13 ]ペンタデカ−４−エン、ペンタシクロ[ ７．４．０．１^2,5．１^9,12．０^8,13 ]ペンタデカ−３−エンのほか、
【００９０】
（メタ）アクリル酸ノルボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル、（メタ）アクリル酸テトラシクロデカニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル、（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸シクロプロピル、（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキセニル、（メタ）アクリル酸４−メトキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−シクロプロピルオキシカルボニルエチル、（メタ）アクリル酸２−シクロペンチルオキシカルボニルエチル、（メタ）アクリル酸２−シクロヘキシルオキシカルボニルエチル、（メタ）アクリル酸２−シクロヘキセニルオキシカルボニルエチル、（メタ）アクリル酸２−（４−メトキシシクロヘキシル）オキシカルボニルエチル等の（メタ）アクリル酸エステル類；
α−ヒドロキシメチルアクリル酸メチル、α−ヒドロキシメチルアクリル酸エチル、α−ヒドロキシメチルアクリル酸ｎ−プロピル、α−ヒドロキシメチルアクリル酸ｎ−ブチル等のα−ヒドロキシメチルアクリル酸エステル類；
【００９１】
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類；
（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、クロトンニトリル、マレインニトリル、フマロニトリル、メサコンニトリル、シトラコンニトリル、イタコンニトリル等の不飽和ニトリル化合物；
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、クロトンアミド、マレインアミド、フマルアミド、メサコンアミド、シトラコンアミド、イタコンアミド等の不飽和アミド化合物；
Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、２−ビニルピリジン、３−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルイミダゾール等の他の含窒素ビニル化合物；
（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和カルボン酸類；
（メタ）アクリル酸２−カルボキシエチル、（メタ）アクリル酸２−カルボキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−カルボキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−カルボキシブチル、（メタ）アクリル酸４−カルボキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸カルボキシトリシクロデカニル、（メタ）アクリル酸カルボキシテトラシクロデカニル等の不飽和カルボン酸のカルボキシル基含有エステル類；前記不飽和カルボン酸類あるいは前記不飽和カルボン酸のカルボキシル基含有エステル類のカルボキシル基を、下記する酸解離性有機基（ii) に変換した化合物（以下、「他の酸解離性基含有単量体」という。）
等の単官能性単量体や、
【００９２】
メチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ビス（２−ヒドロキシプロピル）ベンゼンジ（メタ）アクリレート、１，３−ビス（２−ヒドロキシプロピル）ベンゼンジ（メタ）アクリレート、１，２−アダマンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−アダマンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−アダマンタンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカニルジメチロールジ（メタ）アクリレート等の多官能性単量体
等を挙げることができる。
【００９３】
酸解離性有機基（ii) としては、例えば、カルボキシル基中の水素原子を、置換メチル基、１−置換エチル基、１−分岐アルキル基、シリル基、ゲルミル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、環式酸解離性基（但し、（メタ）アクリル酸中のカルボキシル基の水素原子を該環式酸解離性基で置換した化合物が（メタ）アクリル酸誘導体(III) に相当する場合を除く。）で置換した基等を挙げることができる。
前記置換メチル基としては、例えば、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、エトキシメチル基、エチルチオメチル基、２−メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、ベンジルチオメチル基、フェナシル基、４−ブロモフェナシル基、４−メトキシフェナシル基、４−メチルチオフェナシル基、α−メチルフェナシル基、シクロプロピルメチル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基、４−ブロモベンジル基、４−ニトロベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−メチルチオベンジル基、４−エトキシベンジル基、４−エチルチオベンジル基、ピペロニル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ｎ−プロポキシカルボニルメチル基、ｉ−プロポキシカルボニルメチル基、ｎ−ブトキシカルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基等を挙げることができる。
また、前記１−置換エチル基としては、例えば、１−メトキシエチル基、１−メチルチオエチル基、１，１−ジメトキシエチル基、１−エトキシエチル基、１−エチルチオエチル基、１，１−ジエトキシエチル基、１−フェノキシエチル基、１−フェニルチオエチル基、１，１−ジフェノキシエチル基、１−ベンジルオキシエチル基、１−ベンジルチオエチル基、１−シクロプロピルエチル基、１−フェニルエチル基、１，１−ジフェニルエチル基、１−メトキシカルボニルエチル基、１−エトキシカルボニルエチル基、１−ｎ−プロポキシカルボニルエチル基、１−ｉ−プロポキシカルボニルエチル基、１−ｎ−ブトキシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基等を挙げることができる。
【００９４】
また、前記１−分岐アルキル基としては、例えば、ｉ−プロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、１，１−ジメチルプロピル基、１−メチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基等を挙げることができる。
また、前記シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、エチルジメチルシリル基、メチルジエチルシリル基、トリエチルシリル基、ｉ−プロピルジメチルシリル基、メチルジ−ｉ−プロピルシリル基、トリ−ｉ−プロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、メチルジ−ｔ−ブチルシリル基、トリ−ｔ−ブチルシリル基、フェニルジメチルシリル基、メチルジフェニルシリル基、トリフェニルシリル基等を挙げることができる。
また、前記ゲルミル基としては、例えば、トリメチルゲルミル基、エチルジメチルゲルミル基、メチルジエチルゲルミル基、トリエチルゲルミル基、ｉ−プロピルジメチルゲルミル基、メチルジ−ｉ−プロピルゲルミル基、トリ−ｉ−プロピルゲルミル基、ｔ−ブチルジメチルゲルミル基、メチルジ−ｔ−ブチルゲルミル基、トリ−ｔ−ブチルゲルミル基、フェニルジメチルゲルミル基、メチルジフェニルゲルミル基、トリフェニルゲルミル基等を挙げることができる。
また、前記アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等を挙げることができる。
【００９５】
また、前記アシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、バレリル基、ピバロイル基、イソバレリル基、ラウリロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、オキサリル基、マロニル基、スクシニル基、グルタリル基、アジポイル基、ピペロイル基、スベロイル基、アゼラオイル基、セバコイル基、アクリロイル基、プロピオロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、オレオイル基、マレオイル基、フマロイル基、メサコノイル基、カンホロイル基、ベンゾイル基、フタロイル基、イソフタロイル基、テレフタロイル基、ナフトイル基、トルオイル基、ヒドロアトロポイル基、アトロポイル基、シンナモイル基、フロイル基、テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基、ｐ−トルエンスルホニル基、メシル基等を挙げることができる。
さらに、前記環式酸解離性基としては、例えば、３−オキソシクロヘキシル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロチオフラニル基、３−ブロモテトラヒドロピラニル基、４−メトキシテトラヒドロピラニル基、２−オキソ−４−メチルテトラヒドロピラニル基、４−メトキシテトラヒドロチオピラニル基、３−テトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド基等を挙げることができる。
【００９６】
樹脂（Ａ）において、繰返し単位（Ｉ）の含有率は、全繰返し単位に対して、通常、２０〜７０モル％、好ましくは２０〜６０モル％、さらに好ましくは２５〜６０モル％であり、繰返し単位（II）の含有率は、全繰返し単位に対して、通常、５〜７０モル％、好ましくは１０〜５０モル％、さらに好ましくは１０〜４５モル％であり、繰返し単位（III)の含有率は、全繰返し単位に対して、通常、５〜７０モル％、好ましくは１０〜５０モル％、さらに好ましくは１０〜４５モル％である。
この場合、繰返し単位（Ｉ）の含有率が２０モル％未満では、レジストとしてドライエッチング耐性が低下する傾向があり、一方７０モル％を超えると、レジストとしての現像性および基板への接着性が低下する傾向がある。また、繰返し単位（II）の含有率が５モル％未満では、レジストとしての基板への接着性が低下する傾向があり、一方７０モル％を超えると、レジストとしてのドライエッチング耐性が低下する傾向がある。また、繰返し単位（III)の含有率が５モル％未満では、レジストとしての解像度およびドライエッチング耐性が低下する傾向があり、一方７０モル％を超えると、レジストとしての現像性および耐熱性が低下する傾向がある。
また、ノルボルネン誘導体（α）に由来する繰返し単位および他の酸解離性基含有単量体に由来する繰返し単位の合計含有率は、繰返し単位（III)とノルボルネン誘導体（α）に由来する繰返し単位と他の酸解離性基含有単量体に由来する繰返し単位との合計に対して、通常、２０モル％以下、好ましくは１０モル％以下、さらに好ましくは５モル％以下であり、他の酸解離性基含有単量体以外の他の単量体（α）に由来する繰返し単位の含有率は、全繰返し単位に対して、通常、１０モル％以下、好ましくは８モル％以下、さらに好ましくは５モル％以下である。
【００９７】
樹脂（Ａ）は、ノルボルネン誘導体（Ｉ）と無水マレイン酸と（メタ）アクリル酸誘導体(III) とを、場合によりノルボルネン誘導体（α）および／または他の単量体（α）と共に、例えば、ヒドロパーオキシド類、ジアルキルパーオキシド類、ジアシルパーオキシド類、アゾ化合物等のラジカル重合開始剤を使用し、適当な溶媒中で共重合することにより製造することができる。
前記共重合に使用される溶媒としては、例えば、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−デカン等のアルカン類；シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナン等のシクロアルカン類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン等の芳香族炭化水素類；クロロブタン類、ブロモヘキサン類、ジクロロエタン類、ヘキサメチレンジブロミド、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、プロピオン酸メチル等の飽和カルボン酸エステル類；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン類、ジエトキシエタン類等のエーエル類等を挙げることができる。
これらの溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
また、前記共重合における反応温度は、通常、４０〜１２０℃、好ましくは５０〜９０℃であり、反応時間は、通常、１〜４８時間、好ましくは１〜２４時間である。
【００９８】
樹脂（Ａ）のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、通常、３，０００〜３００，０００、好ましくは４，０００〜２００，０００、さらに好ましくは４，０００〜１００，０００である。この場合、樹脂（Ａ）のＭｗが３，０００未満では、レジストとしての耐熱性が低下する傾向があり、一方３００，０００を超えると、レジストとしての現像性が低下する傾向がある。
なお、樹脂（Ａ）は、ハロゲン、金属等の不純物が少ないほど好ましく、それにより、レジストとしての感度、解像度、プロセス安定性、パターン形状等をさらに改善することができる。樹脂（Ａ）の精製法としては、例えば、水洗、液々抽出等の化学的精製法や、これらの化学的精製法と限外ろ過、遠心分離等の物理的精製法との組み合わせ等を挙げることができる。
本発明において、樹脂（Ａ）は単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００９９】
（Ｂ）成分
次に、本発明における（Ｂ）成分は、露光により酸を発生する感放射線性酸発生剤（以下、「酸発生剤（Ｂ）」という。）からなる。
酸発生剤（Ｂ）は、露光により発生した酸の作用によって、樹脂（Ａ）中に存在する酸解離性基を解離させ、その結果レジスト被膜の露光部がアルカリ現像液に易溶性となり、ポジ型のレジストパターンを形成する作用を有するものである。
このような酸発生剤（Ｂ）としては、例えば、オニウム塩、ハロゲン含有化合物、ジアゾケトン化合物、スルホン化合物、スルホン酸化合物等を挙げることができる。
これらの酸発生剤（Ｂ）の例としては、下記のものを挙げることができる。
【０１００】
オニウム塩：
オニウム塩としては、例えば、ヨードニウム塩、スルホニウム塩（テトラヒドロチオフェニウム塩を含む。）、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリジニウム塩等を挙げることができる。
好ましいオニウム塩の具体例としては、
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムピレンスルホネート、ジフェニルヨードニウムｎ−ドデシルベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムナフタレンスルホネート、ジフェニルヨードニウム１０−カンファースルホネート、
ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムピレンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムｎ−ドデシルベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムナフタレンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム１０−カンファースルホネート、
トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムピレンスルホネート、トリフェニルスルホニウムｎ−ドデシルベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムナフタレンスルホネート、トリフェニルスルホニウム１０−カンファースルホネート、
【０１０１】
シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシル・メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシル・メチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシル・メチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
ジシクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジシクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ジシクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
２−オキソシクロヘキシルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、２−オキソシクロヘキシルジメチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、２−オキソシクロヘキシルジメチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−ヒドロキシフェニル・フェニル・メチルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、４−ヒドロキシフェニル・ベンジル・メチルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、
１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ナフチルジメチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−ナフチルジメチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−ナフチルジエチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ナフチルジエチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−ナフチルジエチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１０２】
