JP4226884B2 - 金属製触媒担体 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、内燃機関等の排気系に装着する金属製触媒担体に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の、金属製触媒担体として、金属製薄板の波板と平板を交互に重ねて多重に巻回して波板と平板との間に排気ガスが通過するセル通路が形成され、前記波板と平板のうち少なくとも波板には金属製薄板を波形加工する前に所定間隔のもとに複数のスリット孔が形成され、このスリット孔は、複数のスリット孔から構成される孔列をセル通路方向に複数列備え、かつ、互いに隣接する孔列間で各孔列を構成するそれぞれのスリット孔はセル通路方向と直交する方向において互いに重ならないか、または、所定の間隔を有するように配置することにより、金属製薄板を波形加工する際に歪みや亀裂が生じることを防止するようにした構造のものがある(例えば、特許文献1参照。)。
【0003】
【特許文献1】
特開2002−143693号公報 (第2頁、図4−6)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来例におけるように、互いに隣接する各孔列間における両スリット孔の開口縁部相互間のうち、セル通路方向と直交する方向において互いに重ならない(隙間0以上)か、または、所定の間隔(隙間)を有するように配置するという条件設定のみでは、金属製薄板を波形加工する際の歪みや亀裂の発生を防止するための条件としては不十分であることが、実験の結果判明した。
【0005】
即ち、以上のように、互いに隣接する各孔列間における両スリット孔の開口縁部相互間のうち、セル通路方向と直交する方向の間隔として隙間0〜所定の間隔(隙間)を有するように配置したとしても、セル通路方向の間隔(隙間)が所定の値未満であると、歪みや亀裂を発生する確率が高くなる。特に、セル通路方向と直交する方向の隙間が0の場合はセル通路方向の間隔設定は重要な条件となる。
【0006】
本発明の解決しようとする課題は、金属製薄板を波形加工する際の歪みや亀裂の発生を防止し、これにより、生産性を高めることができる金属製触媒担体を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため請求項1記載の発明は、大波板の板厚は20〜50μmの金属製薄板の大波板と小波板または平板を交互に重ねて多重に巻回して大波板と小波板または平板との間に排気ガスが通過するセル通路が形成された金属製触媒担体において、前記大波板と小波板または平板のうち少なくとも大波板には金属製薄板をロールギヤにより波形加工する前に所定間隔のもとに複数のスリット孔が形成され、該スリット孔は、前記セル通路方向と直交する方向に沿って配設された複数のスリット孔から構成される孔列を前記セル通路方向に複数列備えられ、互いに隣接する孔列間における両スリット孔の開口縁部相互間で前記セル通路方向の隙間Yと、セル通路方向と直交する方向の隙間Xとスリット孔のセル通路方向と直交する方向の長さLが、以下の条件のもとに設定されていることを特徴とする手段とした。
X≧0mm かつ X≧−(5/2)Y+10mm
L≦15 mm
【0010】
請求項2記載の金属製触媒単体は、請求項1に記載の金属製触媒単体において、前記互いに隣接する孔列間における両スリット孔の開口縁部相互間で前記セル通路方向の隙間Yと、各孔列におけるスリット孔の送り間隔Pが、以下の条件のもとに設定されていることを特徴とする手段とした。
Y≧−(1/2)P+14.5mm
【0011】
【作用および効果】
請求項1記載の発明では、上述のように、互いに隣接する孔列間における両スリット孔の開口縁部相互間で前記セル通路方向の隙間Yと、セル通路方向と直交する方向の隙間Xを、以下の条件のもとに設定することにより、金属製薄板を波形加工する際の歪みや亀裂の発生を防止することができることが実験結果により判明した。
X≧0mm かつ X≧−(5/2)Y+10mm
即ち、セル通路方向と直行する方向の隙間Xが最低条件である0の場合、セル通路方向の隙間Yを4mm以上に設定すれば、金属製薄板を波形加工する際の歪みや亀裂の発生を防止することができる。
そして、セル通路方向の隙間Yを長く設定すればする程、間隔Yの5/2の割合でセル通路と直行する方向の隙間Xを狭く設定することができ、隙間Yが4mmの場合、隙間Xを0に設置することができる。
【0012】
また、前記大波板の板厚として大波板の材料として一般的に用いられている金属製薄板の板厚である20〜50μmの範囲のものを用いて行った実験結果においても、隙間X、Yを前記請求項1記載の条件のもとに設定することにより、金属製薄板を波形加工する際の歪みや亀裂の発生を防止できることを確認することができた。
【0013】
