JP4181944B2 - 電子写真感光体基体を製造するための液体ホーニング処理装置、電子写真感光体の製造方法、及び電子写真感光体 - Google Patents
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また、このようにして切削加工された切削管や引抜き管に、レーザー光が基体に反射して起こる干渉縞を防止するため、何らかの手段による粗面化が必要である。この粗面の粗さは、形状にもよるが一般的に、JIS B 0601:2001における十点平均粗さ(Rzjis)でおよそ0.6μm以上必要であり、粗面化した基体表面における隣接する打痕間の平均距離については、JIS B 0601:2001における平均長さ(RSm)で30μm程度が必要である。しかし、切削加工では、切削の粗さが規則的であるため干渉縞は消えても切削のスジとレーザー光との干渉によるモアレ現象が起きてしまう。他に粗面化の方法としてはホーニング処理があり、乾式及び湿式での処理方法があるがいずれを用いてもよい。湿式(液体)ホーニング処理は、水等の液体に粉末状の粒状研磨材(砥粒)を懸濁させ、高速度で導電性支持体表面に吹き付けて粗面化する方法であり、表面粗さは吹き付け圧力、速度、粒状研磨材の量、濃度、種類、形状、大きさ、硬度、比重及び懸濁温度等により制御することができる。同様に、乾式ホーニング処理は、粒状研磨材をエアーにより、高速度で導電性支持体表面に吹き付けて粗面化する方法であり、湿式ホーニング処理と同じように表面粗さを制御することができる。これら湿式または乾式ホーニング処理に用いる粒状研磨材としては、炭化ケイ素、アルミナ、ジルコニア、ステンレス、鉄、ガラスビーズ、プラスチックショット等の粒子があげられる。
一方、粗面化を施す工程においては、研磨液槽からの研磨液を基体表面に吹き付けることによって粗面化する粗面化処理工程と、処理された基体表面に残留する粒状研磨材を、水流等を用いて除去する洗浄工程が不可欠である。このとき、液体ホーニング処理が連続的に繰り返されると、研磨液槽に蓄えられていた研磨液は、粒状研磨材が粗面化処理後に基体表面に残留した後に次工程で洗浄除去されることから、その濃度が次第に減少してゆき、先に述べた干渉縞等の問題を生じさせる可能性が高くなってしまう。
少なくとも粒状研磨材と溶媒を含む研磨液を貯留および回収する研磨液槽、
該研磨液槽から研磨液を供給および還流せしめる研磨液循環手段、
該研磨液を吐出し、該電子写真用円筒状基体の表面を粗面化する粗面化手段、ならびに、
該電子写真用円筒状基体の表面の粗面化の後に該電子写真用円筒状基体の表面に残留する粒状研磨材を、該溶媒と同じ液体を含む洗浄液を用いて洗浄し、洗浄廃液を該研磨液槽に流入せしめる洗浄手段
を少なくとも具備し、
該研磨液槽が、下記のA作用部およびB作用部を一体的に有することを特徴とする液体ホーニング処理装置である:
A作用部:該研磨液槽の下部に位置し、還流してきた研磨液が流入され、該研磨液に含まれる粒状研磨材を旋回流を用いて分級し、該粒状研磨材の粒度分布における微粒域の粒状研磨材を含む研磨液をB作用部に供給する、そして、該B作用部より還流した粒状研磨材を研磨液に混合し、その研磨液を再び該粗面化手段に供給する作用部、
B作用部:該A作用部の上部に位置し、該A作用部にて分級された該微粒域の粒状研磨材を含む研磨液が流入され、該研磨液から粒状研磨材を沈降させることによって分離された溶媒を外部に排出させ、かつ、沈降した粒状研磨材を該A作用部に戻す作用部。
すなわち、本発明は、図1にて示すとおり、電子写真用円筒状基体14の表面を粗面化処理する装置であって、少なくとも粒状研磨材と溶媒を含む研磨液を貯留及び回収する研磨液槽2を有し、該研磨液槽2から研磨液を供給、還流せしめる研磨液循環手段である循環ポンプ3とこれに接続される配管4〜7、及びホーニングノズル1を用いて該粒状研磨材を吐出し基体14の表面を粗面化する手段を有し、当該粗面化後に前記基体14の表面に残留する粒状研磨材を前記溶媒と同じ液体を不図示の供給部より導入して洗浄し、これによって生じる洗浄廃液を前記研磨液槽2に流入せしめる洗浄手段8を少なくとも具備し、前記該研磨液槽2が以下に記載するA作用部12とB作用部13を一体的に有する事を特徴とし、更には一連の粗面化、洗浄工程を繰り返し行う装置内の理論研磨液濃度が一定に保たれている事を特徴とする、電子写真用円筒状基体の液体ホーニング処理装置を提供する。
さらに、本発明は、電子写真用円筒状基体を有する電子写真感光体の製造方法において、上記の液体ホーニング処理装置を用いて該電子写真用円筒状基体の表面を粗面化処理する工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法である。
さらにA作用部12では、B作用部13より仕切り部9の底を伝って粒状研磨材が流入し、混合された後に研磨液槽還流配管7より排出され、循環ポンプ3及びホーニング送液配管4から再びホーニングノズル1に研磨液を供給する。
A作用部における旋回流は、専用のポンプその他の装置を設けて生じさせる事もできるが、粗面化手段又は研磨液層へ研磨液の供給を行う前記の循環ポンプ3を利用して、前記の如くA作用部12へ継入された直後に曲げて開放することによって旋回流を得る事ができ、そうする事によって設備コスト、スペース、メンテナンス負荷等を下げる事ができる。
更には、前記排出配管11より排出される溶媒は前記洗浄手段8にて基体を洗浄する溶媒に限りなく近いものである事から、洗浄溶媒としてその一部又は全てを再利用する事が可能で、そうすることによって、一連の液体ホーニング処理装置に対する洗浄溶媒の新たな供給と、分級、沈降後の排溶媒の排出を減少又は無くすことができる。
詳しく本液体ホーニング処理方法について述べれば、粒状研磨材を溶媒に懸濁させて、被加工物にホーニングノズル1の先からエア圧で投射させて表面を粗らす方法で、溶媒としては一般的に水を用い、粒状研磨材としてはアルミナ、ジルコニア、SUSビーズ等を用いる。また粒状研磨材の粒径は、5μmから数100μm程度であり、これらの種類、粒径等は粗面化の目的に応じて使い分けられるべきである。粒状研磨材を懸濁させた研磨液は、循環ポンプ3で循環させる。ホーニングノズル1の噴射口形状が円形の場合、その口径は5mmから20mm程度であることが好ましい。
粗洗浄は粗面化処理後に基体表面に残留する多量の粒状研磨材を除去するもので、洗浄手段8にて図示しない本装置外部より研磨液に使用する溶媒と同じ液体を導入し、これを粗面化処理終了後の基体14にかけ流すことによって行われ、この粗洗浄に使用された液体はそのまま本装置内を循環する研磨液に加えられる。その後循環ポンプ3と研磨液槽2を用いて前記の如く粒状研磨材を分級、沈降させることによって、増加した溶媒は分離排出され、研磨液の粒状研磨材濃度が一定に保たれる。
また、精密洗浄工程内においても基体を乾かす事無く保つことはきわめて重要であり、そのためには、各工程間のスペースに簡易なシャワーを設ける等の対策が効果的である。
感光層には、電荷発生層と電荷輸送層からなる積層構造型のもの、あるいは1層の中に電荷発生物質および電荷輸送物質を含む単層型のものがある。
特に、デジタル用電子写真感光体の場合、これらの電荷発生材料の中で、赤外レーザー、可視光レーザーへの対応において、波長への感光依存性の広さから、フタロシアニン系が優れており、さらに、フタロシアニン系の中でもオキシチタニルフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンがその感度の高さからさらに優れていると言える。
感光層の結着樹脂としては、例えばポリビニールアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリ酢酸ビニル、ポリメタクリル酸エステル、アクリル樹脂、セルロース系樹脂等が好ましく用いられる。
これらの樹脂中には、クリーニング性、耐摩耗性などの改善のために、ポリ四フッ化エチレン、ポリフッ化ビリニデン、フッ素系グラフトポリマー、シリコン系グラフトポリマー、シリコン系オイルなどの潤滑剤や、保護層の抵抗制御の意味で酸化スズ粉体や導電性酸化チタンなどを分散させることも可能である。
保護層の膜厚は、0.05μmから15μm、特には1μmから10μmが好ましい。
下引き層は感光層の接着性改良、基体の保護、基体からの電荷注入性改良、感光体の電気的破壊に対する保護等のために形成することができる。下引き層の材料としては、ポリビニルアルコール、ポリ−N−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン・アクリル酸コポリマー、カゼイン、ポリアミド、共重合ナイロン、ニカワ、ゼラチンなどが使用される。
また、無機高分子化合物を用いたゾルゲル法による下引き層も用いても良い。これらは、ジルコニウムとシラン化合物の混合物、シラン化合物およびジルコニウム化合物にセルロース樹脂を添加したもの、ブチラール樹脂をジルコニウムおよびシランの無機成分に添加した塗工液などがある。
また、下引き層の替わりに表面を、クロム酸を用いるクロメート化成処理、またはチタニウム塩やジルコニウム塩を用いるノンクロメート化成処理を行い下引き層の代わりとしても良い。
本発明の感光体用基体上に感光層を設ける場合に、その膜厚は単一層構造の場合、5μmから100μmが好ましく、特には10μmから60μmが好ましい。感光層が積層構造の場合、電荷発生層の厚さは0.001μmから5μm、特には0.05μmから2μmが好ましく、電荷輸送層の厚さは1μmから40μm、特には、10μmから30μmが好ましい。
本発明に依る電子写真感光体は電子写真複写機・レ−ザ−ビ−ムプリンタ−・等のほかCRTプリンタ−・LEDプリンタ−・液晶プリンタ−・ファクシミリ・レ−ザ−製版等の電子写真応用技術に広く用いることができる。
次に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
得られたアルミニウム管に対して、図1に示す装置を用いて、下記条件にて液体ホーニング処理を行った。
・粒状研磨材砥粒=球状アルミナビーズ平均粒径30μm
商品名:CB−A30S、昭和電工株式会社製
・懸濁媒体=水
・粒状研磨材:懸濁溶媒=1:9(メスシリンダーによる嵩高比)
・ホーニングノズルからの研磨液吐出量=7.0L/min
・エア吹き付け圧力=0.20MPa
・研磨液投射回数.=1回(片道)
・粗洗浄液=外部系統より導入する水
・粗洗浄吐出量=2L/min
粗洗浄液吐出は4回/min、1回あたり5秒吐出
ゆえに、連続換算吐出量=0.67L/min
・粗洗浄液供給経路の最も狭い部位の断面積=φ8.4mm
・ホーニング処理速度=4本/min
・循環ポンプ流量=21L/min
・槽内総容量=73L
・A作用部容量:B作用部容量=2:3
・A作用部の形状:直径400mmの単純円筒
(水平断面積=125,600mm2)
A作用部の底部の形状=平面
・仕切り部9の形状=中央にφ5mmの開口部を有する平板
また、本液体ホーニング処理において、処理後の円筒状基体に何らかの問題がないかを確認するため、最初と最後に処理した各1本の基体に対して引き続き精密洗浄を施し、さらにこれを用いて電子写真感光体を作成した。
精密洗浄では、液体ホーニング処理を施した直後にアルミニウムシリンダーをいったん純水を張った浸漬槽に浸漬し、引き上げ、シリンダーが乾燥する前に純水シャワー洗浄を施した。その後前記の如く基体の内側にノズル等を挿入し、そのノズルから85℃に加熱した水を吐出して基体の内表面のみに触れさせる事によって基体温度を上昇させて外表面を乾燥させた。その後、自然乾燥にて基体内表面を乾燥させた。
次に、CuKαのX線回折スペクトルにおける回折角2θ±0.2°が9.0°、14.2°、23.9°、27.1°に強いピークを有するチタニルフタロシアニン顔料4重量部、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:BX−1、積水化学工業製)2重量部、シクロヘキサノン60重量部からなる溶液を1mmφのガラスビーズを用いたサンドミルで4時間分散した後、エチルアセテート100重量部を加えて電荷発生層用の分散液を調合した。
この分散液を中間層上に浸漬塗布し、95℃で10分間加熱乾燥することにより、電荷発生層を形成した。電荷発生層の膜厚は0.3μmであった。
開口部9−aの形状=直径φ8.4mmの円
開口部9−aの形状=直径φ100mmの円
開口部9−aの形状=直径φ178.8mmの円
仕切り部の形状=水平に対して10°の下向き傾斜角を有するすり鉢形状で、最深部にφ100mmの開口部を有する
A作用部底部の形状=中央に向かって水平に対して10°の傾斜角を有して円錐状に盛り上がる形状を有する
評価では、先ず連続ホーニング処理による粒状研磨液濃度の変化について実施例1から7及び比較例1を比較し、その濃度変化量が、どのようであるかに着目して行った。このとき、粒状研磨液濃度は、メスシリンダーによる嵩高比によって、すなわち、研磨液を入れたメスシリンダーを静置して沈降した粒状研磨材の嵩高の研磨液に対する割合によって表した。
続いて実施例1から7と比較例1にてそれぞれ得られた電子写真感光体によるハーフトーン画像を比較した。
評価の結果、表1に示すとおり、本発明を用いて処理を続けた研磨液は粒状研磨材濃度の変化が非常に少なく、満足な品質の処理面を得られる濃度範囲である10.0%から9.0%を外れる事は無かった。また表2に示すとおり処理後の基体を用いて作成した最初及び1000本目の電子写真感光体によって出力されたハーフトーン画像には共に、干渉縞によるムラが確認されなかった。なお、実施例1から4において、処理本数200本以降の研磨液の粒状研磨材濃度がそれぞれ低下しているのは、研磨液槽2中のB作用部13の底部、即ち仕切り部9、及びA作用部底面のそれぞれに粒状研磨材が堆積したことによる事が実施後の目視により確認された。また、実施例5において、処理本数200本以降の研磨液の粒状研磨材濃度が低下しているのは、研磨液槽2中のA作用部底面に粒状研磨材が堆積したことによる事が実施後の目視により確認された。
なお、本比較例は研磨液の粒状研磨材濃度のみに着目した処理行為であり、図2に示すオーバーフロー口16より排出された研磨液を何らかの方法で沈降させて粒状研磨材のみを再び装置内に投入する事によって液体ホーニング処理を続行する事は周知の如く可能である。
2 研磨液槽
3 循環ポンプ
4 ホーニング送液配管
5 ホーニング還流配管
6 研磨液槽供給配管
7 研磨液槽還流配管
8 洗浄手段
9 仕切り部
9−a 開口部
10 A作用部底部
11 排出配管
12 A作用部
13 B作用部
14 円筒状基体
15 攪拌流ノズル
16 オーバーフロー口
Claims (7)
- 電子写真用円筒状基体の表面を粗面化処理する液体ホーニング処理装置であって、
少なくとも粒状研磨材と溶媒を含む研磨液を貯留および回収する研磨液槽、
該研磨液槽から研磨液を供給および還流せしめる研磨液循環手段、
該研磨液を吐出し、該電子写真用円筒状基体の表面を粗面化する粗面化手段、ならびに、
該電子写真用円筒状基体の表面の粗面化の後に該電子写真用円筒状基体の表面に残留する粒状研磨材を、該溶媒と同じ液体を含む洗浄液を用いて洗浄し、洗浄廃液を該研磨液槽に流入せしめる洗浄手段
を少なくとも具備し、
該研磨液槽が、下記のA作用部およびB作用部を一体的に有することを特徴とする液体ホーニング処理装置:
A作用部:該研磨液槽の下部に位置し、還流してきた研磨液が流入され、該研磨液に含まれる粒状研磨材を旋回流を用いて分級し、該粒状研磨材の粒度分布における微粒域の粒状研磨材を含む研磨液をB作用部に供給する、そして、該B作用部より還流した粒状研磨材を研磨液に混合し、その研磨液を再び該粗面化手段に供給する作用部、
B作用部:該A作用部の上部に位置し、該A作用部にて分級された該微粒域の粒状研磨材を含む研磨液が流入され、該研磨液から粒状研磨材を沈降させることによって分離された溶媒を外部に排出させ、かつ、沈降した粒状研磨材を該A作用部に戻す作用部。 - 前記A作用部と前記B作用部との仕切り部が開口部を有し、かつ、該開口部の面積が前記洗浄手段の洗浄液供給経路において最も狭い部位の断面積以上であって前記A作用部の最大断面積の80%未満である請求項1に記載の液体ホーニング処理装置。
- 前記A作用部と前記B作用部との仕切り部の形状が、水平に対して下向きに10°以上90°未満の傾斜角度を有するすり鉢形状である請求項1または2に記載の電子写真用円筒状基体の液体ホーニング処理装置。
- 前記A作用部の底部の中心部が、該中心部の周辺部より浅い請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液体ホーニング処理装置。
- 前記粗面化手段への前記循環ポンプの吐出系統を分岐して供給される液流によって前記旋回流を生じさせる請求項1乃至4のいずれか1項に記載の液体ホーニング処理装置。
- 前記洗浄液が、前記B作用部にて分離された溶媒を含む請求項1乃至5のいずれか1項に記載の液体ホーニング処理装置。
- 電子写真用円筒状基体を有する電子写真感光体の製造方法において、
請求項1乃至6のいずれか1項に記載の液体ホーニング処理装置を用いて該電子写真用円筒状基体の表面を粗面化処理する工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
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