４−シアノ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−シアノ−１−ナフチルジメチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−シアノ−１−ナフチルジメチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−シアノ−１−ナフチルジエチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−シアノ−１−ナフチルジエチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−シアノ−１−ナフチルジエチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−ニトロ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ニトロ−１−ナフチルジメチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ニトロ−１−ナフチルジメチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−ニトロ−１−ナフチルジエチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ニトロ−１−ナフチルジエチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ニトロ−１−ナフチルジエチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１０３】
４−メチル−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メチル−１−ナフチルジメチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−メチル−１−ナフチルジメチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−メチル−１−ナフチルジエチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メチル−１−ナフチルジエチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−メチル−１−ナフチルジエチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−ヒドロキシ−１−ナフチルジエチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフチルジエチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフチルジエチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１０４】
１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート
１−（４−メトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−メトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−メトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート
１−（２，４−ジメトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（２，４−ジメトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（２，４−ジメトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−ヒドロキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−エトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｎ−プロポキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｉ−プロポキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｎ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｔ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、
【０１０５】
４−ヒドロキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−メトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−エトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ｎ−プロポキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ｉ−プロポキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ｎ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ｔ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、
４−ヒドロキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、４−メトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、４−エトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、４−ｎ−プロポキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、４−ｉ−プロポキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、４−ｎ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、４−ｔ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１０６】
４−メトキシメトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メトキシメトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−メトキシメトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−エトキシメトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−エトキシメトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−エトキシメトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−（１−メトキシエトキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−（１−メトキシエトキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−（１−メトキシエトキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−（２−メトキシエトキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−（２−メトキシエトキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−（２−メトキシエトキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１０７】
４−メトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−メトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−エトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−エトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−エトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−ｎ−プロポキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｎ−プロポキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ｎ−プロポキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−ｉ−プロポキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｉ−プロポキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ｉ−プロポキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１０８】
４−ｎ−ブトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｎ−ブトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ｎ−ブトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１０９】
４−（２−テトラヒドロフラニルオキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−（２−テトラヒドロフラニルオキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−（２−テトラヒドロフラニルオキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−ベンジルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ベンジルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ベンジルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−（１−ナフチルアセトメチル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（１−ナフチルアセトメチル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（１−ナフチルアセトメチル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート
等を挙げることができる。
【０１１０】
ハロゲン含有化合物：
ハロゲン含有化合物としては、例えば、ハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有複素環式化合物等を挙げることができる。
好ましいハロゲン含有化合物の具体例としては、フェニルビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−メトキシフェニルビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１−ナフチルビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等の（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン誘導体や、１，１−ビス（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタン等を挙げることができる。
ジアゾケトン化合物：
ジアゾケトン化合物としては、例えば、１，３−ジケト−２−ジアゾ化合物、ジアゾベンゾキノン化合物、ジアゾナフトキノン化合物等を挙げることができる。
好ましいジアゾケトンの具体例としては、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニルクロリド、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンの１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等を挙げることができる。
【０１１１】
スルホン化合物：
スルホン化合物としては、例えば、β−ケトスルホン、β−スルホニルスルホンや、これらの化合物のα−ジアゾ化合物等を挙げることができる。
好ましいスルホン化合物の具体例としては、４−トリルフェナシルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビス（フェニルスルホニル）メタン等を挙げることができる。
スルホン酸化合物：
スルホン酸化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル、アルキルスルホン酸イミド、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等を挙げることができる。
好ましいスルホン酸化合物の具体例としては、ベンゾイントシレート、ピロガロールのトリス（トリフルオロメタンスルホネート）、ニトロベンジル−９，１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホネート、トリフルオロメタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボジイミド、ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボジイミド、パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボジイミド、Ｎ−ヒドロキシスクシイミドトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ−ヒドロキシスクシイミドノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、Ｎ−ヒドロキシスクシイミドパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドトリフルオロメタンスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート等を挙げることができる。
【０１１２】
これらの酸発生剤（Ｂ）のうち、特に、
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシル・メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシル・メチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシル・メチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ジシクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジシクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ジシクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、２−オキソシクロヘキシルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
【０１１３】
１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（１−ナフチルアセトメチル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（１−ナフチルアセトメチル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（１−ナフチルアセトメチル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１１４】
トリフルオロメタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボジイミド、ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボジイミド、パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボジイミド、Ｎ−ヒドロキシスクシイミドトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ−ヒドロキシスクシイミドノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、Ｎ−ヒドロキシスクシイミドパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドトリフルオロメタンスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート
等が好ましい。
【０１１５】
本発明において、酸発生剤（Ｂ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
酸発生剤（Ｂ）の使用量は、レジストとしての感度および現像性を確保する観点から、樹脂（Ａ）１００重量部に対して、通常、０．１〜１０重量部、好ましくは０．５〜７重量部である。この場合、酸発生剤（Ｂ）の使用量が０．１重量部未満では、レジストとしての感度および現像性が低下する傾向があり、一方１０重量部を超えると、放射線に対する透明性が低下して、レジストとして矩形のレジストパターンを得られ難くなる傾向がある。
【０１１６】
各種添加剤
本発明の感放射線性樹脂組成物には、露光により酸発生剤（Ｂ）から生じる酸のレジスト被膜中における拡散現象を制御し、非露光領域における好ましくない化学反応を抑制する作用を有する酸拡散制御剤を配合することが好ましい。
このような酸拡散制御剤を配合することにより、得られる感放射線性樹脂組成物の貯蔵安定性がさらに向上し、またレジストとしての解像度がさらに向上するとともに、露光から現像処理までの引き置き時間（ＰＥＤ）の変動によるレジストパターンの線幅変化を抑えることができ、プロセス安定性に極めて優れた組成物が得られる。
酸拡散制御剤としては、レジストパターンの形成工程中の露光や加熱処理により塩基性が変化しない含窒素有機化合物が好ましい。
このような含窒素有機化合物としては、例えば、下記一般式（４）
【０１１７】
【化３２】

〔一般式（４）において、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は相互に独立に水素原子、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基または置換もしくは非置換のアラルキル基を示す。〕
【０１１８】
で表される化合物（以下、「含窒素化合物（ａ）」という。）、同一分子内に窒素原子を２個有する化合物（以下、「含窒素化合物（ｂ）」という。）、窒素原子を３個以上有する重合体（以下、「含窒素化合物（ｃ）」という。）、アミド基含有化合物、ウレア化合物、含窒素複素環化合物等を挙げることができる。
含窒素化合物（ａ）としては、例えば、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、シクロヘキシルアミン等のモノ（シクロ）アルキルアミン類；ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、ジ−ｎ−ヘキシルアミン、ジ−ｎ−ヘプチルアミン、ジ−ｎ−オクチルアミン、ジ−ｎ−ノニルアミン、ジ−ｎ−デシルアミン、シクロヘキシルメチルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のジ（シクロ）アルキルアミン類；トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、トリ−ｎ−ヘプチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−ノニルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン、シクロヘキシルジメチルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、トリシクロヘキシルアミン等のトリ（シクロ）アルキルアミン類；アニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−メチルアニリン、３−メチルアニリン、４−メチルアニリン、４−ニトロアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、１−ナフチルアミン等の芳香族アミン類を挙げることができる。
【０１１９】
含窒素化合物（ｂ）としては、例えば、エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ',Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノジフェニルアミン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２−（３−アミノフェニル）−２−（４−アミノフェニル）プロパン、２−（４−アミノフェニル）−２−（３−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（４−アミノフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，４−ビス [１−（４−アミノフェニル）−１−メチルエチル] ベンゼン、１，３−ビス [１−（４−アミノフェニル）−１−メチルエチル] ベンゼン等を挙げることができる。
含窒素化合物（ｃ）としては、例えば、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、２−ジメチルアミノエチルアクリルアミドの重合体等を挙げることができる。
【０１２０】
前記アミド基含有化合物としては、例えば、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−オクチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−ノニルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−デシルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジシクロヘキシルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−アダマンチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル−１−アダマンチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−アダマンチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル−１−アダマンチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’Ｎ’−テトラ−ｔ−ブトキシカルボニルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，７−ジアミノヘプタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，８−ジアミノオクタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，９−ジアミノノナン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，１０−ジアミノデカン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，１２−ジアミノドデカン、
Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−メチルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−フェニルベンズイミダゾール等のＮ−ｔ−ブトキシカルボニル基含有アミノ化合物のほか、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プロピオンアミド、ベンズアミド、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。
【０１２１】
前記ウレア化合物としては、例えば、尿素、メチルウレア、１，１−ジメチルウレア、１，３−ジメチルウレア、１，１，３，３−テトラメチルウレア、１，３−ジフェニルウレア、トリ−ｎ−ブチルチオウレア等を挙げることができる。前記含窒素複素環化合物としては、例えば、イミダゾール、ベンズイミダゾール、４−メチルイミダゾール、４−メチル−２−フェニルイミダゾール等のイミダゾール類；ピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、２−メチル−４−フェニルピリジン、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、４−ヒドロキシキノリン、８−オキシキノリン、アクリジン等のピリジン類；ピペラジン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン等のピペラジン類のほか、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、キノザリン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、４−メチルモルホリン、１，４−ジメチルピペラジン、１，４−ジアザビシクロ [２．２．２] オクタン等を挙げることができる。
【０１２２】
これらの含窒素有機化合物のうち、含窒素化合物（ａ）、アミド基含有化合物、含窒素複素環化合物が好ましく、また含窒素化合物（ａ）の中では、トリ（シクロ）アルキルアミン類が特に好ましく、アミド基含有化合物の中では、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル基含有アミノ化合物が特に好ましく、含窒素複素環化合物の中では、ピリジン類、ピペラジン類が特に好ましい。
前記酸拡散制御剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
酸拡散制御剤の配合量は、樹脂（Ａ）１００重量部に対して、通常、１５重量部以下、好ましくは１０重量部以下、さらに好ましくは５重量部以下である。この場合、酸拡散制御剤の配合量が１５重量部を超えると、レジストとしての感度や露光部の現像性が低下する傾向がある。なお、酸拡散制御剤の配合量が０．００１重量部未満であると、プロセス条件によっては、レジストとしてのパターン形状や寸法忠実度が低下するおそれがある。
【０１２３】
また、本発明の感放射線性樹脂組成物には、ドライエッチング耐性、パターン形状、基板との接着性等をさらに改善する作用を示す、酸解離性有機基を有する脂環族添加剤を配合することができる。
このような脂環族添加剤としては、例えば、
１−アダマンタンカルボン酸ｔ−ブチル、３−アダマンタンカルボン酸ｔ−ブチル、１，３−アダマンタンジカルボン酸ジ−ｔ−ブチル、１−アダマンタン酢酸ｔ−ブチル、３−アダマンタン酢酸ｔ−ブチル、１，３−アダマンタンジ酢酸ジ−ｔ−ブチル等のアダマンタン誘導体類；
デオキシコール酸ｔ−ブチル、デオキシコール酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル、デオキシコール酸２−エトキシエチル、デオキシコール酸２−シクロヘキシルオキシエチル、デオキシコール酸３−オキソシクロヘキシル、デオキシコール酸テトラヒドロピラニル、デオキシコール酸メバロノラクトンエステル等のデオキシコール酸エステル類；
リトコール酸ｔ−ブチル、リトコール酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル、リトコール酸２−エトキシエチル、リトコール酸２−シクロヘキシルオキシエチル、リトコール酸３−オキソシクロヘキシル、リトコール酸テトラヒドロピラニル、リトコール酸メバロノラクトンエステル等のリトコール酸エステル類
等を挙げることができる。
これらの脂環族添加剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
脂環族添加剤の配合量は、樹脂（Ａ）１００重量部に対して、通常、５０重量部以下、好ましくは３０重量部以下である。この場合、脂環族添加剤の配合量が５０重量部を超えると、レジストとしての耐熱性が低下する傾向がある。
【０１２４】
また、本発明の感放射線性樹脂組成物には、塗布性、現像性等を改良する作用を示す界面活性剤を配合することができる。
前記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−ノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のノニオン系界面活性剤のほか、以下商品名で、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ポリフローＮｏ．７５，同Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）、エフトップＥＦ３０１，同ＥＦ３０３，同ＥＦ３５２（トーケムプロダクツ（株）製）、メガファックスＦ１７１，同Ｆ１７３（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ４３０，同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０，サーフロンＳ−３８２，同ＳＣ−１０１，同ＳＣ−１０２，同ＳＣ−１０３，同ＳＣ−１０４，同ＳＣ−１０５，同ＳＣ−１０６（旭硝子（株）製）等を挙げることができる。
これらの界面活性剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
界面活性剤の配合量は、樹脂（Ａ）と酸発生剤（Ｂ）との合計１００重量部に対して、通常、２重量部以下である。
また、前記以外の添加剤としては、ハレーション防止剤、接着助剤、保存安定化剤、消泡剤等を挙げることができる。
【０１２５】
組成物溶液の調製
本発明の感放射線性樹脂組成物は、普通、その使用に際して、全固形分濃度が、通常、５〜５０重量％、好ましくは１０〜２５重量％となるように、溶剤に溶解したのち、例えば孔径０．２μｍ程度のフィルターでろ過することによって、組成物溶液として調製される。
前記組成物溶液の調製に使用される溶剤としては、例えば、
２−ブタノン、２−ペンタノン、３−メチル−２−ブタノン、２−ヘキサノン、４−メチル−２−ペンタノン、３−メチル−２−ペンタノン、３，３−ジメチル−２−ブタノン、２−ヘプタノン、２−オクタノン等の直鎖状もしくは分岐状のケトン類；
シクロペンタノン、３−メチルシクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−メチルシクロヘキサノン、２，６−ジメチルシクロヘキサノン、イソホロン等の環状ケトン類；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｓｅｃ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｉ−プロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｉ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｓｅｃ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｔ−ブチル等の２−ヒドロキシプロピオン酸アルキル類；
３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等の３−アルコキシプロピオン酸アルキル類のほか、
【０１２６】
ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、トルエン、キシレン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸メチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチルブチレート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンジルエチルエーテル、ジ−ｎ−ヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン
等を挙げることができる。
【０１２７】
これらの溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができるが、就中、直鎖状もしくは分岐状のケトン類、環状ケトン類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、２−ヒドロキシプロピオン酸アルキル類および３−アルコキシプロピオン酸アルキル類が好ましい。
【０１２８】
レジストパターンの形成方法
本発明の感放射線性樹脂組成物は、特に化学増幅型ポジ型レジストとして好適に使用することができる。
前記化学増幅型ポジ型レジストにおいては、露光により酸発生剤（Ｂ）から発生した酸の作用によって、樹脂（Ａ）中の酸解離性基が解離して、例えばカルボキシル基を生じ、その結果、レジストの露光部のアルカリ現像液に対する溶解性が高くなり、該露光部がアルカリ現像液によって溶解、除去され、ポジ型のレジストパターンが得られる。
本発明の感放射線性樹脂組成物からレジストパターンを形成する際には、組成物溶液を、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の適宜の塗布手段によって、例えば、シリコンウエハー、アルミニウムで被覆されたウエハー等の基板上に塗布することにより、レジスト被膜を形成し、場合により予め加熱処理（以下、「ＰＢ」という。）を行ったのち、所定のレジストパターンを形成するように該レジスト被膜に露光する。その際に使用される放射線としては、酸発生剤（Ｂ）の種類に応じて遠紫外線、Ｘ線、電子線等を適宜選定して使用することができるが、特に、ＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）あるいはＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）が好ましい。
本発明においては、露光後に加熱処理（以下、「ＰＥＢ」という。）を行うことが好ましい。このＰＥＢにより、樹脂（Ａ）中の酸解離性基の解離反応が円滑に進行する。ＰＥＢの加熱条件は、感放射線性樹脂組成物の配合組成によって変わるが、通常、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１７０℃である。
また、本発明においては、感放射線性樹脂組成物の潜在能力を最大限に引き出すため、例えば特公平６−１２４５２号公報等に開示されているように、使用される基板上に有機系あるいは無機系の反射防止膜を形成しておくことができ、環境雰囲気中に含まれる塩基性不純物等の影響を防止するため、例えば特開平５−１８８５９８号公報等に開示されているように、レジスト被膜上に保護膜を設けることもでき、あるいはこれらの技術を併用することもできる。
【０１２９】
次いで、露光されたレジスト被膜を現像することにより、所定のレジストパターンを形成する。
現像に使用される現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、けい酸ナトリウム、メタけい酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、エチルジメチルアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、コリン、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等のアルカリ性化合物の少なくとも１種を溶解したアルカリ性水溶液が好ましい。
前記アルカリ性水溶液の濃度は、通常、１０重量％以下である。この場合、アルカリ性水溶液の濃度が１０重量％を超えると、非露光部も現像液に溶解するおそれがあり好ましくない。
また、前記アルカリ性水溶液からなる現像液には、例えば有機溶媒を添加することもできる。
前記有機溶媒としては、例えば、アセトン、２−ブタノン、３−メチル−２−ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、３−メチルシクロペンタノン、２，６−ジメチルシクロヘキサノン等のケトン類；メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、１，４−ヘキサンジオール、１，４−ヘキサンジメチロール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−アミル等のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類や、フェノール、アセトニルアセトン、ジメチルホルムアミド等を挙げることができる。
これらの有機溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
有機溶媒の使用量は、アルカリ性水溶液に対して、１００容量％以下が好ましい。この場合、有機溶媒の使用量が１００容量％を超えると、現像性が低下して、露光部の現像残りが多くなるおそれがある。
また、アルカリ性水溶液からなる現像液には、界面活性剤等を適量添加することもできる。
なお、アルカリ性水溶液からなる現像液で現像したのちは、一般に、水で洗浄して乾燥する。
【０１３０】
【発明の実施の形態】
以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。ここで、部および％は、特記しない限り重量基準である。
実施例および比較例における各測定・評価は、下記の要領で行った。
Ｍｗ：
東ソー（株）製ＧＰＣカラム（Ｇ２０００HXL ２本、Ｇ３０００HXL １本、Ｇ４０００HXL １本）を用い、流量１．０ミリリットル／分、溶出溶媒テトラヒドロフラン、カラム温度４０℃の分析条件で、単分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した。
放射線透過率：
組成物溶液を石英ガラス上にスピンコートにより塗布し、９０℃に保持したホットプレート上で６０秒間ＰＢを行って形成した膜厚１μｍのレジスト被膜について、波長１９３ｎｍにおける吸光度から、放射線透過率を算出して、遠紫外線領域における透明性の尺度とした。
相対エッチング速度：
組成物溶液をシリコーンウエハー上にスピンコートにより塗布し、乾燥して形成した膜厚０．５μｍのレジスト被膜に対して、ＰＭＴ社製ドライエッチング装置（Pinnacle8000) を用い、エッチングガスをＣＦ₄、Ｃｌ₂およびＡｒとし、エッチングガス流量７５ｓｃｃｍ、エッチングガス圧力２．５ｍＴｏｒｒ、出力２，５００Ｗの条件でドライエッチングを行って、エッチング速度を測定し、クレゾールノボラック樹脂からなる被膜のエッチング速度に対する相対値により、相対エッチング速度を評価した。相対エッチング速度が小さいほど、ドライエッチング耐性に優れることを意味する。
【０１３１】
感度：
基板として、表面に膜厚５２０ÅのDeepUV30（ブルーワー・サイエンス（Brewer Science）社製）膜を形成したシリコーンウエハー（ＡＲＣ）（実施例１〜２、実施例４〜７、実施例９〜１９および比較例１）または表面に波長１９３ｎｍで反射防止効果を発揮できるように調製されたシリコンオキシナイトライド膜を形成したシリコーンウエハー（ＳｉＯＮ）（実施例３および実施例８）を用い、組成物溶液を、各基板上にスピンコートにより塗布し、ホットプレート上にて、表２に示す条件でＰＢを行って形成した膜厚０．４μｍ（実施例１〜３、実施例６〜１９および比較例１）または膜厚０．２μｍ（実施例４〜５）のレジスト被膜に、（株）ニコン製ＡｒＦエキシマレーザー露光装置（レンズ開口数０．５５、露光波長１９３ｎｍ）により、マスクパターンを介して露光した。その後、表２に示す条件でＰＥＢを行ったのち、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（実施例１〜１９）または２．３８×１／５０重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（比較例１）により、２５℃で１分間現像し、水洗し、乾燥して、ポジ型のレジストパターンを形成した。このとき、線幅０．１８μｍのライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）を１対１の線幅に形成する露光量を最適露光量とし、この最適露光量を感度とした。
解像度：
最適露光量で解像される最小のレジストパターンの寸法を、解像度とした。
パターン形状：
線幅０．２０μｍのライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）の方形状断面の下辺寸法Ｌ₁と上辺寸法Ｌ₂とを走査型電子顕微鏡により測定し、
０．８５≦Ｌ₂／Ｌ₁≦１を満足し、かつパターン形状が裾を引いていない場合を、パターン形状が“良好”であるとし、これらの条件の少なくとも一つを満たさない場合を、パターン形状が“不良”であるとした。
【０１３２】
合成例１
８−ヒドロキシメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン６６．６ｇ、無水マレイン酸３４．３ｇ、前記式(III−48) で表されるメタクリル酸誘導体(III) ７０．３ｇ、アゾビスイソブチロニトリル１５ｇ、酢酸ｎ−ブチル１７１ｇを、フラスコに仕込み、窒素雰囲気下、７０℃で６時間重合した。重合終了後、反応溶液を室温まで冷却して、大量のｉ−プロピルアルコール／ｎ−ヘキサン混合溶液中に注ぎ、沈殿した樹脂をろ過して、少量のｎ−ヘキサンで洗浄したのち、真空乾燥して、Ｍｗが８，５００の白色樹脂を得た。
この樹脂は、下記式に示す (5-1)、(5-2) および(5-3) の各繰返し単位の含有率がそれぞれ３５モル％、３５モル％および３０モル％からなる共重合体であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-1) とする。
【０１３３】
【化３３】