また、前記各スリット孔のセル通路方向と直交する方向の長さLを変えて行った実験では、長さLが15mmを越えると、金属製薄板を波形加工する際の歪みや亀裂の発生が見られたが、15mm以下では歪みや亀裂の発生は見られなかった。
【0014】
請求項2記載の金属製触媒単体は、請求項1に記載の条件のもとに設定された金属製触媒単体において、前記互いに隣接する孔列間における両スリット孔の開口縁部相互間で前記セル通路方向の隙間Yと、各孔列におけるスリット孔の送り間隔Pを、以下の条件のもとに設定することにより、金属製薄板を波形加工する際の歪みや亀裂の発生を防止できることが実験により確認された。
Y≧−(1/2)P+14.5mm
即ち、送り間隔Pを29mm以上に設定すると、間隔Yを0に設定しても金属製薄板を波形加工する際の歪みや亀裂の発生を防止することができ、送り間隔Pが29mmより短くなる程、短くなった寸法の1/2の割合で間隔Yを広げる必要がある。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下にこの発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
なお、この発明の実施の形態は、請求項1、2に記載の発明に対応するものである。
まず、この発明の実施の形態の金属製触媒担体を図面に基づいて説明する。 図1はこの発明の実施の形態の金属製触媒担体を示す一部切欠斜視図、図2は波板と平板を重ねて巻回する途中の状態を示す斜視図であり、両図において、1はコア、2は外筒、3はロー箔材を示す。
【0016】
前記外筒2は、1〜2mmの板厚のSUS430のフェライト系ステンレス板材等で円筒形状に形成され、この円筒の内径として、これに圧入される前記コア1の外形より小径に形成されている。
【0017】
前記ロー箔材3は、前記コア1を前記外筒に圧入する前に、コア1の外周面に巻回しておくもので、この発明の実施の形態では、このロー箔材3が、コア1における排ガス流出側(図面右側)端部寄りの中途部に部分的に巻回されている。
【0018】
前記コア1は、30μmの金属製薄板の波板(大波板)11と平板(小波板または平板)12を交互に重ね、平板12を外側にして多重に巻回したハニカム状に形成されたもので、このハニカム通路(セル通路)表面には、アルミナ等からなる触媒担持体層が形成され、この触媒担体層に触媒金属が担持されることにより、排ガス浄化触媒とされ、内燃機関の排気経路に配置されることにより、排気ガス中のHC、CO、NOx等を浄化させる働きをする。
【0019】
前記波板11には波状に成形する前に予め所定間隔のもとに所定長さにて複数のスリット孔11aが形成される一方、前記平板12にも所定間隔のもとに複数のスリット孔12aが形成されている。
即ち、金属製触媒単体において、排気ガス浄化性能を向上させるためには、コア1内を通過する排気ガスに対し乱流を積極的に起こさせて、排気ガスが触媒に接触する機会をできるだけ増やすことが有効であり、このため、波板1および平板12にセル通路に対し直行する方向に長い多数のスリット孔11a、12aを開けて波板1と平板12で仕切られたセル通路相互間の流通を可能とし、コア1内における排気ガスの流れを幅方向により多く乱流化させることにより、排気ガス浄化性能を向上させるようになっている。
【0020】
次に、波板11の材料として一般的な板厚30μmの金属製薄板を用い、この薄板にスリット孔11aを形成した状態で、これを600セル用ロールギヤを用いた波出し機にて波出し加工する際に、歪みや亀裂の発生を防止可能なスリット孔11aの寸法および配置パターンを検証するために、以下のような実験を行った。
【0021】
即ち、図3は、セル通路方向と直交する方向に沿って配設された複数のスリット孔11aから構成される孔列をセル通路方向に複数列配設した配列パターンを示すもので、互いに隣接する孔列間における両スリット孔11aの開口縁部相互間でセル通路方向の隙間Yと、セル通路方向と直交する方向の隙間Xと、スリット孔11aのセル通路方向と直交する方向の長さLと、各孔列におけるスリット孔11aの送り間隔Pをそれぞれ変更した種々の配置パターンに設定しものを準備し、これを波出し加工して波板11の歪みや亀裂の発生状況をチェックした。
【0022】
図4〜6は以上の実験結果を示すデータであり、図4は隙間Xと隙間Yとの関係、図5は隙間Xとスリット孔11aの長さLとの関係、図6は隙間Yと送り間隔Pとの関係をそれぞれ示している。なお、これらのデータにおいて、歪みや亀裂の発生がない範囲をOK、歪みや亀裂が発生した範囲をNGで表示している。
【0023】
まず、図4のデータに示すように、前記セル通路方向の隙間Yと、セル通路方向と直交する方向の隙間Xを、以下の条件のもとに設定することにより、金属製薄板を波形加工する際の歪みや亀裂の発生を防止することができることが実験結果により判明した。
X≧0mm かつ X≧−(5/2)Y+10mm
