JP4833905B2 - 結晶方位決定装置 - Google Patents
結晶方位決定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4833905B2 JP4833905B2 JP2007106456A JP2007106456A JP4833905B2 JP 4833905 B2 JP4833905 B2 JP 4833905B2 JP 2007106456 A JP2007106456 A JP 2007106456A JP 2007106456 A JP2007106456 A JP 2007106456A JP 4833905 B2 JP4833905 B2 JP 4833905B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crystal orientation
- crystal
- pole
- ion microscope
- field ion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
(1) 測定試料中の結晶粒に対する電界イオン顕微鏡像の画像データを取り込む画像データ取込手段と、取り込んだ電界イオン顕微鏡像中の特定結晶方位極点に対して、対象結晶粒の理論結晶方位極点を一致するように回転操作する手段と、前記回転操作の結果に基づいて前記特定結晶方位極点の結晶方位極点(l,m,n)を決定する手段と、前記電界イオン顕微鏡像と決定した前記結晶方位極点(l,m,n)とを重ねて表示する手段と、を少なくとも有することを特徴とする、結晶方位決定装置。
(2) 前記結晶方位極点(l,m,n)を、少なくとも3点表示することを特徴とする、(1)に記載の結晶方位決定装置。
(3) 測定試料の電界蒸発前後それぞれの電界イオン顕微鏡像の画像データを取り込む画像データ取込手段と、取り込んだぞれぞれの前記電界イオン顕微鏡像について、電界イオン顕微鏡像中の特定結晶方位極点に対して対象結晶粒の理論結晶方位極点を一致するようにそれぞれ回転操作する手段と、前記回転操作の結果に基づいて、それぞれの前記特定結晶方位極点の結晶方位極点(l,m,n)を決定する手段と、電界蒸発前後の前記結晶方位極点(l,m,n)から結晶粒間の結晶回転角度を決定する手段と、を少なくとも有することを特徴とする、結晶方位決定装置。
(4) 粒界を含む測定試料表面の電界イオン顕微鏡像の画像データを取り込む画像データ取込手段と、取り込んだ電界イオン顕微鏡像中の粒界を判別する手段と、粒界で区別されるそれぞれの結晶粒の電界イオン顕微鏡像について、電界イオン顕微鏡像中の特定結晶方位極点に対して対象結晶粒の理論結晶方位極点を一致するようにそれぞれ回転操作する手段と、前記回転操作の結果に基づいて、それぞれの前記特定結晶方位極点の結晶方位極点(l,m,n)を決定する手段と、それぞれの前記結晶方位極点(l,m,n)に基づいて、粒界を挟んだ結晶粒間の結晶回転角度を決定する手段と、を少なくとも有することを特徴とする、結晶方位決定装置。
(5)コンピュータに、測定試料中の結晶粒に対する電界イオン顕微鏡像の画像データを取り込む画像データ取込機能と、取り込んだ電界イオン顕微鏡像中の特定結晶方位極点に対して、対象結晶粒の理論結晶方位極点を一致するように回転操作する機能と、前記回転操作の結果に基づいて前記特定結晶方位極点の結晶方位極点(l,m,n)を決定する機能と、前記電界イオン顕微鏡像と決定した前記結晶方位極点(l,m,n)とを重ねて表示する機能と、を実現させるためのプログラム。
P’l,m,n = ρ×Pl.m.n
と表すことができる。回転行列ρは、X軸周りの回転φ、Y軸周りの回転θ、Z軸周りの回転ψの適当な組合せであるオイラー角によって表すことができる。例えば、その組合せのうち、よく用いられる、X軸周りにφ°、Y軸周りにθ°、Z軸周りにψ°の順に回転させるタイプのオイラー角で表した回転行列ρは、φ、θ、ψを用いて、以下のようになる。
θ=cos−1{(λ−1)/2}
で求めることができる。ただし、結晶の対称性から等価な結晶方位極があるので、等価な全ての回転行列間の回転角の内、最小の角度が求めるべき粒界角となる。
入力装置としてキーボードとマウスを、出力装置としてディスプレイを持つパーソナルコンピュータを用いて、結晶回転を定める三つのパラメータ(オイラー角)及び倍率と歪パラメータを出力画面上のスライドバーで入力し、それらの入力パラメータにより定まる特定方位の極点の内の極点をFIM像と共に表示させる様にプログラムした。
粒界を内在する別のbcc−Feの試料2を実施例1と同様にして、菊池パターンの解析により、二つの単結晶間の回転角度θを決定した。次に、3D−AP装置にて粒界が測定表面に現れるまで原子を電界蒸発させた後、FIM像を得た。図6のように、このFIM像を用いて、粒界を挟む二つの結晶粒について、実施例1と同様に結晶方位を決定し、二つの回転から粒界の回転角を自動的に算出させた。表1に示すように、菊池パターン解析との粒界角の測定値の差異は0.9°であった。また、FIM像を表示させて、回転角を得る作業時間は約8分であった。
再現性と作業の容易性を示すために、実施例1、2で得られたFIM像4枚について、FIM像を見た経験のない作業者Aが、結晶方位決定できるかどうかを調査した。発明者らは、作業者Aに、極の見え方と本発明装置の操作の仕方を、1枚のFIM像を実例にして、約15分で教えた。その後、作業者Aは、残りの3枚のFIM像について、本発明装置を用いて、結晶方位決定作業を行った結果、実施例1で得た結晶回転角との差異は最大1.5°であった。また、FIM像一枚の解析時間は最大9分であった。このように、未習熟者であっても、容易に結晶方位決定が可能である。