【０１３６】
合成例３
仕込み原料として、８−ヒドロキシメチル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン８１．８ｇ、無水マレイン酸３９．２ｇ、前記式(III−47) で表されるアクリル酸誘導体(III) ３９．７ｇ、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオールジアクリレート５．１ｇ、アゾビスイソブチロニトリル１５ｇ、酢酸ｎ−ブチル２４９ｇを用いた以外は、合成例１と同様にして、Ｍｗが１６，０００の白色樹脂を得た。
この樹脂は、下記式に示す (7-1)、（7-2)、(7-3) および(7-4) の各繰返し単位の含有率がそれぞれ４０モル％、４０モル％、１８モル％および２モル％からなる共重合体であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-3) とする。
【０１３７】
【化３５】

【０１３８】
合成例４
仕込み原料として、８−ヒドロキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン５２．９ｇ、無水マレイン酸３４．３ｇ、前記式(III−51) で表されるアクリル酸誘導体(III) ５８．８ｇ、５−ｔ−ブトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン９．７ｇ、アゾビスイソブチロニトリル３０ｇ、テトラヒドロフラン１５６ｇを用いた以外は、合成例１と同様にして、Ｍｗが５，４００の白色樹脂を得た。
この樹脂は、下記式に示す(8-1) 、(8-2) 、(8-3) および(8-4) の各繰返し単位の含有率がそれぞれ３０モル％、３５モル％、３０モル％および５モル％からなる共重合体であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-4) とする。
【０１３９】
【化３６】

【０１４２】
合成例６
仕込み原料として、８−シアノテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン５５．６ｇ、無水マレイン酸２９．４ｇ、前記式(III−49) で表されるアクリル酸誘導体(III) ９３．７ｇ、アゾビスイソブチロニトリル１５ｇ、酢酸ｎ−ブチル１７９ｇを用いた以外は、合成例１と同様にして、Ｍｗが９，７００の白色樹脂を得た。
この樹脂は、下記式に示す (10-1) 、(10-2)および(10-3)の各繰返し単位の含有率がそれぞれ３０モル％、３０モル％および４０モル％からなる共重合体であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-6) とする。
【０１４３】
【化３８】

【０１４４】
合成例７
仕込み原料として、８−ヒドロキシテトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン３５．２ｇ、無水マレイン酸３４．３ｇ、前記式（III-48）で表されるメタクリル酸誘導体（III)７０．２ｇ、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン１４．１ｇ、アゾビスイソブチロニトリル１５ｇ、酢酸ｎ−ブチル２３１ｇを用いた以外は、合成例１と同様にして、Ｍｗが７，７００の白色樹脂を得た。
この樹脂は、下記式に示す (11-1) 、(11-2)、(11-3)および(11-4)の各繰返し単位の含有率がそれぞれ２０モル％、３５モル％、３０モル％および１５モル％からなる共重合体であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-7) とする。
【０１４５】
【化３９】

【０１４６】
合成例８
仕込み原料として、８−（１−エトキシエトキシ）テトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン５５．９ｇ、無水マレイン酸３１．９ｇ、前記式（III-48）で表されるメタクリル酸誘導体（III)８２．０ｇ、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン９．４ｇ、アゾビスイソブチロニトリル１５ｇ、酢酸ｎ−ブチル２６９ｇを用いた以外は、合成例１と同様にして、Ｍｗが８，０００の白色樹脂を得た。
この樹脂は、下記式に示す (12-1) 、(12-2)、(12-3)および(12-4)の各繰返し単位の含有率がそれぞれ２２．５モル％、３２．５モル％、３５モル％および１０モル％からなる共重合体であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-8) とする。
【０１４７】
【化４０】

【０１４８】
合成例９
仕込み原料として、８−（１−エトキシエトキシ）テトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン６２．０ｇ、無水マレイン酸２９．４ｇ、前記式（III-47) で表されるアクリル酸誘導体（III)８８．０ｇ、８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン９．７ｇ、アゾビスイソブチロニトリル１５ｇ、酢酸ｎ−ブチル２８４ｇを用いた以外は、合成例１と同様にして、Ｍｗが９，２００の白色樹脂を得た。
この樹脂は、下記式に示す (13-1) 、(13-2)、(13-3)および(13-4)の各繰返し単位の含有率がそれぞれ２５モル％、３０モル％、４０モル％および５モル％からなる共重合体であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-9) とする。
【０１４９】
【化４１】

【０１５０】
合成例１０
仕込み原料として、８−ヒドロキシテトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン３５．２ｇ、無水マレイン酸３４．３ｇ、前記式（III-36) で表されるメタクリル酸誘導体（III)７０．２ｇ、ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン１４．１ｇ、アゾビスイソブチロニトリル１５ｇ、酢酸ｎ−ブチル２３１ｇを用いた以外は、合成例１と同様にして、Ｍｗが７，９００の白色樹脂を得た。
この樹脂は、下記式に示す (14-1) 、(14-2)、(14-3)および(14-4)の各繰返し単位の含有率がそれぞれ２０モル％、３５モル％、３０モル％および１５モル％からなる共重合体であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-10)とする。
【０１５１】
【化４２】

【０１５２】
合成例１１
仕込み原料として、８−ヒドロキシテトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン３５．２ｇ、無水マレイン酸３４．３ｇ、前記式（III-44) で表されるメタクリル酸誘導体（III)７０．２ｇ、ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン１４．１ｇ、アゾビスイソブチロニトリル１５ｇ、酢酸ｎ−ブチル２３１ｇを用いた以外は、合成例１と同様にして、Ｍｗが８，３００の白色樹脂を得た。
この樹脂は、下記式に示す (15-1) 、(15-2)、(15-3)および(15-4)の各繰返し単位の含有率がそれぞれ２０モル％、３５モル％、３０モル％および１５モル％からなる共重合体であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-11)とする。
【０１５３】
【化４３】

【０１５４】
合成例１２
仕込み原料として、８−ヒドロキシテトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン３５．２ｇ、無水マレイン酸３４．３ｇ、前記式（III-47) で表されるアクリル酸誘導体（III)７０．２ｇ、ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン１４．１ｇ、アゾビスイソブチロニトリル１５ｇ、酢酸ｎ−ブチル２３１ｇを用いた以外は、合成例１と同様にして、Ｍｗが８，３００の白色樹脂を得た。
この樹脂は、下記式に示す (16-1) 、(16-2)、(16-3)および(16-4)の各繰返し単位の含有率がそれぞれ２０モル％、３５モル％、３０モル％および１５モル％からなる共重合体であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-12)とする。
【０１５５】
【化４４】

【０１５６】
合成例１３
仕込み原料として、８−ヒドロキシテトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10］ドデカ−３−エン６２．１ｇ、無水マレイン酸３４．５ｇ、前記式（III-55）で表される（メタ）アクリル酸誘導体（III)１０３．４ｇ、２，２’−ジメチルアゾビス（２−メチルプロピオネート）２１．６ｇ、テトラヒドロフラン２００ｇを用いた以外は、合成例１と同様にして、Ｍｗが８，３００の白色樹脂を得た。
この樹脂は、下記式に示す（17-1）、（17-2）および（17-3）の各繰返し単位の含有率がそれぞれ３０モル％、３０モル％および４０モル％からなる共重合体であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-13)とする。
【０１５７】
【化４５】

【０１６０】
【実施例】
実施例１、２、５、６および８〜１８並びに比較例１
表１に示す成分からなる各組成物溶液について、各種評価を行った。評価結果を、表３に示す。
表１における樹脂（Ａ-1）、（Ａ -3 ）、（Ａ -4 ）および（Ａ -6 ）〜（Ａ -13)以外の成分は、下記のとおりである。
他の樹脂
ａ-1 ：メタクリル酸ｔ−ブチル／メタクリル酸メチル／メタクリル酸共重合
体（共重合モル比＝４０／４０／２０、Ｍｗ＝２０，０００）
酸発生剤（Ｂ）
Ｂ-1 ：トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート
Ｂ-2 ：トリフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート
Ｂ-3 ：４−ｎ−ブトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムノナフ
ルオロ−ｎ−ブタンスルホネート
Ｂ-4 ：ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブ
タンスルホネート
Ｂ-5 ：トリフルオロメタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−
エン−２，３−ジカルボジイミド
Ｂ-6 ：１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチ
オフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート
酸拡散制御剤
Ｃ-1 ：トリ−ｎ−オクチルアミン
Ｃ-2 ：メチルジシクロヘキシルアミン
Ｃ-3 ：１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン
Ｃ-4 ：４−ヒドロキシキノリン
Ｃ-5 ：Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジシクロヘキシルアミン
Ｃ-6 ：Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−フェニルベンズイミダゾール
他の添加剤
Ｄ-1 ：デオキシコール酸ｔ−ブチル（下記式（１９）参照）
【０１６１】
【化４７】

【０１６２】
Ｄ-3 ：デオキシコール酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル
溶剤
Ｅ-1 ：２−ヘプタノン
Ｅ-2 ：２−ヒドロキシプロピオン酸エチル
Ｅ-3 ：プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート
Ｅ-4 ：３−エトキシプロピオン酸エチル
【０１６３】
【表１】

【０１６４】
【表２】

【０１６５】
【表３】

【０１６６】
【発明の効果】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、活性放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザーやＡｒＦエキシマレーザーに代表される遠紫外線、に感応する化学増幅型レジストとして、特にエッチングガス種に依存しない優れたドライエッチング耐性を有し、しかも放射線に対する透明性が高く、かつ感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、組成物としての保存安定性にも優れ、また基板に対する十分な接着性を保持しており、今後さらに微細化が進行すると予想される半導体デバイスの製造に極めて好適に使用することができる。

Claims

（Ａ）下記一般式（１）に示す繰返し単位（Ｉ）、繰返し単位（II）および繰返し単位（III)を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有樹脂であって、該酸解離性基が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂、並びに（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

〔一般式（１）において、ＡおよびＢは相互に独立に水素原子または炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を示し、ＸおよびＹは相互に独立に水素原子、ヒドロキシル基；カルボキシル基；炭素数１〜８の直鎖状、分岐状もしくは環状のヒドロキシアルキル基；炭素数２〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシアルキル基；炭素数２〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状の１−アルコキシアルコキシル基；炭素数２〜９の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニルオキシ基；炭素数３〜１１の直鎖状、分岐状もしくは環状の（１−アルコキシアルコキシ）アルキル基；炭素数３〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニルオキシアルキル基；テトラヒドロフラニルオキシ基；テトラヒドロピラニルオキシ基；テトラヒドロフラニルオキシメチル基およびテトラヒドロピラニルオキシメチル基の群から選ばれる１価の酸素原子含有極性基または１価の窒素原子含有極性基を示し、かつＸとＹの少なくとも１つが該酸素原子含有極性基または該窒素原子含有極性基であるか、あるいはＸとＹが一緒になってジカルボン酸無水物基を形成しており、ｎは１または２であり、Ｒ¹は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ²は下記式（２）

（式中、各Ｒ³は相互に独立に炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体または炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を示し、かつＲ³の少なくとも１つが該脂環式炭化水素基もしくはその誘導体であるか、あるいは何れか２つのＲ³が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子とともに炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成し、残りのＲ³が炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示す。）
で表される基を示す。〕