即ち、セル通路方向と直交する方向の隙間Xが最低条件である0の場合、セル通路方向の隙間Yを4mm以上に設定すれば、金属製薄板を波形加工する際の歪みや亀裂の発生を防止することができる。
そして、セル通路方向の隙間Yを長く設定すればする程、間隔Yの5/2の割合でセル通路と直行する方向の隙間Xを狭く設定することができ、隙間Yが4mmの場合、隙間Xを0に設置することができる。
【0024】
次に、図5のデータに示すように、各スリット孔11aのセル通路方向と直交する方向の長さLを変えて行った実験では、長さLが15mmを越えると、金属製薄板を波形加工する際の歪みや亀裂の発生が見られたが、15mm以下では歪みや亀裂の発生は見られなかった。
【0025】
次に、図6のデータに示すように、セル通路方向の隙間Yと、各孔列におけるスリット孔11aの送り間隔Pを、以下の条件のもとに設定することにより、金属製薄板を波形加工する際の歪みや亀裂の発生を防止できることが実験により確認された。
Y≧−(1/2)P+14.5mm
即ち、送り間隔Pを29mm以上に設定すると、間隔Yを0に設定しても金属製薄板を波形加工する際の歪みや亀裂の発生を防止することができ、送り間隔Pが29mmより短くなる程、短くなった寸法の1/2の割合で間隔Yを広げる必要がある。
【0026】
従って、この発明の実施の形態の金属製触媒担体では、間隔X、Y、長さL、送り間隔Pを、図4〜6のデータのOKの範囲になるように設定することにより、金属製薄板を波形加工する際の歪みや亀裂の発生を防止することができ、これにより生産性を高めることができるようになるという効果が得られる。
【0027】
以上本発明の実施の形態を説明してきたが、本発明は上述の発明の実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等があっても、本発明に含まれる。
例えば、発明の実施の形態では、波板11の材料として板厚30μmの金属製薄板を用いた実験を行ったが、板厚20μm〜50μmの金属製薄板を用いた実験においてもほぼ同様の結果が得られた。
【0028】
また、発明の実施の形態では、スリット孔として、長孔形状のものを例ににとって説明したが、その他の形状、例えば、丸孔スリットであっても同様の効果獲られる。
また、発明の実施の形態では、平板12を用いた例を示したが、小さな波形状の小波板を用いても、同様の効果が獲られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】発明の実施の形態の金属製触媒担体を示す一部切欠斜視図である。
【図2】発明の実施の形態の金属製触媒担体における波板と平板を重ねて巻回する途中の状態を示す斜視図である。
【図3】発明の実施の形態の金属製触媒担体におけるすセル通路方向と直交する方向に沿って配設された複数のスリット孔から構成される孔列をセル通路方向に複数列配設した配列パターンを示す平面図である。
【図4】スリット孔の配列パターンにおける隙間Xと隙間Yとの関係を示す実験結果データである。
【図5】スリット孔の配列パターンにおける隙間Xとスリット孔の長さLとの関係を示す実験結果データである。
【図6】スリット孔の配列パターンにおける隙間Yと送り間隔Pとの関係を示す実験結果データである。
【符号の説明】
1 コア
11 波板(大波板)
11a スリット孔
12 平板(小波板または平板)
12a スリット孔
2 外筒
3 ロー箔材
X セル通路方向と直交する方向の隙間
Y セル通路方向の隙間
L スリット孔のセル通路方向と直交する方向の長さ
P 孔列におけるスリット孔の送り間隔

Claims (2)

  1. 大波板の板厚は20〜50μmの金属製薄板の大波板と小波板または平板を交互に重ねて多重に巻回して大波板と小波板または平板との間に排気ガスが通過するセル通路が形成された金属製触媒担体において、
    前記大波板と小波板または平板のうち少なくとも大波板には金属製薄板をロールギヤにより波形加工する前に所定間隔のもとに複数のスリット孔が形成され、
    該スリット孔は、前記セル通路方向と直交する方向に沿って配設された複数のスリット孔から構成される孔列を前記セル通路方向に複数列備えられ、
    互いに隣接する孔列間における両スリット孔の開口縁部相互間で前記セル通路方向の隙間Yと、セル通路方向と直交する方向の隙間Xとスリット孔のセル通路方向と直交する方向の長さLが、以下の条件のもとに設定されていることを特徴とする金属製触媒担体。
    X≧0mm かつ X≧−(5/2)Y+10mm
    L≦15 mm
  2. 前記互いに隣接する孔列間における両スリット孔の開口縁部相互間で前記セル通路方向の隙間Yと、各孔列におけるスリット孔の送り間隔Pが、以下の条件のもとに設定されていることを特徴とする請求項1に記載の金属製触媒担体。
    Y≧−(1/2)P+14.5 mm
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