JP2006112921A - 反射電子線検出装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】操作部14を使ったオペレータの操作により、解析情報の取得領域が電子線照射軸に対して垂直とされたとき、システム制御部15の制御に基づいて、前記電子線像における前記取得領域の縦方向に画素の輝度を積算し、解析情報として試料の磁区パターン情報を得、システム制御部15に送る。システム制御部15は、前記磁区パターン情報に応じた画像を表示部13に表示する。
【選択図】図1
Description
Claims (4)
- 試料に電子線を照射する電子線照射手段と、
前記電子線照射手段から照射された電子線を試料上で2次元的に走査する手段と、
前記電子線照射手段から照射された電子線が前記試料に入射する角度を調節可能にするために前記試料を傾斜して保持する保持手段と、
前記保持手段によって保持された試料から反射された電子の強度コントラストを表す電子線像を撮影する撮像手段と、
前記撮像手段によって撮影された電子線像に各種解析処理を施す解析処理手段と、
前記解析処理手段によって各種解析処理が施された解析データを画像化して表示する表示手段と、
前記表示手段に表示された電子線像上で試料の解析情報の取得領域を指定するために使われる操作手段と、
前記操作手段を使った操作によって前記電子線像上に指定された解析情報の取得領域について、前記解析処理手段に前記取得領域中の各画素の輝度を積算させ、積算された輝度を前記試料上の電子線照射位置に対応して画像化する制御手段と
を備えることを特徴とする反射電子線検出装置。 - 前記操作手段は、前記取得領域として前記表示手段において磁区の分布のコントラストが最も良く得られる部分を任意に設定でき、前記制御手段は、前記解析情報として試料の磁区コントラスト情報から得られる磁区分布を画像化することを特徴とする請求項1記載の反射電子線検出装置。
- 前記操作手段は前記取得領域を前記電子線像の特定回折線に沿って設け、前記制御手段は前記解析情報として同一の結晶方位を持つ粒界の結晶方位を画像化することを特徴とする請求項1記載の反射電子線検出装置。
- 前記撮像手段は、半導体2次元撮像素子または蛍光体に投影された電子線像を半導体2次元撮像素子で電気信号として取得することを特徴とする請求項3又は4記載の反射電子線検出装置。
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