JP4563701B2 - X線結晶方位測定装置及びx線結晶方位測定方法 - Google Patents
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前記特性X線照射手段は、前記照射点に対して所定の回折条件を満足する入射角度になるように照射される特性X線とするため、前記被測定結晶の測定面に照射する前記特性X線の入射角度を連続的に変化する手段を備えてもよい。加えて、本発明では、前記検出手段はその一部が可動であり、もって、そのカメラ長が可変であることが好ましく、又は、前記X線照射手段と前記検出手段は、前記試料搭載手段上に搭載された被測定結晶の測定面に対する法線方向に移動可能であることが好ましい。
なお、本実施例になるX線結晶方位測定装置は、例えば、シングルドメインの結晶が得られ難く、そのため、サブグレイン構造の結晶(例えば、蛍石結晶)の方位分布を測定する装置である。
すなわち、この図1において、符号10は、装置の定盤を示しており、この定盤10の上には、その上に試料Sを搭載して互いに直交して移動可能なXテーブル21とYテーブル22とから構成される、所謂、XYステージ20が配置されている。また、上記定盤10の上には、その外形が略「門」状に形成された光学系固定壁30がその支柱31、32を固定し、もって、上記XYステージ20を跨ぐように配置されている。なお、この光学系固定壁30も、上記XYステージ20のXテーブル21やYテーブル22と同様に、例えば、パルスモータ等の駆動装置により、図中の矢印(上下:Z移動)方向に移動可能になっている。なお、図中の符号33は、上記光学系固定壁30のZ位置を校正するためのZ位置校正用ゲージを示している。また、図中の符号25は、上記XYステージ20のYテーブル22上に取り付けられた試料位置決め用のガイドを示しており、その詳細は、後に説明する。なお、これらの全体は、図示しない防X線カバーにより覆われている。
1.1 測定
本装置の測定原理は、測定に利用するX線として、特に、特性X線による回折を利用することであり、例えば、CCDをベースとした高感度二次検出器を採用し、そして、この高感度二次検出器で捕らえた回折スポットを検出し、その位置より格子面法線の方向を算出する(面方位が決定される)ことである。なお、高感度二次検出器により回折スポットを検出することにより、回折線の方向ベクトルを求める。なお、ここでは、取り扱う結晶としては、例えば、面方位がほぼ(111)に平行に加工された結晶であるが、その他、(100)、(110)の場合にθの設定角を変更することにより対応可能である。そして、本発明では、方位を測定する試料面に照射する上記特性X線を、そのブラッグ角θのまわりに所定の幅だけ振って、所定の格子面で、ブラッグ条件を満足させる。この時に得られる回折スポットは、特性X線なので強度は強い。そこで、高感度二次検出器により回折スポットを検出し、その中心位置を自動ピークサーチ(例えば、得られた画像の二値化処理)により算出することが出来る。
添付の図4を参照し、面方位は、格子面法線ベクトルVを単位ベクトルに変換した後、その成分であるVx,Vy,Vz及び図に示す方位角α,βにより表現される。ここで、角αは、試料面法線(z軸)と格子面法線とのなす角(ミスオリエンテーション)であり、以下の式で計算される。
上記の格子面法線ベクトルVは、次の手順で求められる。なお、ここでの計算は、単位ベクトルにより取り扱う。
まず、添付の図6において、入射X線ベクトルk0は、その入射角をωとすると、直交座標系(xyz)では以下のように示される。
2.1 試料の取り付け
まず、その表面における方位分布を測定する試料である結晶(被測定結晶)Sを、上記X線結晶方位測定装置のXYステージ20上に配置する。この試料結晶Sは、通常、例えば、上記の図4にも示したように、外形、略円筒又は円盤形状を有しており、そこで、添付の図8にも示すように、上記XYステージ20上にその原点に向かって直交するX軸及びY軸に沿って設けられた、所謂、突き当て基準ガイド25、25に対し、その側面を突き当てることによって位置決めを行なう。なお、その試料サイズは、上述した蛍石の場合、大きいものでは、400mmφ(厚さ100mm)程度のものが計測され、また、小さなものでは、所謂ウェハー状のものが考えられ、その最小値は10mmφ(厚さ0.5mm)程度である。なお、いずれにしても、上記した突き当て基準ガイド25、25を利用することにより、試料の大きさ(大小)にかかわらず、共通に、最適な位置決めを行なうことができる。
続いて、上記の試料サイズに応じて、上記XYステージ20を移動しながらマップ測定を行なうために、X軸及びY軸方向のストロークとX軸及びY軸方向のメッシュサイズを、被測定試料の径などを考慮しながら決定する。例えば、大きい試料では、その移動のストロークは410mm程度、また、その分解能は、例えば、0.02mm程度である。メッシュサイズは、数mm〜数十mmに設定される。なお、これらストロークやメッシュサイズの決定は、上記入力装置であるキーボード93等により必要なデータをコントロールPC90に入力することにより行なわれる。また、この時、結晶の径をも入力することが好ましく、加えて、上記試料の大きさ、特に、その厚さに応じて、上記光学系固定壁30上に固定配置された測定光学系の位置をも、Z軸方向に移動して調整する。
上記の測定の後、測定結果は、ディスプレイ装置92上に表示される。その際、得られた結晶方位の測定値は、上記CPU90により、例えば、数値テーブル、ヒストグラム表示、マップ図表示、分布図表示等の表現に編集して表示することが可能である。
30 光学系固定壁
34 ウォームホイール
35 回転板
36 ウォーム軸
37 駆動モータ
50 X線発生装置
51 コリメータ
60 高感度二次検出器
90 コントロールPC(CPU)
92 ディスプレイ装置
101 X線管
105 湾曲結晶モノクロメータ
106 幅制限スリット
Claims (6)
- XYステージ上に被測定結晶を搭載し、当該被測定結晶の測定面上方から被測定結晶の測定面の複数の部位にX線を照射し、当該X線の照射により結晶の格子面に対応して得られる回折スポットを二次元検出器で検出し、当該検出した回折スポットの中心位置の座標を測定してサブグレイン構造又はリネージ構造を持つ結晶の格子面法線を算出するX線結晶方位測定方法において、
各測定部位において、前記被測定結晶の測定面に照射するX線を特性X線とし、前記被測定結晶に対する当該特性X線の入射角度を、被測定結晶の既知のブラッグ角に応じて設定される入射角を中心として、その周囲に所定の範囲で連続的にスキャンし、もって、前記特性X線を前記被測定結晶の測定面の照射点に対して所定の回折条件を満足する入射角度になるように照射すると共に、前記結晶の格子面法線の算出を前記測定した回折スポットの中心位置の座標に基づいて行うことを特徴とするX線結晶方位測定方法。 - 前記請求項1に記載したX線結晶方位測定方法において、前記二次元検出器は、前記特性X線が入射角度を変える期間、前記X線の照射により結晶の格子面に対応して得られる回折スポットを蓄積または積分して検出することを特徴とするX線結晶方位測定方法。
- サブグレイン構造又はリネージ構造を持つ被測定結晶の測定面の複数の部位における結晶方位をX線を用いて測定するための装置であって:
被測定結晶を搭載して水平方向に移動可能な試料搭載手段と;
上記試料搭載手段上に搭載された被測定結晶の測定面に照射する特性X線を発生する手段と;
各測定部位において、前記被測定結晶に対する前記特性X線発生手段からの特性X線の入射角度を、被測定結晶の既知のブラッグ角に応じて設定される入射角を中心として、その周囲に所定の範囲で連続的にスキャンして、前記特性X線を前記被測定結晶の測定面に対して所定の回折条件を満足する入射角度になるように照射する手段と;
各測定部位において、上記X線照射手段から被測定結晶の測定面上に照射された、前記所定の回折条件を満足する入射角度になるように照射された前記特性X線による回折像のスポットを検出する二次元検出手段と;
各測定部位において、上記二次元検出手段により検出された回折像のスポットの中心位置の座標を測定し、当該測定した回折スポットの中心位置の座標に基づいて前記被測定結晶の測定面における結晶方位を算出する手段とを備えたことを特徴とするX線結晶方位測定装置。 - 前記請求項3に記載したX線結晶方位測定装置において、前記特性X線照射手段は、湾曲結晶モノクロメータを用いていることを特徴とするX線結晶方位測定装置。
- 前記請求項3に記載したX線結晶方位測定装置において、前記検出手段はその一部が可動であり、もって、そのカメラ長が可変となっていることを特徴とするX線結晶方位測定装置。
- 前記請求項3に記載したX線結晶方位測定装置において、前記X線照射手段と前記検出手段は、前記試料搭載手段上に搭載された被測定結晶の測定面に対する法線方向に移動可能であることを特徴とするX線結晶方位測定装置。
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