JP4200147B2 - 微細構造体、カンチレバー、走査型プローブ顕微鏡及び微細構造体の変形量測定方法 - Google Patents
微細構造体、カンチレバー、走査型プローブ顕微鏡及び微細構造体の変形量測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4200147B2 JP4200147B2 JP2005169089A JP2005169089A JP4200147B2 JP 4200147 B2 JP4200147 B2 JP 4200147B2 JP 2005169089 A JP2005169089 A JP 2005169089A JP 2005169089 A JP2005169089 A JP 2005169089A JP 4200147 B2 JP4200147 B2 JP 4200147B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sensor
- cantilever
- insulating layer
- fine structure
- microstructure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000523 sample Substances 0.000 title claims description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 26
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 claims description 22
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 11
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 29
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 10
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 4
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004630 atomic force microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01P—MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
- G01P15/00—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
- G01P15/02—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
- G01P15/08—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
- G01P15/0894—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values by non-contact electron transfer, i.e. electron tunneling
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y35/00—Methods or apparatus for measurement or analysis of nanostructures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q20/00—Monitoring the movement or position of the probe
- G01Q20/04—Self-detecting probes, i.e. wherein the probe itself generates a signal representative of its position, e.g. piezoelectric gauge
Description
(1)ピエゾ抵抗素子は、抵抗変化量が極めて小さいので、ホイートストンブリッジ回路等が必要であり、検出回路の構成が複雑である。
(2)ピエゾ抵抗素子は、感圧に寄与する面積が大きいので、微細箇所の局所的な変位を検知できない。
図1は、本発明の実施の形態1に係るカンチレバー1及び検出回路2の構成を示す概略斜視図、図2は、図1に示すカンチレバー1を構成するセンサ12の外観構成を示す斜視図である。この例のカンチレバー1は、SPMの一種であるMFMやAFM、あるいはSNOMを構成するものであり、機構部11と、センサ12とから概略構成されている。機構部11は、柱部13と、梁部14と、探針15とから構成されている。柱部13は、少なくとも表面が導体からなり、略直方体状を呈している。梁部14は、少なくとも表面が導体からなり、略直方体状を呈している。梁部14は、一端部14aが柱部13の一側面13aの上端部13aaの略中央に接続されているとともに、他端部14bが略水平に柱部13の垂直軸と直交する方向に延びている。柱部13と梁部14とは一体に形成されており、いわゆる片持ち梁状を呈している。梁部14の他端部14bの下面には、探針15が保持されている。探針15は、略四角錐状を呈しており、先端が下方に向いている。柱部13のサイズは、例えば、横約100μm、縦約100μm、高さ約150μmであり、梁部14のサイズは、例えば、横約200μm、縦約50μm、厚さ約1μmである。
(a)センサ12に加速度、圧力、荷重、変位等の物理量が印加されると、その物理量がトンネル障壁(バリア)を構成する絶縁層12aに伝達され、絶縁層12aが歪む。絶縁層12aの歪みとして最も顕著なものは、絶縁層12aの厚さである。
(b)絶縁層12aの厚さが変化すると、トンネルバリアをトンネルする電子のトンネル遷移確率が変化し、絶縁層12aの抵抗値が対数関数的に変化する。
上述した実施の形態1では、本発明を走査型プローブ顕微鏡のカンチレバーに適用する例を示したが、本発明はこれに限定するものではない。例えば、本発明は、マイクロマシン等の微細構造体であって、加速度、圧力、荷重、変位等の物理量を受けてその少なくとも一部が弾性変形する微細構造体にも適用することができる。即ち、このような微細構造体では、弾性変形する一部又は全部の複数部位の変形量を測定することが要求される場合があるが、この実施の形態2においては、以下に示す方法により、この要求に応える。
図4は、本発明の実施の形態3に係るカンチレバー31及び検出回路32の構成を示す概略斜視図、図5は、図4に示すカンチレバー31の部分拡大斜視図である。図4及び図5において、図1の各部に対応する部分には同一の符号を付け、その説明を省略する。図4及び図5に示すカンチレバー31においては、図1に示すセンサ12に換えて、センサ12x及び12yが新たに形成されている。