Claims (5)
- 測定試料中の結晶粒に対する電界イオン顕微鏡像の画像データを取り込む画像データ取込手段と、
取り込んだ電界イオン顕微鏡像中の特定結晶方位極点に対して、対象結晶粒の理論結晶方位極点を一致するように回転操作する手段と、
前記回転操作の結果に基づいて前記特定結晶方位極点の結晶方位極点(l,m,n)を決定する手段と、
前記電界イオン顕微鏡像と決定した前記結晶方位極点(l,m,n)とを重ねて表示する手段と、
を少なくとも有することを特徴とする、結晶方位決定装置。 - 前記結晶方位極点(l,m,n)を、少なくとも3点表示することを特徴とする、請求項1に記載の結晶方位決定装置。
- 測定試料の電界蒸発前後それぞれの電界イオン顕微鏡像の画像データを取り込む画像データ取込手段と、
取り込んだぞれぞれの前記電界イオン顕微鏡像について、電界イオン顕微鏡像中の特定結晶方位極点に対して対象結晶粒の理論結晶方位極点を一致するようにそれぞれ回転操作する手段と、
前記回転操作の結果に基づいて、それぞれの前記特定結晶方位極点の結晶方位極点(l,m,n)を決定する手段と、
電界蒸発前後の前記結晶方位極点(l,m,n)から結晶粒間の結晶回転角度を決定する手段と、
を少なくとも有することを特徴とする、結晶方位決定装置。 - 粒界を含む測定試料表面の電界イオン顕微鏡像の画像データを取り込む画像データ取込手段と、
取り込んだ電界イオン顕微鏡像中の粒界を判別する手段と、
粒界で区別されるそれぞれの結晶粒の電界イオン顕微鏡像について、電界イオン顕微鏡像中の特定結晶方位極点に対して対象結晶粒の理論結晶方位極点を一致するようにそれぞれ回転操作する手段と、
前記回転操作の結果に基づいて、それぞれの前記特定結晶方位極点の結晶方位極点(l,m,n)を決定する手段と、
それぞれの前記結晶方位極点(l,m,n)に基づいて、粒界を挟んだ結晶粒間の結晶回転角度を決定する手段と、
を少なくとも有することを特徴とする、結晶方位決定装置。 - コンピュータに、
測定試料中の結晶粒に対する電界イオン顕微鏡像の画像データを取り込む画像データ取込機能と、
取り込んだ電界イオン顕微鏡像中の特定結晶方位極点に対して、対象結晶粒の理論結晶方位極点を一致するように回転操作する機能と、
前記回転操作の結果に基づいて前記特定結晶方位極点の結晶方位極点(l,m,n)を決定する機能と、
前記電界イオン顕微鏡像と決定した前記結晶方位極点(l,m,n)とを重ねて表示する機能と、
を実現させるためのプログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007106456A JP4833905B2 (ja) | 2007-04-13 | 2007-04-13 | 結晶方位決定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007106456A JP4833905B2 (ja) | 2007-04-13 | 2007-04-13 | 結晶方位決定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008261815A JP2008261815A (ja) | 2008-10-30 |
JP4833905B2 true JP4833905B2 (ja) | 2011-12-07 |
Family
ID=39984388
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007106456A Expired - Fee Related JP4833905B2 (ja) | 2007-04-13 | 2007-04-13 | 結晶方位決定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4833905B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5410786B2 (ja) | 2009-02-27 | 2014-02-05 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 集束イオンビーム装置 |
CN114112892A (zh) * | 2021-11-05 | 2022-03-01 | 南通爱尔思轻合金精密成型有限公司 | 一种模拟晶界迁移的实验方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5873849A (ja) * | 1981-10-28 | 1983-05-04 | Hitachi Ltd | 結晶方位測定装置 |
JPH0675044B2 (ja) * | 1985-04-03 | 1994-09-21 | 川崎製鉄株式会社 | X線コツセル回折像自動解析装置 |
JP2583806B2 (ja) * | 1990-05-16 | 1997-02-19 | 新日本製鐵株式会社 | 電子回折パターンの解析方法及び装置 |
JP4227706B2 (ja) * | 1999-06-28 | 2009-02-18 | 東芝Itコントロールシステム株式会社 | 結晶方位測定装置および結晶方位測定方法 |
JP4619490B2 (ja) * | 2000-06-19 | 2011-01-26 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の検査方法 |
JP2003130820A (ja) * | 2001-10-25 | 2003-05-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 結晶構造の評価方法及びコンピュータプログラム |
JP4226973B2 (ja) * | 2003-08-21 | 2009-02-18 | 株式会社リガク | 結晶試料保持装置を備えたx線結晶方位測定装置 |
JP4938981B2 (ja) * | 2005-01-13 | 2012-05-23 | キヤノン株式会社 | 結晶方位測定方法 |
JP4874157B2 (ja) * | 2007-04-13 | 2012-02-15 | 新日本製鐵株式会社 | アトムプローブ装置 |
-
2007
- 2007-04-13 JP JP2007106456A patent/JP4833905B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008261815A (ja) | 2008-10-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7612337B2 (en) | Focused ion beam system and a method of sample preparation and observation | |
JP6458920B1 (ja) | 傾斜角度量算出装置、試料台、荷電粒子線装置およびプログラム | |
JP7264539B2 (ja) | 電子顕微鏡下で研究される試料へのドリフト補正の自動化されたアプリケーション | |
EP2818852B1 (en) | Methods and devices for high throughput crystal structure analysis by electron diffraction | |
US9202671B2 (en) | Charged particle beam apparatus and sample processing method using charged particle beam apparatus | |
JP5308903B2 (ja) | 結晶方位同定システム及び透過電子顕微鏡 | |
US11004651B2 (en) | Tomography-assisted TEM prep with requested intervention automation workflow | |
JP5309552B2 (ja) | 電子線トモグラフィ法及び電子線トモグラフィ装置 | |
CN111279183B (zh) | 晶体取向图生成装置、带电粒子射线装置、晶体取向图生成方法以及程序 | |
TW201241425A (en) | Apparatus and methods for real-time three-dimensional SEM imaging and viewing of semiconductor wafers | |
US9514913B2 (en) | TEM sample mounting geometry | |
JP6314890B2 (ja) | 結晶方位の解析方法および解析装置 | |
JP4833905B2 (ja) | 結晶方位決定装置 | |
JP6360620B2 (ja) | 荷電粒子線装置、荷電粒子線装置のアライメント方法、アライメントプログラム、及び記憶媒体 | |
JPWO2016157403A6 (ja) | 荷電粒子線装置、荷電粒子線装置のアライメント方法、アライメントプログラム、及び記憶媒体 | |
JP4874157B2 (ja) | アトムプローブ装置 | |
JP2006112921A (ja) | 反射電子線検出装置 | |
US20230377836A1 (en) | Analysis System | |
US20220285125A1 (en) | Sample Milling Apparatus and Method of Adjustment Therefor | |
JP7391810B2 (ja) | 荷電粒子線装置及びそれを用いる試料観察方法 | |
JP2020145107A (ja) | 入射方向決定装置、荷電粒子線装置、入射方向決定方法およびプログラム | |
JP2014022174A (ja) | 試料台およびそれを備えた電子顕微鏡 | |
EP3125270A1 (en) | Tem sample mounting geometry | |
JP2017188302A (ja) | 分析装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090916 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110817 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110830 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110922 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4833905 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |