JP4226973B2 - 結晶試料保持装置を備えたx線結晶方位測定装置 - Google Patents
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まず、図8に第1の例(ゴニオスタットとポラロイドカセット(ポラロイドは登録商標)を使用した方位測定方法)を示す。この例で定方位切断加工を施すには、次の手順を踏む。
(1)結晶を直交する3軸の回転機構が付いたゴニオスタットの上に固定する。(2)ポラロイドカセットでラウエ写真を撮影する。(3)撮影結果を解析して3軸の回転で角度補正を加え所望の格子面に方位を調整する。(4)調整後、所定の格子面が設定させているか再確認の撮影を行う。必用なら微調整を施す。(5)結晶をゴニオスタットごと外周歯カッターに移設し、結晶を切断する。
まず、本発明になる結晶試料保持装置について、添付の図2〜図4を参照しながら説明する。なお、この結晶試料保持装置は、上記した螢石結晶等の巨大な結晶をその基準面上に載せて平面(x−y軸)上で移動可能な、所謂、試料ステージとして構成されている。
まず、この試料ステージは、図2に示すように、平面板の試料テーブル10上に、サンプルホルダー20を配置し、さらに、このサンプルホルダー20を試料テーブル平面上でx軸及びy軸方向に移動可能なX,Y移動機構30、40を設けて構成されている。なお、ここでは図示しないが、この試料テーブル10の中央部(以下に述べるケガキ線の交差点)には、試料の結晶方位を測定するための小孔が形成されている。
(1)基準面に置くだけの保持なので、測定面は凹凸が無く平面であること。
(2)試料形状は、円筒形、円錐形、スラブ状であっても測定面が平面であれば、形状は問わない。
(3)方位解析の基準として、試料側面にアジマス線を付けて試料基準とする。
(4)測定面の仕上げは、ラウエ斑点が観察可能なこと。換言すれば、加工歪みが測定に影響のない程度であることである。通常、ダイアモンドプレードによるAsCut面で十分である。
11 測定用小孔
20 サンプルホルダー
21 金枠
22 透明シート
23 基準クロスマーク(ケガキ線)
30、40 X,Y移動機構
100 X線管
110 コリメータ
120 CCDカメラ
121 蛍光板
S 試料
C 結晶体
c1 切り出し錘部
c2 切断したスラブ状結晶
Claims (4)
- その一部に測定用小孔を形成し、かつ、円滑表面を有する試料テーブルの円滑表面上に配置され、所定形状の枠体の底面にX線を透過可能なシート状部材を貼り付けてなり、かつ、当該透過可能なシート状部材上に、結晶試料の被測定面を下面にして載置する試料ホルダー部と、当該試料ホルダー部を前記試料テーブルの円滑な表面上で移動可能にする移動手段とを有する結晶試料保持装置を備え、
前記試料テーブルの下方に配置され、X線を前記測定用小孔を介して前記結晶試料の被測定面に照射する手段と、前記結晶試料の被測定面からの回折像を撮像する手段と、前記撮像手段により撮像された回折像に基づいて、前記結晶試料の被測定面における結晶定方位を測定する手段とを備えていることを特徴とする結晶試料保持装置を備えたX線結晶方位測定装置。 - 前記請求項1に記載の結晶試料保持装置を備えたX線結晶方位測定装置において、前記試料テーブルの円滑表面は、エンジニアリングプラスチックで形成したことを特徴とする結晶試料保持装置を備えたX線結晶方位測定装置。
- 前記請求項1に記載の結晶試料保持装置を備えたX線結晶方位測定装置において、前記透過可能なシート状部材は、PETシートから構成されていることを特徴とする結晶試料保持装置を備えたX線結晶方位測定装置。
- 前記請求項3に記載の結晶試料保持装置を備えたX線結晶方位測定装置において、前記透過可能なシート状部材の表面には、その上に載置される結晶試料の位置を決定するためのマークが形成されていることを特徴とする結晶試料保持装置を備えたX線結晶方位測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003297628A JP4226973B2 (ja) | 2003-08-21 | 2003-08-21 | 結晶試料保持装置を備えたx線結晶方位測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2005069769A JP2005069769A (ja) | 2005-03-17 |
JP4226973B2 true JP4226973B2 (ja) | 2009-02-18 |
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JP2003297628A Expired - Fee Related JP4226973B2 (ja) | 2003-08-21 | 2003-08-21 | 結晶試料保持装置を備えたx線結晶方位測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4226973B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5324735B2 (ja) * | 2006-04-20 | 2013-10-23 | 株式会社リガク | 結晶方位測定方法及びその装置 |
JP4833905B2 (ja) * | 2007-04-13 | 2011-12-07 | 新日本製鐵株式会社 | 結晶方位決定装置 |
JP4908303B2 (ja) * | 2007-04-26 | 2012-04-04 | 株式会社リガク | X線単結晶方位測定装置およびその測定方法 |
JP5276851B2 (ja) * | 2008-02-01 | 2013-08-28 | 東芝Itコントロールシステム株式会社 | 結晶方位測定装置、結晶加工装置及び結晶加工方法 |
JP5464665B2 (ja) * | 2010-09-29 | 2014-04-09 | 株式会社リガク | X線結晶方位測定装置及びx線結晶方位測定方法 |
JP5949704B2 (ja) * | 2013-08-21 | 2016-07-13 | パルステック工業株式会社 | 回折環形成方法 |
CN103592322B (zh) * | 2013-12-02 | 2015-08-19 | 长春理工大学 | 单晶晶面偏角及偏向测算方法 |
CN112033988B (zh) * | 2020-09-15 | 2022-04-12 | 北京师范大学 | 一种自适应束斑x射线衍射仪 |
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- 2003-08-21 JP JP2003297628A patent/JP4226973B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2005069769A (ja) | 2005-03-17 |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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A977 | Report on retrieval |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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SG99 | Written request for registration of restore |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316G99 |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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SG99 | Written request for registration of restore |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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S803 | Written request for registration of cancellation of provisional registration |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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S803 | Written request for registration of cancellation of provisional registration |
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