例えば、上述の実施の形態1及び3では、カンチレバー1又は31を固定し、表面形状を観察すべき試料を面方向(XY方向)に二次元走査する例を示したが、これに限定されず、上記資料を固定し、カンチレバー1又は31を面方向(XY方向)に二次元走査しても良い。
また、上述の実施の形態2では、センサ12を、微細構造体21の正面(図3参照)だけに設ける例を示したが、これに限定されない。例えば、センサ12を、微細構造体21の上面又は下面にも設けるようにしても良い。このように構成すれば、微細構造体21のねじれ量等の分布を測定することができる。
また、上述の各実施の形態は、その目的及び構成等に特に矛盾や問題がない限り、互いの技術を流用することができる。
2,32 検出回路
2a,2b,2c 入出力端子
3〜5 リード線
11 機構部
12,12x,12y センサ
12a,12xa,12ya 絶縁層
12b,12xb,12yb 上部電極
13 柱部
13a,14c 一側面
13aa 上端部
14 梁部
14a 一端部
14b 他端部
14d 上面
15 探針
21 微細構造体
22,23 支持部材
Claims (5)
- 少なくとも一部が弾性変形を生じる微細構造体であって、
前記弾性変形をトンネル効果により検出する複数のセンサが互いの長軸が直交するように設けられており、
前記複数のセンサはそれぞれ、
単一のトンネル障壁を形成し、金属酸化膜からなる絶縁層と、
導電性を有し、前記絶縁層の上面に形成される上部電極と、
導電性を有し、前記絶縁層の下面に形成される下部電極とを有し、前記センサは前記微細構造体における前記弾性変形する部分の少なくとも一部をその構成要素として形成されており、
前記微細構造体の弾性変形を電気抵抗変化として検出することを特徴とする微細構造体。 - 前記センサは、抵抗値と面積との積である面積抵抗率が100kΩ・μm2以下であることを特徴とする請求項1記載の微細構造体。
- 先端を試料表面に接近させた状態で前記試料と相対的に二次元走査させ、前記試料表面と前記先端に働く物理量をたわみ量として検出する走査型プローブ顕微鏡のカンチレバーであって、
請求項1又は2に記載の微細構造体により構成したことを特徴とするカンチレバー。 - 請求項3記載のカンチレバーを有することを特徴とする走査型プローブ顕微鏡。
- 微細構造体において弾性変形を生ずる部分に前記弾性変形をトンネル効果により検出するセンサを互いの長軸が直交するように複数個設け、
前記センサは、
単一のトンネル障壁を形成し、金属酸化膜からなる絶縁層と、
導電性を有し、前記絶縁層の上面に形成される上部電極と、
導電性を有し、前記絶縁層の下面に形成される下部電極とを有すると共に、前記微細構造体における前記弾性変形する部分の少なくとも一部を前記センサの構成要素とし、
前記複数個のセンサにより前記微細構造体の各部における前記弾性変形を電気抵抗変化としてそれぞれ検出することを特徴とする微細構造体の変形量測定方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005169089A JP4200147B2 (ja) | 2005-06-09 | 2005-06-09 | 微細構造体、カンチレバー、走査型プローブ顕微鏡及び微細構造体の変形量測定方法 |
EP06011705A EP1731895A3 (en) | 2005-06-09 | 2006-06-07 | Micro structure, cantilever, scanning probe microscope and a method for measuring deformation quantity for the micro structure |
US11/422,725 US7520165B2 (en) | 2005-06-09 | 2006-06-07 | Micro structure, cantilever, scanning probe microscope and a method of measuring deformation quantity for the fine structure |
CNB2006100915699A CN100478666C (zh) | 2005-06-09 | 2006-06-09 | 微结构及测量其形变量的方法、扫描探针显微镜及其悬臂 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005169089A JP4200147B2 (ja) | 2005-06-09 | 2005-06-09 | 微細構造体、カンチレバー、走査型プローブ顕微鏡及び微細構造体の変形量測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006343213A JP2006343213A (ja) | 2006-12-21 |
JP4200147B2 true JP4200147B2 (ja) | 2008-12-24 |
Family
ID=37023115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005169089A Expired - Fee Related JP4200147B2 (ja) | 2005-06-09 | 2005-06-09 | 微細構造体、カンチレバー、走査型プローブ顕微鏡及び微細構造体の変形量測定方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7520165B2 (ja) |
EP (1) | EP1731895A3 (ja) |
JP (1) | JP4200147B2 (ja) |
CN (1) | CN100478666C (ja) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006004922B4 (de) * | 2006-02-01 | 2008-04-30 | Nanoscale Systems Nanoss Gmbh | Miniaturisiertes Federelement und Verfahren zu dessen Herstellung, Balkensonde, Rasterkraftmikroskop sowie Verfahren zu dessen Betrieb |
US7989229B2 (en) * | 2007-09-10 | 2011-08-02 | International Business Machines Corporation | Tactile surface inspection during device fabrication or assembly |
US9289137B2 (en) * | 2007-09-28 | 2016-03-22 | Volcano Corporation | Intravascular pressure devices incorporating sensors manufactured using deep reactive ion etching |
CN105259031A (zh) * | 2008-05-16 | 2016-01-20 | 德瑞索大学 | 评估组织的系统和方法 |
JP5164743B2 (ja) | 2008-08-27 | 2013-03-21 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | カンチレバー、カンチレバーシステム及びプローブ顕微鏡並びに吸着質量センサ |
CN101726673B (zh) * | 2008-10-16 | 2012-12-05 | 旺矽科技股份有限公司 | 点测装置 |
CN101769711B (zh) * | 2010-01-26 | 2012-09-05 | 重庆理工大学 | 一种基于隧道效应的接触式纳米位移传感器 |
DE102010052037B4 (de) * | 2010-11-23 | 2013-04-18 | Franz Josef Giessibl | Sensor und Verfahren zum berührungslosen Abtasten einer Oberfläche |
CN102520213B (zh) * | 2011-12-14 | 2013-09-25 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 界面势垒测量装置及测量界面势垒的方法 |
CN104422383A (zh) * | 2013-08-21 | 2015-03-18 | 昆山中慈工控科技开发有限公司 | 基准杆式单悬臂梁安全形变检测装置 |
CN105067696A (zh) * | 2015-08-24 | 2015-11-18 | 扬州大学 | 一种隧道结悬臂梁含量测试仪 |
CN105091737B (zh) * | 2015-08-24 | 2018-09-14 | 扬州大学 | 一种悬臂梁偏转位移测量装置 |
JP2019100874A (ja) * | 2017-12-04 | 2019-06-24 | 株式会社ミツトヨ | 形状測定装置 |
CN109187640B (zh) * | 2018-08-07 | 2020-10-23 | 哈尔滨工业大学 | 接触或非接触复合原理纳米传感方法与装置 |
CN109186435B (zh) * | 2018-08-07 | 2020-10-27 | 哈尔滨工业大学 | 接触/非接触复合原理纳米传感方法与装置 |
CN109211079B (zh) * | 2018-08-07 | 2020-10-23 | 哈尔滨工业大学 | 量子隧穿和球面散射场复合原理传感方法与装置 |
CN109186434B (zh) * | 2018-08-07 | 2022-11-15 | 哈尔滨工业大学 | 基于三维量子隧穿的非接触亚纳米传感方法与装置 |
CN111024988B (zh) * | 2019-12-12 | 2021-07-13 | 江苏集萃微纳自动化系统与装备技术研究所有限公司 | 应用于afm-sem混合显微镜系统的prc及其制造方法 |
CN111473895B (zh) * | 2020-03-16 | 2021-06-29 | 吉林大学 | 一种触觉传感器 |
DE102020107918B4 (de) * | 2020-03-23 | 2021-11-18 | Digital Diagnostics AG | Detektion von viren |
CN111716763B (zh) * | 2020-07-03 | 2022-02-11 | 威海宝威新材料科技有限公司 | 一种碳纤维预浸布生产过程中的气泡检测排气系统 |
CN111855043B (zh) * | 2020-07-31 | 2022-03-22 | 长飞光纤光缆股份有限公司 | 一种光纤光栅土压力传感器 |
CN114526666A (zh) * | 2022-02-17 | 2022-05-24 | 古东鸣 | 一种轴承加工用粗糙度检测装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3095551A (en) * | 1961-07-17 | 1963-06-25 | Goodman Mfg Co | Load cell |
US3383907A (en) * | 1962-10-04 | 1968-05-21 | Bell Telephone Labor Inc | Tunnel diode stress sensing devices |
JPH05164514A (ja) * | 1991-12-19 | 1993-06-29 | Advantest Corp | トンネル顕微鏡及び原子間力顕微鏡両用探針 |
FR2696215B1 (fr) * | 1992-09-25 | 1994-12-02 | Serge Bras | Elément d'assemblage et procédé et machine d'assemblage. |
JPH0792464B2 (ja) | 1993-05-12 | 1995-10-09 | 工業技術院長 | 原子間力顕微鏡における超音波振動検出方法及び原子間力顕微鏡における試料観察方法 |
JP3099599B2 (ja) * | 1993-09-06 | 2000-10-16 | 株式会社ニコン | 薄膜型変位センサーを設けたカンチレバーおよびこれを用いた変位検出方法 |
US5679888A (en) | 1994-10-05 | 1997-10-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Dynamic quantity sensor and method for producing the same, distortion resistance element and method for producing the same, and angular velocity sensor |
DE69721765T2 (de) * | 1996-06-20 | 2004-02-26 | New York University | Bestimmung von ligand-wechselwirkung mit einem polymermaterial |
US6448553B1 (en) | 1999-04-26 | 2002-09-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Signal detector to be used with scanning probe and atomic force microscope |
JP3639743B2 (ja) | 1999-04-26 | 2005-04-20 | キヤノン株式会社 | 走査型プローブによる信号検出装置、および原子間力顕微鏡 |
US7181261B2 (en) * | 2000-05-15 | 2007-02-20 | Silver James H | Implantable, retrievable, thrombus minimizing sensors |
JP2003194698A (ja) * | 2001-12-25 | 2003-07-09 | Mitsubishi Electric Corp | 走査型プローブ顕微鏡およびその使用方法 |
DE10214946B4 (de) * | 2002-04-04 | 2006-01-19 | "Stiftung Caesar" (Center Of Advanced European Studies And Research) | TMR-Sensor |
JP4150013B2 (ja) | 2005-03-31 | 2008-09-17 | Tdk株式会社 | トンネル効果素子 |
GB2426341A (en) | 2005-05-19 | 2006-11-22 | Univ Basel | Measuring nano-scale mechanical displacements by the compression or expansion of a compliant insulator |
-
2005
- 2005-06-09 JP JP2005169089A patent/JP4200147B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-06-07 US US11/422,725 patent/US7520165B2/en active Active
- 2006-06-07 EP EP06011705A patent/EP1731895A3/en not_active Withdrawn
- 2006-06-09 CN CNB2006100915699A patent/CN100478666C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1877277A (zh) | 2006-12-13 |
US7520165B2 (en) | 2009-04-21 |
EP1731895A2 (en) | 2006-12-13 |
US20060277981A1 (en) | 2006-12-14 |
EP1731895A3 (en) | 2007-04-25 |
CN100478666C (zh) | 2009-04-15 |
JP2006343213A (ja) | 2006-12-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4200147B2 (ja) | 微細構造体、カンチレバー、走査型プローブ顕微鏡及び微細構造体の変形量測定方法 | |
JP2574942B2 (ja) | 電気的探針 | |
US6664540B2 (en) | Microprobe and sample surface measuring apparatus | |
JP2000501842A (ja) | 多次元容量変換器 | |
JP2001522045A (ja) | 静電気力顕微鏡用のカンチレバーを備えた静電気力検出器 | |
KR100978699B1 (ko) | 전기적 피드백 검출 시스템 및 멀티 포인트 테스팅 장치 | |
JP2002529743A (ja) | カンチレバーおよびシールドを備えた静電気力検出器 | |
JPH10312592A (ja) | 情報処理装置および情報処理方法 | |
US6552556B1 (en) | Prober for electrical measurement of potentials in the interior of ultra-fine semiconductor devices, and method of measuring electrical characteristics with said prober | |
JP5164743B2 (ja) | カンチレバー、カンチレバーシステム及びプローブ顕微鏡並びに吸着質量センサ | |
JP2001124798A (ja) | 微小接触式プローバー | |
JPH11183487A (ja) | 半導体歪センサ及びその製造方法ならびに走査プローブ顕微鏡 | |
JP2002156409A (ja) | 集積回路における電気信号の検出のための測定ゾンデ及びこの測定ゾンデの使用法及びこの測定ゾンデの製造方法及びこの測定ゾンデによる測定システム | |
JPH0854403A (ja) | 複合顕微鏡の導電性カンチレバ−構造 | |
JP4185089B2 (ja) | 自己検知型spmプローブ | |
JP5523497B2 (ja) | 片持梁を備えたマイクロマシン構成部材及び一体化された電気的な機能エレメント | |
JPH06258072A (ja) | 圧電体薄膜評価装置、原子間力顕微鏡 | |
JP4621908B2 (ja) | 表面状態計測方法、表面状態計測装置、顕微鏡、情報処理装置 | |
JP4497665B2 (ja) | プローブの走査制御装置、該走査制御装置による走査型プローブ顕微鏡、及びプローブの走査制御方法、該走査制御方法による測定方法 | |
KR100424540B1 (ko) | 다중 액츄에이터를 갖는 afm용 캔틸레버 구조물, 이를포함하는 afm 시스템 및 상기 afm을 이용한 물질의특성 측정 방법 | |
JP5852445B2 (ja) | 高速走査プローブ顕微鏡 | |
JP3114902B2 (ja) | 走査型トンネル顕微鏡を用いた高分解能・高精度測定装置 | |
JPH07134133A (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
JP2000338025A (ja) | 複数のプローブを備えた情報検出装置および複数のプローブによる情報検出方法 | |
CN113916121A (zh) | 金属微细线直径检测方法与装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070817 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070904 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071102 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080430 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080630 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080916 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081006 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111010 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4200147 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121010 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121010 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131010 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |